專利名稱：一種剝釉古代琉璃構(gòu)件施釉復(fù)燒技術(shù)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種剝釉古琉璃構(gòu)件的施釉復(fù)燒方法，具體涉及一種可用于剝釉古琉 璃構(gòu)件施釉復(fù)燒、仿古琉璃構(gòu)件、建筑琉璃及低溫釉陶等釉底料結(jié)合熔塊釉的制備方法。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的琉璃釉為高鉛含量的生鉛釉，釉中鉛丹含量高達60 70%之多。鉛釉熱 膨脹系數(shù)較大、難以與坯體形成很好的匹配關(guān)系，釉層表面布滿了貫穿整個釉層的裂紋，致 使坯體吸收環(huán)境中的水份，造成釉層的剝落。同時鉛釉的物理性能較差、釉面硬度較小不耐 磨；化學性能較差，易在使用中發(fā)生光澤變差、顏色改變等現(xiàn)象。根據(jù)“最小干預(yù)”的文物 保護原則，在古建維修中，將剝釉嚴重的古代琉璃構(gòu)件進行施釉重燒保護處理。在施釉重燒 的過程中，為了改善坯體顯氣孔率等物理性能，通常的做法是對古代剝釉琉璃構(gòu)件進行高 溫復(fù)燒，但在高溫復(fù)燒時，胎體所具有的原始歷史信息將不可避免地受到損失(苗建民、王 時偉《紫禁城清代剝釉琉璃瓦件施釉重燒的研究》故宮學刊，2004，(1) :472 488;苗建民 等《清代剝釉琉璃瓦件施釉重燒的再研究》故宮博物院院刊，2008年(6) :106 124)。同 時，在施釉重燒過程中，經(jīng)過打磨的胎面出現(xiàn)大量的小孔洞，影響復(fù)燒后琉璃構(gòu)件的釉面質(zhì) 量。若以陶泥修補胎面，在短時期內(nèi)會產(chǎn)生較好的釉面外觀，但這種做法會因陶土與胎體結(jié) 合性差在使用中更易產(chǎn)生剝釉缺陷。為了解決生鉛的毒性問題，人們開始了無鉛琉璃釉或低鉛熔塊琉璃釉的探索。但 現(xiàn)有技術(shù)存在的缺點是(1)為了提高胎體的物理性能，復(fù)燒溫度通常要高于胎體的始燒 溫度，其復(fù)燒結(jié)果將會造成胎體原有歷史信息的改變；(2)高堿金屬含量原料制備的低溫 釉，熱膨脹系數(shù)較大，不適合用于膨脹系數(shù)較低的古琉璃構(gòu)件胎體的復(fù)燒；(3)不合氧化鉛 的熔塊釉，不僅燒成溫度較高，而且光澤度較低，難以復(fù)仿古代高鉛琉璃釉的光澤與質(zhì)感。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，提供了一種釉底料與熔塊面釉相結(jié) 合的剝釉古代琉璃構(gòu)件施釉復(fù)燒技術(shù)。該方法的特點是采用了既不同于化妝土(含較高熔 劑成分，遠低于胎體燒結(jié)溫度)，也不同于底釉(含較高胎質(zhì)粘土成分)的釉底料技術(shù)，該釉 底料既有較好的遮蓋能力，也可以達到與坯體相似的外觀質(zhì)感效果；其燒結(jié)性能，熱膨脹性 能均介于胎和釉之間，在琉璃制品高膨脹的低溫釉與低膨脹的難燒結(jié)胎體之間的各種性能 方面，起一個緩沖過渡層的作用。另外，該釉底料的使用，可提高胎面致密度、平整度，且含 有高于胎體的玻璃相，使釉的成熟溫度因此而降低，燒成溫度范圍擴大。這一特點為使用無 鉛釉或低鉛熔塊釉在剝釉古代琉璃構(gòu)件施釉重燒中的應(yīng)用，創(chuàng)造了條件。該釉底料具有的 化妝土作用，在仿古琉璃構(gòu)件生產(chǎn)中，可使含鐵量較高的劣質(zhì)原料得以應(yīng)用，降低了生產(chǎn)成 本，有利于對有限自然資源的合理開發(fā)與使用。為達到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是1)首先制備一種琉璃釉用熔塊。采用少量生鉛與多種堿金屬和堿土金屬氧化物或其可溶性鹽類物質(zhì)配料制備成低溫釉用熔塊，此熔快既可用于配制釉底料，也可以配制成 仿古琉璃釉。2)采用以胎料與釉用熔塊相結(jié)合的方法制備釉底料生成釉與胎之間的過渡層，既 能產(chǎn)生較好的結(jié)合性，也能緩沖胎釉之間的熱膨脹系數(shù)、熱應(yīng)力匹配等問題，同時獲得遮蓋 胎面缺陷、降低釉的燒成溫度，擴大釉的成熟溫度范圍之目的，獲得與生鉛琉璃釉相近的色 彩、光澤等質(zhì)感效果。該釉底料既可用于熔塊釉也可用于生鉛釉琉璃的生產(chǎn)，因其具有阻水性，故能夠 阻擋釉面裂紋造成的滲水現(xiàn)象。下面結(jié)合實施實例對本發(fā)明作進一步詳細說明。實施例11)首先按化學組成質(zhì)量百分比將將Si02 45. 0%, A1203 10.0%, Ti02 1. 2%, CaO :1. 5%, MgO :1. 0%, K20 2. 9%, Na20 4. 0%, PbO 12. 2%, BaO 8. 3%, ZnO 3. 9%, Li20 2. 0%和B203 :8. 0%進行混合研磨，后將混合料于高溫爐中在1250°C熔化后水淬，再 將水淬后的塊料細磨至250目制備成釉用熔塊備用；2)按照質(zhì)量百分比將90%熔塊，5%的蘇州土，5%的著色氧化物與占原料量60% 的水、0. 2%的Na5P3010和0. 5%的0PTAPIX KG6混合研磨至全部料漿過250目制成釉漿備 用；3)按照質(zhì)量百分比將30.0%的坯料，70.0%的釉用熔塊，外加占原料量60%的 水、0. 2 %的Na5P3010和0. 5 %的0PTAPIX KG6混合研磨至全部通過200目制成釉底料料 漿，備用；4)將打磨平整的古瓦胎吹灰、擦水后施敷釉底料，施敷厚度0. 2mm左右，在1100°C 燒成后，再施以2)制備的熔塊釉在1000°C或生鉛釉在950°C燒成即可。實施例21)按照化學組成百分比將 Si02 43. 6%,A1203 9. 6%,Ti02 1. 3%,CaO 1. 3%, MgO :1. 1%,K20 2. 5%,Na20 :3. 8%, PbO :13. 8%, BaO :8. 2%, ZnO :3. 5%,Li20 8%禾口 B203 9. 5%進行混合研磨，后將混合料于高溫爐中在1250°C熔化后水淬，再將水淬后的塊 料細磨至250目制備成釉用熔塊備用；2)按照質(zhì)量百分比將91 %熔塊，4%的蘇州土，5%的著色氧化物與占原料量60% 的水、0. 2%的Na5P3010和0. 5%的0PTAPIX KG6混合研磨至全部通過250目制成釉漿備 用；3)按照質(zhì)量百分比將20.0%的坯料，2. 5%的長石，2. 5%的石英，75.0%的釉用 熔塊，外加占原料量60%的水、0. 2%的Na5P3010和0. 5%的0PTAPIX KG6混合研磨至全部 通過200目制成釉底料料漿，備用；4)將打磨平整的古瓦胎吹灰、擦水后施敷釉底料，施敷厚度0.25mm左右，在 1080°C燒成后，施以2)制備的熔塊釉在980°C或生鉛釉930°C燒成即可。實施例31)按照化學組成百分比將 Si02 42. 0%,A1203 8. 6%,Ti02 1. 5%,CaO 1. 0%, MgO 0. 8%,K20 2. 3%,Na20 :3. 5%, PbO :16. 5%, BaO :7. 5%, ZnO :3. 5%,Li20 8%禾口 B203 :11. 0%進行混合研磨，后將混合料于高溫爐中在1250°C熔化后水淬，再將水淬后的塊料細磨至250目制備成釉用熔塊備用2)按照質(zhì)量百分比將92%熔塊，3%的蘇州土，5%的著色氧化物與占原料量60% 的水、0. 2%的Na5P3010和0. 6%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部通過250目制成釉漿備 用；3)按照質(zhì)量百分比將15%的坯料，2. 5%的長石，2. 5%的石英，80.0%的釉用熔 塊，外加占原料量60%的水、0. 2%的Na5P3010和0. 5%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部通 過200目制成釉底料料漿，備用；4)將打磨平整的古瓦胎吹灰、擦水后施敷釉底料，施敷厚度0. 3mm左右，在1060°C 燒成后，施以熔塊釉在960°C或生鉛釉900°C燒成即可。實施例41)按照化學組成百分比將 Si02 41. 8%,A1203 7. 8%,Ti02 1. 5%,Ca0 0. 8%, MgO 0. 6%,K20 2. 0%,Na20 :3. 0%,Pb0 :18. 5%,Ba0 :6. 0%,Zn0 :4. 5%,Li20 5%禾口 B203 :12. 0%進行混合研磨，后將混合料于高溫爐中在1250°C熔化后水淬，再將水淬后的 塊料細磨至250目制備成釉用熔塊備用；2)按照質(zhì)量百分比將93%熔塊，2%的蘇州土，5%的著色氧化物與占原料量60% 的水、0. 2%的Na5P3010和0. 6%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部通過250目制成釉漿備 用；3)按照質(zhì)量百分比將7.0的坯料，5.0%的長石，5.0%的石英，2.0%的ZrSi04， 3. 0% Sn02, 78. 0 %的釉用熔塊，外加占原料量60 %的水、0. 2 %的Na5P3010和0. 5 %的 OPTAPIX KG6混合研磨至全部通過200目制成釉底料料漿，備用；4)將打磨平整的古瓦胎吹灰、擦水后施敷釉底料，施敷厚度0. 3mm左右，在1050°C 燒成后，施以熔塊釉在930°C或生鉛釉在860°C )燒成即可。實施例51)按照化學組成百分比將 Si02 41. 5、A1203 7. 5、Ti02 1. 5、Ca0 0. 5,MgO 0. 5、 K20 :1. 5、Na20 2. 5、Pb0 19. 0、Ba0 5. 0、Zn0 5. 0、Li20 1. 0 和 B203 14. 5 進行混合研磨，
后將混合料于高溫爐中在1250°C熔化后水淬，再將水淬后的塊料細磨至250目制備成釉用 熔塊備用；2)按照質(zhì)量百分比將95%熔塊，5%的著色氧化物與占原料量60%的水、0.2%的 Na5P3010和0. 8%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部通過250目制成釉漿備用；3)按照質(zhì)量百分比將10%的長石，10%的石英，5.0%的&Si04，2.0% Sn02, 73. 0 %的釉用熔塊，外加占原料量60 %的水、0. 2 %的Na5P3010和0. 5 %的OPTAPIX KG6混 合研磨至全部料過200目制成釉底料料漿，備用；4)將打磨平整的古瓦胎吹灰、擦水后施敷釉底料，施敷厚度0. 3mm左右，在1040°C 燒成后，施以熔塊釉在900°C或生鉛釉在830°C燒成。
權(quán)利要求
剝釉古代琉璃構(gòu)件施釉復(fù)燒技術(shù)，其特征在于首先制備一種琉璃釉用熔塊，然后采用以胎料與釉用熔塊相結(jié)合的方法制備釉底料生成釉與胎之間的過渡層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1剝釉古代琉璃構(gòu)件施釉復(fù)燒技術(shù)，其特征在于制備熔塊及釉料1)首先按化學組成質(zhì)量百分比將Si0241. 5 45. 0%, A1203 7. 5 10. 0%、Τ 02 1. 2 1. 5%,CaO 0. 5 1. 5%,MgO 0. 5 1. 5%,K20 1. 5 3. 0%,Na20 2. 0 4. 0%, PbO 12. 0 19. 0%、BaO 5. 0 8. 3%、ZnO 3. 0 5. 0%、Li20 1. 0 2. 0 % 和 B203 8. 0 14. 5%進行混合研磨，后將混合料于高溫爐中在1250°C熔化后水淬，再將水淬后的 塊料細磨至250目制備成釉用熔塊備用；2)按照質(zhì)量百分比將90 95%熔塊，0 5%的蘇州土，5%左右的著色氧化物與占原 料量60%的水、0. 2%的Na5P3010和0. 2 0. 8%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部料漿通 過250目篩，制成釉漿備用。
3.根據(jù)權(quán)利要求1剝釉古代琉璃構(gòu)件施釉復(fù)燒技術(shù)，其特征在于制備釉底料及施釉 復(fù)燒古琉璃構(gòu)件1)按照質(zhì)量百分比將0 30.0%的坯料、0 10. 0%的長石、0 10.0%的石英， 70. 0 80. 0%的釉用熔塊，0 5. 0%的ZrSi04，0 3. 0%的Sn02，外加占原料量60%的 水、0. 2的Na5P3010和0. 2 0. 5%的OPTAPIX KG6混合研磨至全部通過200目制成釉底 料料漿，備用；2)將打磨平整的古琉璃構(gòu)件胎體表面灰塵除去、擦水后先施敷釉底料漿，施敷厚度 0.2 0.3mm，后在1040 1100°C素燒，再施以琉璃釉在900 1000°C (低鉛熔塊釉)或 830 950°C (生鉛釉)燒成即可。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種剝釉古代琉璃構(gòu)件施釉復(fù)燒技術(shù)。具體涉及一種應(yīng)用于剝釉古代琉璃構(gòu)件施釉重燒、仿古琉璃構(gòu)件以及仿唐三彩等所用釉底料及熔塊釉的制備技術(shù)。該技術(shù)制備的釉底料由坯料和熔劑原料配制而成，所制釉底料的熱膨脹系數(shù)和熔融溫度等性能介于坯與釉之間，并具有阻水的作用。
文檔編號C03C8/12GK101851119SQ20091013150
公開日2010年10月6日 申請日期2009年4月2日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月2日
發(fā)明者丁銀忠, 侯佳鈺, 康葆強, 李合, 李媛, 段鴻鶯, 王時偉, 竇一村, 苗建民, 趙蘭 申請人:故宮博物院