專利名稱：日用陶瓷半自動淋釉機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及到淋釉機，特別是一種日用陶瓷半自動 淋釉機。
背景技術：
現(xiàn)有淋釉裝置在墻地磚生產(chǎn)上應用多，日用陶瓷半自動 淋釉裝置在國內尚未見有。自動淋釉應用在日用陶瓷淋釉上會 有釉幕不夠穩(wěn)定，釉漿沾傳送帶、沾口沿、釉面不平整、口沿 釉縷等問題。發(fā)明內容本實用新型的技術解決方案是這樣的本實用新型的目 的在于提供一種淋釉器把釉漿分散到瓷坯上，瓷坯在傳送帶及 托坯架的帶動下，由淋釉器把釉分散淋到瓷坯正面和背面，得 到釉幕淋釉均勻、穩(wěn)定、釉面平整、解決了釉漿粘帶、粘口沿、 口沿釉縷問題。而且能正背面施釉，碗、碟、盤、托等瓷器淋 釉都可用，結構簡單、制造容易、安裝使用方便，成本低、質 量好、效率高的日用陶瓷半自動淋釉機。包括淋釉器總成、托 坯架、瓷坯、傳送帶、調整裝置、正背面淋釉裝置、轉彎機。 特征是傳送帶兩端頭有轉彎機，傳送帶頂上裝有托坯架、托坯 架頂上是淋釉器總成I、擋釉托。淋釉器總成I的過濾網(wǎng)外面是隔釉罩，隔釉罩下面有過 濾支架，隔釉罩外面是隔釉環(huán)，隔釉環(huán)外面是弧形罩，隔釉環(huán) 有出釉口，孤形罩底下有釉漿分散器，擋釉托，淋釉器總成I 的釉漿分散器安裝在兩側傳送帶上。淋釉器總成I的釉漿分散器底下是瓷坯和托坯架，托坯 架支承在傳送帶和轉彎機面上。傳送帶的平行帶和轉彎機上有調速裝置。本實用新型的優(yōu)點是能正背面淋釉，且有淋釉均勻，釉 面平整，淋釉容易、方便、質量好、穩(wěn)定，淋釉生產(chǎn)率高等優(yōu) 點，適于陶瓷行業(yè)使用。


本實用新型的結構構成是這樣的圖1為本實用新型的整體結構安裝裝配運行狀態(tài)視圖。圖2為本實用新型的淋釉工作狀態(tài)加淋釉器總成剖視結 構視圖。圖3為本實用新型的淋釉工作狀態(tài)俯視圖。 圖4為本實用新型的瓷坯和托坯架安裝在輸送帶上工作 狀態(tài)視圖。圖5為本實用新型的淋釉器和托坯架安裝在傳送帶上運 行狀態(tài)斷裂畫法視圖。圖6為本實用新型的按圖5中A向視圖淋釉工作狀態(tài)斷 裂局部畫法視圖。圖7為本實用新型的淋釉器總成I立體局部剖視圖。圖1 —圖7中，過濾網(wǎng)(1)、隔釉罩(2)、過濾支架(3)、 隔釉環(huán)(4)、出釉口 (5)、弧形罩(6)、釉漿分散器(7)、擋 釉托(8)、托坯架(9)、瓷坯(10)、傳送帶(11)、釉幕(12)、 淋釉裝置(13)、轉彎機(14)、淋釉裝置(15)、轉彎機(16)、 工作臺(17)、調速裝置(18)、淋釉器總成I。
具體實施方式
本實用新型的最佳實施例是這樣的，參照圖1一圖7，釉 漿通過過濾網(wǎng)(1)后進入隔釉罩(2)內空腔，裝滿后從上部 溢出流入隔釉環(huán)(4)內空腔，進入弧形罩(6)空腔，孤型罩 (6)裝滿后從上部出釉口 (5)流出。其中的一部份釉漿從隔釉環(huán)(4)下部邊沿進入弧形罩(6)內腔上升流向出釉口 (5); 另一部分釉漿從隔釉罩(2)底部經(jīng)過過濾支架(3)后上升流向出釉口 (5)，這樣可使靠近出釉口 (5)和遠離出釉口 (5) 的釉漿先匯合后再上升流出，避免了遠離出釉口 (5)的釉漿集 中從出釉口 (5)的兩邊角流出。經(jīng)釉漿分散器(7)分散成釉 幕(12)從下沿垂直下落至瓷坯(10)上。釉幕(12)形成在 釉漿分散器(7)有半邊幕即蓋過孤形罩(6)的一半即可。具 體是淋釉器總成I包括有過濾網(wǎng)(1)、隔釉罩(2)、過濾支 架(3)、隔釉環(huán)(4)、出釉口 (5)、孤形罩(6)、釉漿分散器 (7)、擋釉托(8)。過濾網(wǎng)(1)外面裝有隔釉罩(2)，隔釉罩 (2)外面裝有隔釉環(huán)(4)，隔釉環(huán)(4)底外面裝有孤形罩(6)， 出釉口開口于隔釉環(huán)(4)上位于孤形罩(6)和隔釉環(huán)(4)之 間出釉口 (5)安裝在兩側傳送帶的傳送方向一側。出釉口 (5) 有半圓口寬，釉漿從出釉口 (5)流出到弧形罩(6)的半圓弧 面上在釉漿分散器(7)形成釉幕(12)。釉漿分散器(7)底下 有擋釉托(8)、瓷坯(10)，瓷坯(10)裝在托坯架(9)上面， 瓷坯(10)與托坯架(9)運行時，從擋釉托(8)中間穿過， 托坯架(9)是一個工字形、圓形、三角形、多邊形均可。托坯 架(9)底面是平面，也可有導軌卡于兩條傳送帶(11)之間。 現(xiàn)托坯架(9)底面是平面直接置于傳送帶(11)面上，隨著傳 送帶(11)運行。傳送帶(11)是一個環(huán)形可往復運行的閉環(huán) 式軌道，傳送帶(11)是中間直行為平行軌道，兩端是連接有 轉彎機(14、 16)，傳送帶(11)和轉彎機(14、 16)設有調速 裝置(18)，調速裝置(18)可裝有微型電機帶動運行，傳送帶 (11)底下有托軌輪，轉彎機(14)有工作臺(17)裝瓷坯(10)。 工作人員把瓷坯(10)放上轉彎機(14)的托坯架(9)上，瓷 坯(10)隨傳送帶(11)運行到上面淋釉裝置(15)處淋一次釉，之后運行到轉彎機(16)時把瓷坯(10)翻轉另一面，瓷坯(10)運行到淋釉裝置(13)時進行另一面的淋釉，即在轉 彎機(14)上的托坯架(9)裝瓷坯(10)隨傳送帶(11)運行 到淋釉裝置(15)時淋一個面，運行到轉彎機(16)時瓷坯(10) 被翻轉另一個面，當運行到淋釉裝置(13)時淋釉于另一個面。 瓷坯(10)經(jīng)兩面淋釉后即可收坯，空托坯架(9)運行到轉彎 機(14)時已完成一個周期淋釉工作。這時可續(xù)完成下一周期， 工作人員重新裝上瓷坯(10)進行循環(huán)淋釉工作。托坯架(9) 上可以放碗、碟、托、盤等日用陶瓷坯件。經(jīng)淋釉機淋釉的瓷 坯釉面具有均勻、平整、而且穩(wěn)定、不粘帶、不粘口沿等特點。 適于陶瓷行業(yè)上使用。
權利要求1、一種日用陶瓷半自動淋釉機，包括淋釉器總成、托坯架、瓷坯、傳送帶、調整裝置、正背面淋釉裝置、轉彎機，其特征是傳送帶(11)兩端頭有轉彎機(14、16)，傳送帶(11)頂上裝有托坯架(9)，托坯架(9)頂上是淋釉器總成I、擋釉托(8)。
2、 按照權利要求1所述的日用陶瓷半自動淋釉機，其特 征在于淋釉器總成I的過濾網(wǎng)(1)外面是隔釉罩(2)，隔釉 罩(2)下面是過濾支架(3)，隔釉罩(2)外面是隔釉環(huán)(4)， 隔釉環(huán)(4)外面是孤形罩(6)，隔釉環(huán)(4)有出釉口 (5)， 弧形罩(6)底下有釉漿分散器(7)、擋釉托(8)，淋釉器總 成I的釉漿分散器(7)安裝在傳送帶(11)兩側。
3、 按照權利要求1所述的日用陶瓷半自動淋釉機，其特 征在于淋釉器總成I的釉槳分散器(7)底下是瓷坯(10)和 托坯架(9)，托坯架(9)支承在傳送帶(11)、轉彎機(14、 16)面上。
4、 按照權利要求1所述的日用陶瓷半自動淋釉機，其特 征在于傳送帶(11)的平行帶和轉彎機(14、 16)上有調速裝 置(18)。
專利摘要本實用新型公開了一種日用陶瓷半自動淋釉機，包括淋釉器總成、托坯架、傳送帶、調整裝置、轉彎機、工作臺、正背面淋釉裝置。特征是傳送帶上放托坯架(9)上放瓷坯(10)，瓷坯(10)頂上對著淋釉器總成I，傳送帶兩端有轉彎機(14、16)，淋釉器總成I的過濾網(wǎng)(1)外面是隔釉罩(2)，隔釉罩(2)下面是過渡支架(3)，隔釉罩(2)下面是隔釉環(huán)(4)，隔釉環(huán)(4)外面是弧形罩(6)，弧形罩(6)外面是釉漿分散器(7)，釉漿分散器(7)底是擋釉托(8)。釉漿從釉漿分散器(7)流出形成釉幕(12)流到瓷坯(10)上，兩側有擋釉托(8)擋釉，具有釉幕(12)均勻、穩(wěn)定、釉面平整、不粘帶、沒有口沿釉縷等優(yōu)點。
文檔編號C04B41/86GK201125219SQ200720177350
公開日2008年10月1日 申請日期2007年9月11日 優(yōu)先權日2007年9月11日
發(fā)明者龐學堅, 龐煥城, 曹英德, 梁第才, 林 陳, 健 黃, 龍德奇 申請人:廣西三環(huán)企業(yè)集團股份有限公司