專利名稱：為了形成陶瓷磚或陶瓷板而改變形成帶的粉末的布置的系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種為了形成陶瓷磚或陶瓷板而改變形成帶的粉末的布置的系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在相同申請人的申請PCT/IB2005/000025中，說明了一種用于形成陶瓷磚或陶瓷板的彩色粉末準(zhǔn)備工具，包括布置在可移動的水平的下落表面上方的垂直漏斗。該漏斗為平行六面體狀，具有第一對表面，稱為側(cè)面，平行于可移動表面的前進(jìn)方向布置，和第二對表面，分別為前后表面，垂直于可移動表面的前進(jìn)方向布置。前表面和后表面之間的距離等于要壓實(shí)的粉末帶的厚度。彩色粉末從上方的開口裝料，并從下方的開口卸料，該下方的開口布置在距離可移動下落表面等于帶厚度的位置上。粉末通過恰當(dāng)?shù)倪M(jìn)料裝置以預(yù)定的方式裝到漏斗中，并連續(xù)下降，由于它們從下方的移動表面上牽引。
以這樣的方式，在可移動帶上形成粉末帶，復(fù)制與漏斗中粉末相同的預(yù)定布置。
所述工具不僅可以僅通過改變前后表面之間的距離，和相稱地改變卸料口和可移動表面之間的距離，而連續(xù)形成期望厚度的陶瓷板，而且可以實(shí)現(xiàn)模仿諸如大理石和花崗巖等天然石的陶瓷板。
盡管用這種工具實(shí)現(xiàn)的美觀效果與天然石非常接近，但無法以準(zhǔn)確的方式再現(xiàn)由特定自然現(xiàn)象造成的典型的不連續(xù)裝飾圖案，例如斷層滑動或那些造成紋理不規(guī)則動感的自然現(xiàn)象。
從而非常需要獲得一種系統(tǒng)，其可以獲得具有改變紋理排列的被壓實(shí)的粉末帶，從而復(fù)制由特定自然現(xiàn)象造成的不連續(xù)裝飾圖案，這些自然現(xiàn)象如斷層滑動，運(yùn)動等，而不放棄由相同申請人的垂直漏斗工具已經(jīng)獲得的優(yōu)點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種用于為了形成陶瓷磚或陶瓷板改變形成帶的粉末布置的系統(tǒng)，形成的陶瓷磚或陶瓷板具有滿足上述要求和同時(shí)克服上述缺點(diǎn)的結(jié)構(gòu)或功能特點(diǎn)。
該目標(biāo)通過根據(jù)權(quán)利要求1的用于為了形成陶瓷磚或陶瓷板改變形成帶的粉末布置的系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)。
從屬權(quán)利要求概括了根據(jù)本發(fā)明系統(tǒng)的優(yōu)選和特別有利的實(shí)施例。


參考附圖，通過閱讀下文中以示例性地而非限制性地提供的說明，本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見，其中-圖1和圖2分別表示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于為了形成陶瓷磚或陶瓷板改變形成帶的粉末布置的系統(tǒng)的垂直截面圖；圖1A和圖2A分別表示圖1和圖2中系統(tǒng)的箭頭A向和B向視圖；圖2B表示圖2的放大細(xì)節(jié)視圖；圖3表示根據(jù)第二實(shí)施例的系統(tǒng)截面圖；圖3A表示圖3中系統(tǒng)的箭頭C向視圖；圖4表示根據(jù)第三實(shí)施例的系統(tǒng)截面圖；圖4A表示圖4中系統(tǒng)的箭頭D向視圖。
具體實(shí)施例方式
在圖中，表示了一個(gè)根據(jù)本發(fā)明的用于為了形成陶瓷磚或陶瓷板改變形成帶的粉末布置的系統(tǒng)。
該系統(tǒng)包括布置在水平下落表面2上方的垂直漏斗34。漏斗34具有平行六面體狀構(gòu)造，具有第一對表面34c，稱為側(cè)面，平行于可移動表面2的前進(jìn)方向(用箭頭表示)布置，和第二對表面34a，34b，分別為前后表面，垂直于可移動表面2的前進(jìn)方向布置。前表面34a和后表面34b之間的間距“B”優(yōu)選地等于要壓實(shí)的粉末帶100的厚度“S”。然而，所述厚度“S”和所述間距“B”之間的微小偏差是可能的。粉末33通過上方的開口37進(jìn)料，并從下方相對的開口38卸料，開口38布置在距離可移動下落表面2等于粉末帶100厚度S的位置上。粉末33通過合適的進(jìn)料裝置以預(yù)定方式裝在漏斗34中，為了便于顯示，進(jìn)料裝置在圖中未表示，且粉末33連續(xù)下降，從而它們落在下方的移動表面2上。以這種方式，可以在可移動表面2上形成粉末帶100，復(fù)制在漏斗34中粉末33相同的預(yù)定布置。
特別地，帶100的預(yù)定布置復(fù)制天然石的典型紋理。
根據(jù)本發(fā)明，該系統(tǒng)還包括改變在漏斗34中粉末33預(yù)定布置的改變裝置，其適于在粉末33傳送到可移動表面2上以前操作粉末33。
所述改變裝置在圖1和2中本發(fā)明的第一實(shí)施例中表示，具有布置在漏斗34上的吸出器11，適于通過開口20吸取一定量的粉末33，開口20優(yōu)選地位于漏斗34后表面34b上。作為選擇地，開口20可以位于前表面34a上。
開口20是一個(gè)縫隙，其在漏斗34后表面34b的整個(gè)寬度“L”上水平延伸，并可以實(shí)現(xiàn)在任意位置，例如位于漏斗34下部(圖1，1A)或中間高度處(圖2，2A)。
所述開口20高度優(yōu)選地為5-30mm，并實(shí)現(xiàn)為防止粉末33從開口20中排出。
必要的是，開口20允許吸出器11的嘴部11a接近粉末33。
例如，如圖2B中所示，該開口20實(shí)現(xiàn)為最低部分布置在漏斗34內(nèi)部，而最高部分布置在漏斗34外部的傾斜通道。
吸出器的嘴部11a的寬度優(yōu)選地為漏斗34寬度L的1/3-1/10。
通過開口20吸取一定量粉末33，相對于繼續(xù)以相同速度下落的周圍粉末33，在吸取區(qū)域上方造成粉末33下降速度增大，從而，在從漏斗34排出的帶100中，在其被操作的位置處，形成與斷層分離非常相似的清晰斷裂紋理。
為了獲得期望效果的變化，必須修改執(zhí)行改變的位置和/或吸取模式。例如，可以使吸出器11沿著開口20滑動，還可以改變吸取時(shí)間，吸取力，和吸嘴11a的寬度，從而改變吸取影響的區(qū)域?qū)挾取?br> 在第二實(shí)施例中，如圖3，3A中所示，改變裝置為形狀制成可以在外部位置和內(nèi)部位置之間移入開口20′的拉桿，其中在外部位置中，開口20′關(guān)閉，防止粉末33流出，而在內(nèi)部位置中，如圖3所示意，所述開口20′開啟，并通過開口20′本身，從漏斗34中轉(zhuǎn)移一定量粉末33。
從而，與第一實(shí)施例中不允許粉末自由地排出漏斗34的開口20不同，第二實(shí)施例的可以在任意位置實(shí)現(xiàn)的開口20′允許粉末自由地流出，該自由流出是被拉桿12堵塞。
拉桿12的寬度優(yōu)選地為漏斗34寬度L的1/3-1/10，開口20′具有相等的寬度。將拉桿12置于內(nèi)部位置(圖3)，立即在其下方產(chǎn)生真空，其吸取粉末33，粉末33從拉桿12側(cè)面下降并在其下方匯合。這樣在漏斗34出口處產(chǎn)生帶100，在帶100被操作的位置處，形成與斷層分離非常相似的清晰斷裂紋理。
為了獲得期望效果的變化，必須修改執(zhí)行改變的位置和/或拉桿12的插入模式。例如，可以想到采用多個(gè)對齊的拉桿12(圖3A)，各拉桿以獨(dú)立的方式在相應(yīng)開口20′中操作，還可以改變拉桿12插入漏斗34的持續(xù)時(shí)間和深度，或改變拉桿12的寬度，從而改變相應(yīng)開口20′的寬度。
在第三實(shí)施例中，如圖4，4A中所示，改變裝置為攔截桿13，其形狀制成可以插入以與第一實(shí)施例中所述開口20相同方式制成的開口20，即不允許粉末33自由地排出。當(dāng)所述攔截桿13插入開口20中時(shí)(圖4)，其至少部分地阻礙粉末33下落。
在該插入位置，攔截桿13在其下方產(chǎn)生真空，其吸取粉末33，粉末33從攔截桿13側(cè)面下降并在其下方匯合。這樣在從漏斗34排出時(shí)產(chǎn)生了帶100，在其被操作的位置處，形成與斷層分離非常相似的清晰斷裂紋理。
為了獲得期望效果的變化，必須修改執(zhí)行改變的位置和/或拉桿13的插入模式。例如，可以沿著開口20在任意點(diǎn)插入攔截桿，還可以改變攔截桿13插入漏斗34的持續(xù)時(shí)間和深度，或改變攔截桿13的寬度。
從上述說明中可以理解，根據(jù)本發(fā)明的用于為了形成陶瓷磚或陶瓷板改變形成帶的粉末布置的系統(tǒng)可以滿足本說明介紹部分中所述的要求，并克服該部分中所述的缺點(diǎn)。
實(shí)際上，本發(fā)明的系統(tǒng)可以獲得粉末帶，該粉末帶被壓實(shí)以形成板，板復(fù)制天然石的典型圖案，包括由于一些自然現(xiàn)象如斷層滑動造成的“缺陷”。
當(dāng)然，為了滿足附加和特定要求，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對上述系統(tǒng)做出很多修改和變化，而且全部都包含在本發(fā)明由所附權(quán)利要求限定的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.用于為形成陶瓷磚和陶瓷板改變形成帶(100)的粉末(33)布置的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括具有棱柱形構(gòu)造的漏斗(34)，漏斗(34)具有相對于下方可移動水平下落表面(2)的方向橫向布置的前表面(34a)和后表面(34b)，且前后表面間的距離(B)大致等于要壓實(shí)的粉末帶(100)厚度(S)，所述漏斗(34)適于向所述可移動表面(2)上傳送粉末帶(100)，粉末帶(100)復(fù)制與在漏斗(34)中粉末(33)相同的預(yù)定布置，特征在于，該系統(tǒng)包括改變粉末(33)預(yù)定布置的改變裝置(11；12；13)，所述改變裝置(11；12；13)設(shè)置在漏斗(34)上，并適于在粉末(33)傳送到所述可移動表面(2)上以前對粉末(33)進(jìn)行操作。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述改變裝置(11；12；13)通過在漏斗(34)表面(34a，34b)之一上形成的至少一個(gè)開口(20；20′)對粉末(33)進(jìn)行操作。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述改變裝置(11；12；13)通過在漏斗(34)后表面(34b)上形成的至少一個(gè)開口(20；20′)對粉末(33)進(jìn)行操作。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)開口(20；20′)設(shè)置在中間高度處。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)開口(20；20′)設(shè)置在靠近可移動下落表面(2)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)開口(20)在漏斗(34)后表面(34b)的整個(gè)寬度(L)上水平延伸。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)開口(20)具有防止粉末(33)從漏斗(34)不期望地排出的構(gòu)造。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中所述改變裝置包括適于通過所述至少一個(gè)開口(20)吸取一定量粉末(33)的吸取裝置(11)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述吸取裝置(11)操作的范圍優(yōu)選地處于漏斗(34)后表面(34b)寬度(L)的1/3-1/10之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述吸取裝置(11)可水平滑動。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中所述改變裝置包括攔截桿(13)，攔截桿(13)的形狀適于插入所述至少一個(gè)開口(20)，從而至少部分地阻礙粉末(33)下落。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中所述攔截桿(13)操作的范圍處于漏斗(34)后表面(34b)寬度(L)的1/3-1/10之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)開口(20′)水平延伸的長度等于所述改變裝置(12)所操作的長度。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其中所述改變裝置包括拉桿(12)，拉桿(12)的形狀適于在所述開口(20′)中在外部位置和內(nèi)部位置之間移動，在外部位置中所述開口(20′)封閉，而在內(nèi)部位置中所述開口(20′)開啟，并通過所述開口(20′)轉(zhuǎn)移一定量排出漏斗(34)的粉末(33)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其中所述拉桿(12)操作的范圍處于漏斗(34)后表面(34b)寬度(L)的1/3-1/10之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，包括多個(gè)水平對齊并可獨(dú)立操作的拉桿(12)。
全文摘要
用于為形成陶瓷磚和陶瓷板改變形成帶(100)的粉末(33)布置的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括具有棱柱形構(gòu)造的漏斗(34)，漏斗(34)具有相對于下方可移動水平下落表面(2)的方向橫向布置的前表面(34a)和后表面(34b)，且前后表面間距離(B)大致等于要壓實(shí)的粉末帶(100)厚度(S)，所述漏斗(34)適于向所述可移動表面(2)傳送粉末帶(100)，粉末帶(100)復(fù)制與在漏斗(34)中粉末(33)相同的預(yù)定布置，其中所述系統(tǒng)包括改變粉末(33)預(yù)定布置的改變裝置(11；12；13)，所述改變裝置(11；12；13)設(shè)置在漏斗(34)上，并適于在粉末(33)傳送到所述可移動表面(2)上以前對粉末(33)進(jìn)行操作。
文檔編號B28B13/02GK1899786SQ20061010623
公開日2007年1月24日 申請日期2006年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月19日
發(fā)明者S·瓦利 申請人:薩克米伊莫拉機(jī)械合作社合作公司