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一種氧化鈰基固體電解質(zhì)陶瓷材料及其制造方法

文檔序號:1850031閱讀:248來源:國知局
專利名稱:一種氧化鈰基固體電解質(zhì)陶瓷材料及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種陶瓷材料及其制造方法,具體為一種氧化鈰(CeO2)基固體電解質(zhì)陶瓷材料及其制造方法技術(shù),國際專利分類號擬為Int.C17.C04B35/00。
SOFC中的核心是具有氧離子導(dǎo)電性的固體電解質(zhì)材料。氧化釔(Y2O3)穩(wěn)定氧化鋯(ZrO2),簡稱YSZ,是目前SOFC中應(yīng)用最普遍、研究最深入的一種固體電解質(zhì)。近幾年來ZrO2基SOFC暴露出的主要問題是為了降低電解質(zhì)電阻,SOFC不得不在高溫(850-1000℃)下運(yùn)行。如果能將操作溫度降低到中溫范圍(650-800℃),則可有效防止性能衰減,提高SOFC運(yùn)行壽命,降低造價成本。目前,降低SOFC運(yùn)行溫度有兩個途徑一是YSZ電解質(zhì)薄膜化;二是選用其他電解質(zhì)材料,例如中溫電解質(zhì)(在中溫范圍即具有較高電導(dǎo)率)材料。但YSZ電解質(zhì)薄膜化受到技術(shù)上的限制,因?yàn)橐环矫骐娊赓|(zhì)薄膜厚度越小,制備的難度就越大,工藝就越復(fù)雜;另一方面從粉體工藝和密封要求來看,也不能無限降低薄膜厚度。因此,中溫電解質(zhì)材料的研究受到越來越多的重視。
中溫電解質(zhì)材料主要包括CeO2基、氧化鉍(Bi2O3)基及其他化合物電解質(zhì)。目前研究最多的是CeO2基固體電解質(zhì)材料。摻雜的CeO2基固體電解質(zhì)在800℃電導(dǎo)率約0.1S.cm,與YSZ材料在1000℃電導(dǎo)率相當(dāng)。但CeO2基固體電解質(zhì)一個主要缺點(diǎn)是燒結(jié)后強(qiáng)度低,不易致密,據(jù)發(fā)明人測試,CeO2基材料的彎曲強(qiáng)度僅為60-70MPa,在制造、使用過程中極易斷裂,例如,在流延制備陶瓷薄膜時,成品率極低。為解決這一問題,就需要較高的燒結(jié)溫度(1600℃左右)。例如對分析純粉體制成的氧化釤(Sm2O3)穩(wěn)定氧化鈰(CeO2)0.9(Sm2O3)0.1系統(tǒng),燒結(jié)溫度必須在1580℃以上,這就帶來了另一個主要缺點(diǎn)能耗成本大幅增加。在如此高溫下,還妨礙了CeO2基固體電解質(zhì)與電極等其他材料共燒結(jié)的可能性。而要在較低的溫度下燒結(jié)時,則材料的電導(dǎo)率降低,穩(wěn)定性變差。例如,瑞斯(Reiss)等人研究在空氣中1700℃燒結(jié)Ce0.82Gd0.18O1.82,僅能獲得95%的燒結(jié)密度(參見I.Reiss,D.Braunshtein,D.S.Tannhauser,美國陶瓷會志(J. Am.Ceram.Soc.),1981;64479);赫爾(Herle)等人研究發(fā)現(xiàn)一般的CeO2基固體電解質(zhì)濕磨時粉體粒徑大于0.5μm,必須在1650℃以上才能燒結(jié),且燒結(jié)密度較低(95-96%)(參見J.Van Herle,T.Horita,T.Kawada et al,固體離子學(xué)(Solid StateIonics),1996;86-881255);Huang等人用溶膠-凝膠法制成平均直徑為250nm的均勻球形Ce0.9Gd0.1O1.95,在1585℃獲得了99%的燒結(jié)密度,晶粒尺寸為1-10μm,但其工藝復(fù)雜,能耗和成本都比較高(參見K.Huang,M.Feng,J.B.Goodenough,美國陶瓷會志(J.Am.Ceram.Soc.),1998;81357),所以中溫電解質(zhì)也沒有得到普遍的推廣和應(yīng)用。
本發(fā)明解決所述材料技術(shù)問題的技術(shù)方案是設(shè)計一種氧化鈰基固體電解質(zhì)陶瓷材料,配方包括(mol%)氧化鈰(CeO2)75~95;氧化釤(Sm2O3)或/和氧化釓(Gd2O3)4.9~20,其特征在于它還包括特定氧化物陶瓷0.1~5,所述的特定氧化物陶瓷是指氧化鋁(Al2O3)或/和氧化鋯(ZrO2)。
本發(fā)明解決所述制造方法技術(shù)問題的技術(shù)方案是它包括1.制備CeO2基電解質(zhì)粉體先將CeO2、Sm2O3或/和Gd2O3原料按照所述配方混合后,加入適量無水乙醇,用微粒球磨機(jī)濕磨4個小時后,烘干后在700℃煅燒0.5小時,過40目篩,得CeO2基電解質(zhì)粉體,其特征在于濕磨后,再加入所述比例的特定氧化物陶瓷(Al2O3或/和Zr2O3),用微粒球磨機(jī)濕磨4-8個小時;2.制備坯片將制好的CeO2基電解質(zhì)粉體通過軋膜法、流延法或模壓法中的一種制成設(shè)計的形狀和大小的坯片;3.燒制陶瓷材料將制好的坯片放入硅鉬棒爐中燒結(jié)燒結(jié)時間為4小時,隨爐冷卻至室溫后取出即得,其特征在于燒結(jié)溫度為1400~1500℃,升溫速度為6-10℃/分鐘。
對于軋膜法和流延法工藝材料,燒結(jié)前按常規(guī)還需要排膠工藝。
本發(fā)明利用復(fù)合摻雜技術(shù),通過少量多元摻雜,即在CeO2基電解質(zhì)中加入適量的特定氧化物陶瓷(Al2O3或/和ZrO2),提高了CeO2電解質(zhì)強(qiáng)度(可增加1倍以上),改善了陶瓷材料的力學(xué)性能;而在制造方法上也降低了燒結(jié)溫度(可降至1400~1500℃)。加快了升溫速度(由5℃/分鐘提高到6-10℃/分鐘),節(jié)省能源,提高效率,同時工藝簡單,成本低廉,也提高了成品率,適于工業(yè)大批量生產(chǎn)。
研究表明,現(xiàn)有技術(shù)未摻雜Al2O3或/和ZrO2的陶瓷材料樣品,所需燒結(jié)溫度在1600℃左右。其收縮率略大于10%。如果繼續(xù)提高燒結(jié)溫度,樣品的燒結(jié)程度雖可以繼續(xù)提高,但能源耗費(fèi)巨大,經(jīng)濟(jì)上不合理。而在1500℃,特別是1450℃及以下溫度燒結(jié)時,材料根本不能成瓷。這說明,未摻雜氧化鈰基電解質(zhì)材料在較低溫度下很難燒結(jié)。
本發(fā)明提出的在氧化鈰基電解質(zhì)材料配方中酌量或少量摻雜Al2O3或/和ZrO2的技術(shù)方案,可明顯改善陶瓷材料的燒結(jié)性能。研究表明,隨著Al2O3或/和ZrO2加入量的增加,材料收縮率顯著上升。對摻雜了Al2O3或/和ZrO2的樣品,可以在1400-1500℃下燒成。當(dāng)樣品摻雜量在5mol%時,在1450℃燒結(jié)時,材料就可達(dá)到最大收縮率20%。這說明適量摻雜陶瓷氧化物可以使材料在較低溫度下燒結(jié)致密,也具有顯著的促進(jìn)燒結(jié)作用。不僅如此,在制造方法上還可以提高升溫速度(由5℃/分鐘提高到6-10℃/分鐘),從而節(jié)省能耗成本,縮短工藝時間,提高生產(chǎn)效率。
進(jìn)一步研究表明,無論是對1450℃還是對1600℃燒結(jié)的樣品,所得材料的強(qiáng)度變化都呈現(xiàn)同樣的規(guī)律隨著Al2O3或/和ZrO2摻雜濃度的提高,強(qiáng)度逐漸增加;當(dāng)Al2O3或/和ZrO2摻雜濃度達(dá)到3mol%左右時,強(qiáng)度達(dá)到最大,與未摻雜Al2O3或/和ZrO2的樣品相比,材料強(qiáng)度提高一倍以上。隨著摻雜劑量的進(jìn)一步增加,強(qiáng)度開始下降。當(dāng)摻雜量小于3mol%時,1450℃燒結(jié)的樣品強(qiáng)度略高于1600℃燒結(jié)的樣品。而摻雜量大于3mol%時,摻雜量-強(qiáng)度曲線出現(xiàn)交叉,燒結(jié)溫度對強(qiáng)度的影響減弱。當(dāng)Al2O或/和3ZrO2摻雜濃度為3mol%時,800℃電導(dǎo)率下降較多。對1450℃燒結(jié)的樣品,綜合性能較好的摻雜濃度約為2mol%,此時電導(dǎo)率約為0.06S.cm-1,強(qiáng)度約為105MPa。雖然電導(dǎo)率略有下降,但是材料的強(qiáng)度提高約2/3。對1600℃燒結(jié)的樣品,要達(dá)到較好的綜合性能,摻雜濃度也在2mol%左右。
對材料的晶體結(jié)構(gòu)研究還表明本發(fā)明材料的斷口主要為穿晶斷裂,斷面粗糙,解理?xiàng)l紋較深,對應(yīng)的試樣強(qiáng)度較大。而未摻雜樣品的斷口呈穿晶、沿晶混合的斷裂方式。其中的沿晶成分較大,斷面光滑,解理?xiàng)l紋造成的河流花樣較淺,對應(yīng)的強(qiáng)度較低。研究還表明,在燒結(jié)后的冷卻過程中,因?yàn)闊崤蛎浵禂?shù)不匹配,會在晶粒中產(chǎn)生壓縮性應(yīng)力,可以阻礙裂紋的進(jìn)一步擴(kuò)展;另外,Al2O3或/和ZrO2分布在晶界處,將會使裂紋偏轉(zhuǎn),在偏轉(zhuǎn)過程中,可以消耗部分能量,產(chǎn)生裂紋偏轉(zhuǎn)增韌機(jī)制,提高材料強(qiáng)度。以上兩方面因素的影響,都可以使本發(fā)明的CeO2基固體電解質(zhì)陶瓷材料強(qiáng)度有所提高。
經(jīng)研究,本發(fā)明陶瓷材料的優(yōu)選配方為(mol%)氧化鈰(CeO2)85-90;氧化釤(Sm2O3)或/和氧化釓(Gd2O3)9~12,特定氧化物陶瓷氧化鋁(Al2O3)或/和氧化鋯(ZrO2)。1~3,簡單地說是所述陶瓷材料組分的配方比例為85-90∶9~12∶1~3。
本發(fā)明陶瓷材料制造方法的優(yōu)選工藝是1在制備CeO2基電解質(zhì)粉體工藝中,濕磨后,再加入所述比例的特定氧化物陶瓷,用微粒球磨機(jī)濕磨6個小時;3.在燒制陶瓷材料工藝中,燒結(jié)溫度為1450℃,升溫速度為10℃/分鐘。
權(quán)利要求
1.一種氧化鈰基固體電解質(zhì)陶瓷材料,配方包括(mol%)氧化鈰(CeO2)75~95;氧化釤(Sm2O3)或/和氧化釓(Gd2O3)4.9~20,其特征在于它還包括特定氧化物陶瓷0.1~5,所述的特定氧化物陶瓷是指氧化鋁(Al2O3)或/和氧化鋯(ZrO2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷材料,其特征在于所述陶瓷材料組分的配方比例為85-90∶9~12∶1~3。
3.一種根據(jù)權(quán)利要求1、2所述陶瓷材料的制造方法,它包括(1)制備氧化鈰基電解質(zhì)粉體先將所述的配方原料CeO2、Sm2O3或/和Gd2O3混合后,加入適量的無水乙醇,用微粒球磨機(jī)濕磨4個小時;烘干后在700℃下煅燒0.5小時,過40目篩,可得CeO2基電解質(zhì)粉體;(2)制備坯片將制好的CeO2基電解質(zhì)粉體通過軋膜法、流延法或模壓法中的一種制成設(shè)計的形狀和大小的坯片;(3)燒制陶瓷材料將制好的陶瓷坯片放入硅鉬棒爐中燒結(jié)燒結(jié)時間為4小時,隨爐冷卻至室溫后取出即得,其特征在于(1)濕磨后,再加入所述比例的特定氧化物陶瓷,用微粒球磨機(jī)濕磨4-8個小時;(3)燒結(jié)溫度為1400~1500℃,升溫速度為6-10℃/分鐘。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述陶瓷材料的制造方法,其特征在于(1)濕磨后,再加入所述比例的特定氧化物陶瓷,用微粒球磨機(jī)濕磨時間為6個小時;(3)燒結(jié)溫度為1450℃,升溫速度為10℃/分鐘。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種氧化鈰基固體電解質(zhì)陶瓷材料及其制造方法。其配方包括(mol%)氧化鈰75~95、氧化釤或/和氧化釓4.9~20,其特征在于它還包括特定氧化物陶瓷氧化鋁或/和氧化鋯0.1~5;其制造方法是包括1.制備CeO
文檔編號C04B35/622GK1421416SQ0310027
公開日2003年6月4日 申請日期2003年1月10日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月10日
發(fā)明者梁廣川, 梁金生, 梁秀紅 申請人:河北工業(yè)大學(xué)
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