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高爾夫球桿頭的制作方法

文檔序號:11605586閱讀:334來源:國知局
高爾夫球桿頭的制造方法與工藝

本發(fā)明涉及高爾夫球桿頭。



背景技術(shù):

已知有桿頭主體上安裝面板的鐵頭型的高爾夫球桿頭。日本專利第2691496號公開了一種通過該桿頭主體的一部分的塑性變形,形成與表面體的凹部嵌合、將表面體固定于桿頭主體的凸部的桿頭。

【現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)】

【專利文獻(xiàn)】

[專利文獻(xiàn)1]日本專利第2691496號



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

【發(fā)明要解決的課題】

本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)在安裝有面板的桿頭中,可以存在以往沒有的新的結(jié)構(gòu)。該新的結(jié)構(gòu)能夠起到與以往性質(zhì)不同的效果。

本發(fā)明的目的是提供在桿頭主體安裝有面板的結(jié)構(gòu)的桿頭中,附加新的效果的高爾夫球桿頭。

【解決問題的手段】

優(yōu)選高爾夫球桿頭具備桿頭主體與被固定于該桿頭主體的面板。上述面板具有包括擊球面的板前表面、作為該板前表面的反面的板后表面和板側(cè)表面。上述板后表面具有形心。上述桿頭主體具有從后方支持上述板后表面的支撐面。上述板后表面的外周邊緣部具有與上述支撐面對接的突出部。上述突出部的趾側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域和底側(cè)區(qū)域?yàn)榈?分區(qū),上述突出部的后跟側(cè)區(qū)域?yàn)榈?分區(qū)時,上述第1分區(qū)中,上述突出部的寬度是變化的。

優(yōu)選上述底側(cè)區(qū)域中,上述突出部的寬度是變化的。

優(yōu)選上述突出部具有包含與上述形心相同的趾-后跟方向位置的中央配置部、相對于上述形心位于后跟側(cè)的后跟配置部和相對于形心位于趾側(cè)的趾配置部。優(yōu)選上述中央配置部的寬度大于上述后跟配置部的寬度。優(yōu)選上述中央配置部的寬度大于上述趾配置部的寬度。

優(yōu)選上述底側(cè)區(qū)域中的上述突出部的平均寬度與上述頂側(cè)區(qū)域中的上述突出部的平均寬度不同。

優(yōu)選上述底側(cè)區(qū)域中的上述突出部的平均寬度小于上述頂側(cè)區(qū)域中的上述突出部的平均寬度。

優(yōu)選上述后跟側(cè)區(qū)域中的上述突出部的平均寬度小于上述趾側(cè)區(qū)域中的上述突出部的平均寬度。

優(yōu)選上述桿頭滿足以下(a)和/或(b)。

(a)上述后跟側(cè)區(qū)域中的上述突出部的寬度是變化的,該寬度最小的部分相對于上述形心位于下側(cè)。

(b)上述趾側(cè)區(qū)域中的上述突出部的寬度是變化的,該寬度最小的部分相對于上述形心位于下側(cè)。

【發(fā)明的效果】

能夠附加利用桿頭主體上安裝有面板的結(jié)構(gòu)的新的效果。

附圖說明

【圖1】圖1是第1實(shí)施方式的高爾夫球桿頭的斜視圖。

【圖2】圖2是表示圖1的桿頭的背面的斜視圖。

【圖3】圖3是圖1的桿頭的正面圖。

【圖4】圖4是圖1的桿頭的背面圖。

【圖5】圖5是圖1的桿頭涉及的面板的俯視圖。

【圖6】圖6是圖5的面板的背面圖。

【圖7】圖7是圖1的桿頭涉及的桿頭主體的正面圖。

【圖8】圖8是與圖6相同的背面圖。圖8中,突出部用陰影表示。

【圖9】圖9是沿著圖3的f9-f9線的截面圖。

【圖10】圖10是沿著圖3的f10-f10線的截面圖。

【圖11】圖11是沿著圖3的f11-f11線的截面圖。

【圖12】圖12是形成塑性變形部的工序(填縫工序)的說明圖。

【圖13】圖13是第2實(shí)施方式涉及的面板的背面圖。

【圖14】圖14是第3實(shí)施方式涉及的面板的背面圖。

【圖15】圖15是第4實(shí)施方式涉及的面板的背面圖。

【圖16】圖16是第5實(shí)施方式涉及的面板的背面圖。

【圖17】圖17是第6實(shí)施方式涉及的面板的背面圖。

【圖18】圖18是第7實(shí)施方式涉及的面板的背面圖。

符號說明

2···桿頭

4···表面(擊球面)

6···桿頸

8···底側(cè)

10···桿頸孔

14···開口部

16···外周邊緣部

18···內(nèi)側(cè)部

20···板后表面的輪廓線

h1···桿頭主體

h1p···桿頭主體(變形前主體)

v1···主體側(cè)表面

p1···面板

f1···板前表面

b1···板后表面

s1···板側(cè)表面

d1···塑性變形部

t1···臺階面

pr1···突出部

cf···形心

wp···突出部的寬度

sg1···第1分區(qū)

sg2···第2分區(qū)

具體實(shí)施方式

以下,參照適當(dāng)?shù)母綀D的同時,基于優(yōu)選實(shí)施方式詳細(xì)地說明本發(fā)明。

本申請中,定義了以下用語。

[基準(zhǔn)狀態(tài)]

所謂基準(zhǔn)狀態(tài),是以特定的桿頭傾角以及桿面傾角將桿頭放置于水平面h上的狀態(tài)。該基準(zhǔn)狀態(tài)中,桿頭的柄孔的中心軸線(柄軸線)被配置于垂直面vp1內(nèi)。垂直面vp1是垂直于水平面h的平面。該基準(zhǔn)狀態(tài)中,表面(擊球面)相對于上述垂直面vp1以桿面傾角傾斜。特定的桿頭傾角以及桿面傾角記載于例如產(chǎn)品的商品目錄等。

[趾-后跟方向]

上述基準(zhǔn)狀態(tài)的桿頭中,上述垂直面vp1與上述水平面h相交的線的方向是趾-后跟方向。本申請中,稱為趾側(cè)以及后跟側(cè)時,是以該趾-后跟方向?yàn)榛鶞?zhǔn)的。

[表面-背面方向]

垂直于上述趾-后跟方向,并且與上述水平面h平行的方向?yàn)楸砻?背面方向。本申請中,稱為表面?zhèn)纫约氨趁鎮(zhèn)葧r,是以該表面-背面方向?yàn)榛鶞?zhǔn)的。

[前后方向]

與擊球面垂直的方向被定義為前后方向。換言之,擊球面的法線方向被定義為前后方向。本申請中,稱為前方以及后方時,是以該前后方向?yàn)榛鶞?zhǔn)的。

[上下方向]

垂直于上述趾-后跟方向,并且與擊球面平行的方向?yàn)樯舷路较?。本申請中,稱為上方以及下方時,是以該上下方向?yàn)榛鶞?zhǔn)的。

[鉛垂上下方向]

垂直于上述水平面h的直線的方向?yàn)殂U垂上下方向。本申請中,稱為鉛垂上方以及鉛垂下方時,是以該鉛垂上下方向?yàn)榛鶞?zhǔn)的。

圖1是從斜前方所見的本發(fā)明的第1實(shí)施方式涉及的高爾夫球桿頭2的斜視圖。圖2是從斜后方所見的桿頭2的斜視圖。圖3是桿頭2的正面圖。圖3是從擊球面的正面所見的圖。圖4是桿頭2的背面圖。

桿頭2具有表面4、桿頸6以及底部8。桿頸6具有桿頸孔10。表面4是擊球面。在表面4的表面設(shè)有表面槽,但該表面槽的記載被省略。底部8中配置有配重件wt。桿頭2是鐵頭型高爾夫球桿頭。

表面4的相反側(cè)設(shè)有后腔12。桿頭2是凹背鐵頭。

桿頭2具有桿頭主體h1和被固定于該桿頭主體h1的面板p1。桿頭主體h1的材質(zhì)是金屬。本實(shí)施方式中,桿頭主體h1的材質(zhì)是不銹鋼。面板p1的材質(zhì)是金屬。本實(shí)施方式中,面板p1的材質(zhì)是鈦系金屬。所謂鈦系金屬是指純鈦或鈦合金。桿頭主體h1以及面板p1的材質(zhì)沒有限定。

鈦合金是鈦的比例為50重量%以上的合金。作為鈦合金,可列舉α鈦、αβ鈦以及β鈦。作為α鈦,例如可列舉ti-5al-2.5sn、ti-8al-1v-1mo。作為αβ鈦,例如可列舉ti-6al-4v、ti-6al-2sn-4zr-6mo、ti-6al-6v-2sn以及ti-4.5al-3v-2fe-2mo。作為β鈦,例如可列舉ti-15v-3cr-3sn-3al、ti-20v-4al-1sn、ti-22v-4al、ti-15mo-2.7nb-3al-0.2si以及ti-16v-4sn-3al-3nb。作為純鈦,可例舉工業(yè)用純鈦。作為該工業(yè)用純鈦,可例舉日本工業(yè)規(guī)格中規(guī)定的1種純鈦、2種純鈦、3種純鈦以及4種純鈦。

優(yōu)選面板p1的比重小于桿頭主體h1的比重。比重小的面板p1有益于將桿頭2中的重量分配至周邊。

圖5是面板p1的俯視圖。圖6是面板p1的背面圖。面板p1具有板前表面f1、板后表面b1和板側(cè)表面s1。板前表面f1包括擊球面。該擊球面除表面槽以外是平面。板后表面b1是與板前表面f1相反側(cè)的表面。板側(cè)表面s1在板前表面f1與板后表面b1之間延伸。

板后表面b1具有環(huán)狀的外周邊緣部16和作為該外周邊緣部16的內(nèi)側(cè)的內(nèi)側(cè)部18。內(nèi)側(cè)部18被外周邊緣部16包圍。外周邊緣部16具有與支撐面u1(后述)對接的突出部pr1。

外周邊緣部16包括板后表面b1的輪廓線20。即,外周邊緣部16的外輪廓線是輪廓線20。

圖7是桿頭主體h1的正面圖。桿頭主體h1具有開口部14。該開口部14的輪廓與面板p1的輪廓大致相等。

桿頭主體h1具有支持面板p1的板后表面b1的支撐面u1和與板側(cè)表面s1相對的主體側(cè)表面v1。支撐面u1的整體由單一的平面構(gòu)成。支撐面u1被設(shè)置為環(huán)繞開口部14的周圍的整個圓周。主體側(cè)表面v1被設(shè)置為環(huán)繞面板p1的周圍的整個圓周。板后表面b1的一部分與支撐面u1接觸。另外,圖7中,塑性變形部d1(后述)的記載被省略。

圖8與圖6相同,表示板后表面b1。圖8中,突出部pr1用陰影表示。突出部pr1包含輪廓線20。即,突出部pr1的外輪廓線是輪廓線20。

突出部pr1中的板厚大于內(nèi)側(cè)部18中的板厚。如圖8所示,突出部pr1被設(shè)置為環(huán)繞面板p1的整個圓周。該突出部pr1與桿頭主體h1對接。除去突出部pr1的板后表面b1不與桿頭主體h1對接。

還可以在桿頭主體h1上設(shè)置相當(dāng)于突出部pr1的突出部。但是,桿頭主體h1的比重大于面板p1的比重時,該突出部的設(shè)置與桿頭重量的增加相關(guān)聯(lián)。此外,桿頭主體h1的形狀相比于面板p1較復(fù)雜,因此難以進(jìn)行加工(例如nc加工)。由于面板p1為板狀,因此加工容易。

圖8中,符號cf表示的是板后表面b1的形心。該形心cf是基于板后表面b1的輪廓線20而決定的。

圖8的俯視圖中定義了直線x以及直線y。直線x是通過形心cf,與趾-后跟方向平行的直線。直線y是通過形心cf,與上下方向平行的直線。

如圖8所示,通過直線x以及直線y,將輪廓線20劃分為4段。在這4個分區(qū)中,分別決定曲率半徑最小的點(diǎn)。趾上側(cè)的分區(qū)中,曲率半徑最小的點(diǎn)用符號a表示。后跟上側(cè)的分區(qū)中,曲率半徑最小的點(diǎn)用符號b表示。后跟下側(cè)的分區(qū)中,曲率半徑最小的點(diǎn)用符號c表示。趾下側(cè)的分區(qū)中,曲率半徑最小的點(diǎn)用符號d表示。連接點(diǎn)a與形心cf的直線為直線la。連接點(diǎn)b與形心cf的直線為直線lb。連接點(diǎn)c與形心cf的直線為直線lc。連接點(diǎn)d與形心cf的直線為直線ld。

通過將這些直線擴(kuò)張至三維,可以將桿頭2劃分為4塊。定義為包含上述直線la并且垂直于擊球面的平面pa、包含上述直線lb并且垂直于擊球面的平面pb、包含上述直線lc并且垂直于擊球面的平面pc、包含上述直線ld并且垂直于擊球面的平面pd(參考圖3)。通過這4個平面pa、pb、pc以及pd,將桿頭2劃分為趾側(cè)區(qū)域、后跟側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域以及底側(cè)區(qū)域。因此,例如桿頭主體h1以及面板p1也分別可以劃分為趾側(cè)區(qū)域、后跟側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域以及底側(cè)區(qū)域。像這樣定義本申請中的4個區(qū)域(趾側(cè)區(qū)域、后跟側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域以及底側(cè)區(qū)域)。這些趾側(cè)區(qū)域、后跟側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域以及底側(cè)區(qū)域統(tǒng)稱為4分區(qū)區(qū)域。

該4分區(qū)區(qū)域能應(yīng)用于桿頭2的所有部分。例如,突出部pr1可劃分為趾側(cè)區(qū)域、后跟側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域以及底側(cè)區(qū)域。例如,板側(cè)表面s1可劃分為趾側(cè)區(qū)域、后跟側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域以及底側(cè)區(qū)域。例如,支撐面u1可劃分為趾側(cè)區(qū)域、后跟側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域以及底側(cè)區(qū)域。例如,主體側(cè)表面v1可劃分為趾側(cè)區(qū)域、后跟側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域以及底側(cè)區(qū)域。

本申請中,突出部pr1被劃分為第1分區(qū)sg1和第2分區(qū)sg2。第1分區(qū)sg1是組合有趾側(cè)區(qū)域、頂側(cè)區(qū)域以及底側(cè)區(qū)域的部分。第2分區(qū)sg2是后跟側(cè)區(qū)域。因此,第1分區(qū)sg1與第2分區(qū)sg2的邊界是圖3所示的平面pb以及平面pc。

圖9是沿著圖3的f9-f9線的截面圖。圖10是沿著圖3的f10-f10線的截面圖。圖11是沿著圖3的f11-f11線的截面圖。

如圖9、圖10以及圖11所示,突出部pr1與支撐面u1對接。另一方面,內(nèi)側(cè)部18不與支撐面u1對接。

如圖9、圖10以及圖11所示,桿頭主體h1具有塑性變形部d1。該塑性變形部d1位于面板p1的前方。更詳細(xì)地,塑性變形部d1位于臺階面t1的前方。

圖12(a)以及圖12(b)表示形成塑性變形部d1的步驟。

如圖5以及圖12(a)所示,板前表面f1的邊緣部具有位于擊球面(表面4)后方的臺階面t1。如圖5所示,臺階面t1被設(shè)置為環(huán)繞面板p1的整個圓周。如圖12(b)所示,塑性變形部d1覆蓋臺階面t1的前方。塑性變形部d1覆蓋環(huán)繞板前表面f1的整個圓周而設(shè)置的臺階面t1的整體。

從面板p1的固定的觀點(diǎn)考慮,優(yōu)選臺階面t1的寬度wt1(參考圖5)為0.2mm以上,更優(yōu)選0.3mm以上。若考慮塑性變形部d1的形成,優(yōu)選寬度wt1為2mm以下,更優(yōu)選1mm以下。

這樣的塑性變形部d1的形成方法中,首先,準(zhǔn)備具有變形前凸部d2(參考圖12(a))的桿頭主體h1p。該桿頭主體h1p也稱為變形前主體。如圖12(a)所示,在該變形前主體h1p上設(shè)置面板p1。在該階段中,臺階面t1的前方存在空間。該空間形成以臺階面t1作為底面的槽狀部。接著,用具有與擊球面平行的平面的夾具壓碎變形前凸部d2。變形前凸部d2以及其周邊部分被塑性變形。塑性變形的部分的至少一部分移動至臺階面t1的前方的空間。其結(jié)果是,臺階面t1的前方的空間的至少一部分被填埋,形成塑性變形部d1。該工序也被稱為填縫工序。這樣的塑性變形部d1也稱為填縫部。

由于這樣的加工方法,塑性變形部d1可能殘留應(yīng)力。還存在塑性變形部d1擠壓面板p1的情況。也存在塑性變形部d1擠壓臺階面t1的情況。

塑性變形部d1位于面板p1的前方,因此物理性地防止面板p1向前方偏離。進(jìn)一步地,由于塑性變形部d1通過塑性變形而形成,因此擠壓面板p1。塑性變形部d1有益于面板p1的固定。

本實(shí)施方式中,變形前凸部d2被設(shè)置為環(huán)繞上述開口部14的整個圓周。該變形前凸部d2的整體被實(shí)施上述加工。作為結(jié)果,塑性變形部d1被設(shè)置為環(huán)繞面板p1的整個圓周。

圖8中,用雙箭頭wp表示的是突出部pr1的寬度。該寬度wp在板后表面b1的俯視圖(圖8)中被測定。寬度wp沿著相對于輪廓線20的直角方向被測定。因此,輪廓線20為曲線時,輪廓線20上的點(diǎn)t上的寬度wp沿著垂直于該點(diǎn)t上的切線的方向被測定。

該突出部pr1中,底側(cè)區(qū)域中寬度wp是變化的。突出部pr1,在底側(cè)區(qū)域中,具備具有第1寬度wp1的第1部分j1、具有第2寬度wp2的第2部分j2和具有第3寬度wp3的第3部分j3。第1寬度wp1大于第2寬度wp2。第1寬度wp1大于第3寬度wp3。第2寬度wp2可以與第3寬度wp3相同,也可以與第3寬度wp3不同。桿頭2中,在底側(cè)區(qū)域中,突出部pr1的寬度wp是變化的。

第1部分j1包含與形心cf相同的趾-后跟方向位置。該第1部分j1也稱為中央配置部。第2部分j2相對于形心cf位于趾側(cè)。該第2部分j2也稱為趾配置部。第3部分j3相對于形心cf位于后跟側(cè)。該第3部分j3也稱為后跟配置部。

像這樣地,桿頭2中,突出部pr1具有包含與形心cf相同的趾-后跟方向位置的中央配置部j1、相對于形心cf位于趾側(cè)的趾配置部j2和相對于形心cf位于后跟側(cè)的后跟配置部j3。中央配置部j1的寬度wp1大于趾配置部j2的寬度wp2。中央配置部j1的寬度wp1大于后跟配置部j3的寬度wp3。進(jìn)一步地,該結(jié)構(gòu)在底側(cè)區(qū)域中成立。

底側(cè)區(qū)域被包含于上述第1分區(qū)sg1中。因此,桿頭2中,第1分區(qū)sg1中,突出部pr1的寬度wp是變化的。

圖8的實(shí)施方式中,后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度與趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度不同。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度與頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度不同。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度與底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度不同。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度與頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度不同。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度與趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度不同。

圖8的實(shí)施方式中,后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。

另外,平均寬度可以通過整體面積除以輪廓線20的長度算出。例如,將突出部pr1的底側(cè)區(qū)域的面積設(shè)為s,將底側(cè)區(qū)域中的輪廓線20的長度設(shè)為l,將底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度設(shè)為wz時,平均寬度wz可以通過下式算出。

wz=s/l

圖13是第2實(shí)施方式涉及的面板p1的背面圖。該實(shí)施方式中,頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的寬度wp小。頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。

圖14是第3實(shí)施方式涉及的面板p1的背面圖。該實(shí)施方式中,底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的寬度wp小。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。

圖15是第4實(shí)施方式涉及的面板p1的背面圖。該實(shí)施方式中,頂側(cè)區(qū)域中寬度wp是變化的。

頂側(cè)區(qū)域中,突出部pr1具有中央配置部j4、趾配置部j5和后跟配置部j6。中央配置部j4包含與形心cf相同的趾-后跟方向位置。后跟配置部j6相對于形心cf位于后跟側(cè)。趾配置部j5相對于形心cf位于趾側(cè)。中央配置部j4的寬度wp大于后跟配置部j6的寬度wp。中央配置部j4的寬度wp大于趾配置部j5的寬度wp。

該實(shí)施方式中,后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。

圖16是第5實(shí)施方式涉及的面板p1的背面圖。該實(shí)施方式中,頂側(cè)區(qū)域中寬度wp是變化的。進(jìn)一步地,底側(cè)區(qū)域中的寬度wp小。

頂側(cè)區(qū)域中,突出部pr1具有中央配置部j4、趾配置部j5和后跟配置部j6。中央配置部j4包含與形心cf相同的趾-后跟方向位置。后跟配置部j6相對于形心cf位于后跟側(cè)。趾配置部j5相對于形心cf位于趾側(cè)。中央配置部j4的寬度wp大于后跟配置部j6的寬度wp。中央配置部j4的寬度wp大于趾配置部j5的寬度wp。

該實(shí)施方式中,后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小于頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度。

圖17是第6實(shí)施方式涉及的面板p1的背面圖。該實(shí)施方式中,頂側(cè)區(qū)域中寬度wp是變化的。進(jìn)一步地,該實(shí)施方式中,底側(cè)區(qū)域中寬度wp是變化的。

底側(cè)區(qū)域中,突出部pr1具有第1中央配置部j1、第1趾配置部j2和第1后跟配置部j3。第1中央配置部j1包含與形心cf相同的趾-后跟方向位置。第1趾配置部j2相對于形心cf位于趾側(cè)。第1后跟配置部j3相對于形心cf位于后跟側(cè)。第1中央配置部j1的寬度wp大于第1趾配置部j2的寬度wp。第1中央配置部j1的寬度wp大于第1后跟配置部j3的寬度wp。

頂側(cè)區(qū)域中,突出部pr1具有第2中央配置部j4、第2趾配置部j5和第2后跟配置部j6。第2中央配置部j4包含與形心cf相同的趾-后跟方向位置。第2趾配置部j5相對于形心cf位于趾側(cè)。第2后跟配置部j6相對于形心cf位于后跟側(cè)。第2中央配置部j4的寬度wp大于第2趾配置部j5的寬度wp。第2中央配置部j4的寬度wp大于第2后跟配置部j6的寬度wp。

第1中央配置部j1的趾-后跟方向位置的至少一部分與第2中央配置部j4的趾-后跟方向位置重疊。第1趾配置部j2的趾-后跟方向位置的至少一部分與第2趾配置部j5的趾-后跟方向位置重疊。第1后跟配置部j3的趾-后跟方向位置的至少一部分與第2后跟配置部j6的趾-后跟方向位置重疊。

圖18是第7實(shí)施方式涉及的面板p1的背面圖。該實(shí)施方式中,后跟側(cè)區(qū)域中寬度wp是變化的。進(jìn)一步地,該實(shí)施方式中,趾側(cè)區(qū)域中寬度wp是變化的。

后跟側(cè)區(qū)域中,突出部pr1具有上配置部j7、和位于該上配置部j7的下方的下配置部j8。下配置部j8的寬度wp小于上配置部j7的寬度wp。下配置部j8的寬度wp的平均值小于上配置部j7的寬度wp的平均值。

后跟側(cè)區(qū)域中,突出部pr1具有上配置部j9、和位于該上配置部j9的下方的下配置部j10。下配置部j10的寬度wp小于上配置部j9的寬度wp。下配置部j10的寬度wp的平均值小于上配置部j9的寬度wp的平均值。

上配置部j7的上下方向位置的至少一部分與上配置部j9的上下方向位置重疊。下配置部j8的上下方向位置的至少一部分與下配置部j10的上下方向位置重疊。

該實(shí)施方式滿足以下(a)以及(b)。也可以僅滿足(a)或(b)的任一方。

(a)后跟側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的寬度wp是變化的,該寬度wp最小的部分相對于形心cf位于下側(cè)。

(b)趾側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的寬度wp是變化的,該寬度wp最小的部分相對于形心cf位于下側(cè)。

如上所述,任一種實(shí)施方式中,第1分區(qū)sg1中,突出部pr1的寬度wp是變化的。即,第1分區(qū)sg1中存在寬度wp較小的部分和寬度wp較大的部分。

寬度wp較小時,面板p1的厚度(板厚)小的區(qū)域擴(kuò)大。進(jìn)一步地,寬度wp較小時,面板p1的板后表面b1與桿頭主體h1的接觸面積減少,面板p1的由桿頭主體h1引起的限制減少。由于這些原因,促進(jìn)了擊球時的面板p1的變形。較小的寬度wp促進(jìn)擊球時的面板p1的彈性變形。寬度wp減小的部位能提高反彈性能。

另一方面,寬度wp大的部位能抑制反彈性能。此外,通過增大寬度wp,面板p1的厚度大的區(qū)域擴(kuò)大,耐久性提高。

圖6(圖8)的第1實(shí)施方式中,通過中央配置部j1,擊球點(diǎn)集中的表面中央部的耐久性提高。此外,通過寬度wp小的趾配置部j2以及后跟配置部j3,擊球點(diǎn)偏離趾側(cè)以及后跟側(cè)時的反彈性能提高。該桿頭2中,可以使表面的中央部與其趾側(cè)以及后跟側(cè)的反彈性能接近。因此,能抑制擊球點(diǎn)的偏差引起的飛行距離的偏差。進(jìn)一步地,底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小,因此擊球點(diǎn)向下側(cè)偏移時的反彈性能提高。特別是擊球點(diǎn)向趾下側(cè)或者后跟下側(cè)偏移時的反彈性能提高。

該第1實(shí)施方式中,中央配置部j1的寬度wp例如可為1mm以上8mm以下。該第1實(shí)施方式中,趾配置部j2以及后跟配置部j3的寬度wp例如可為0.5mm以上5mm以下。

圖13的第2實(shí)施方式中,頂側(cè)區(qū)域的寬度wp小。因此,面板p1的頂側(cè)的重量減少,能使桿頭低重心化。此外,擊球點(diǎn)向上側(cè)偏移時的反彈性能提高。

該第2實(shí)施方式中,頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的寬度wp例如可為0.5mm以上4mm以下。該第2實(shí)施方式中,底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的寬度wp例如可為1mm以上8mm以下。

圖14的第3實(shí)施方式中,底側(cè)區(qū)域的寬度wp小。因此,擊球點(diǎn)向下側(cè)偏移時的反彈性能提高。對于鐵頭而言,擊打不放在球座上而是在草坪上的球的機(jī)會較多。鐵頭中,擊球點(diǎn)易在下側(cè)(靠近底側(cè))。該第3實(shí)施方式提高相較而言擊球點(diǎn)易集中的下側(cè)的反彈性能。

該第3實(shí)施方式中,頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的寬度wp例如可為1mm以上8mm以下。該第3實(shí)施方式中,底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的寬度wp例如可為0.5mm以上6mm以下。

圖15的第4實(shí)施方式中,通過中央配置部j4,擊球點(diǎn)集中的表面中央部的耐久性提高。此外,通過寬度wp小的趾配置部j5以及后跟配置部j6,擊球點(diǎn)向趾側(cè)以及后跟側(cè)偏移時的反彈性能提高。因此,可以使表面的中央部與其趾側(cè)以及后跟側(cè)的反彈性能接近。作為結(jié)果,能抑制擊球點(diǎn)的偏差引起的飛行距離的偏差。進(jìn)一步地,頂側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的平均寬度小,因此擊球點(diǎn)向上側(cè)偏移時的反彈性能提高。特別是擊球點(diǎn)向趾上側(cè)或者后跟上側(cè)偏移時的反彈性能提高。

該第4實(shí)施方式中,中央配置部j4的寬度wp例如可為1mm以上8mm以下。該第4實(shí)施方式中,趾配置部j5以及后跟配置部j6的寬度wp例如可為0.5mm以上5mm以下。

圖16的第5實(shí)施方式中,除圖15的第4實(shí)施方式的效果以外,還能得到由底側(cè)區(qū)域的寬度wp小而引起的效果。該第5實(shí)施方式中,擊球點(diǎn)向下側(cè)偏移時的反彈性能提高。如上所述,鐵頭中,擊球點(diǎn)易在下側(cè)(靠近底側(cè))。該第5實(shí)施方式提高相較而言擊球點(diǎn)易集中的下側(cè)的反彈性能。

該第5實(shí)施方式中,中央配置部j4的寬度wp例如可為1mm以上8mm以下。該第5實(shí)施方式中,趾配置部j5以及后跟配置部j6的寬度wp例如可為0.5mm以上5mm以下。該第5實(shí)施方式中,底側(cè)區(qū)域中的突出部pr1的寬度wp例如可為0.5mm以上5mm以下。

圖17的第6實(shí)施方式中,通過第1中央配置部j1以及第2中央配置部j4,擊球點(diǎn)集中的表面中央部的耐久性提高。此外,通過寬度wp小的第1趾配置部j2以及第2趾配置部j5,和寬度wp小的第1后跟配置部j3以及第2后跟配置部j6,擊球點(diǎn)向趾側(cè)以及后跟側(cè)偏移時的反彈性能提高。因此,可以使表面的中央部與其趾側(cè)以及后跟側(cè)的反彈性能接近。作為其結(jié)果,能進(jìn)一步抑制擊球點(diǎn)的偏差引起的飛行距離的偏差。

圖18的第7實(shí)施方式中,通過寬度wp小的下配置部j8,擊球點(diǎn)向下側(cè)偏移時的反彈性能提高。如上所述,鐵頭中,擊球點(diǎn)易在下側(cè)(靠近底側(cè))。下配置部j8提高相較而言擊球點(diǎn)易集中的下側(cè)的反彈性能。同樣地,通過寬度wp小的下配置部j10,擊球點(diǎn)向下側(cè)偏移時的反彈性能提高。下配置部j10提高相較而言擊球點(diǎn)易集中的下側(cè)的反彈性能。下配置部j8特別有益于后跟下側(cè)的反彈性能。下配置部j10特別有益于趾下側(cè)的反彈性能。

該第7實(shí)施方式中,上配置部j7的寬度wp例如可為1mm以上8mm以下。該第7實(shí)施方式中,下配置部j8的寬度wp例如可為0.5mm以上5mm以下。該第7實(shí)施方式中,上配置部j9的寬度wp例如可為1mm以上8mm以下。該第7實(shí)施方式中,下配置部j10的寬度wp例如可為0.5mm以上5mm以下。

圖6等的實(shí)施方式中,后跟側(cè)區(qū)域的寬度wp小,趾側(cè)區(qū)域的寬度wp大。鐵頭中,有桿頸部分的重量大,桿頭重心靠近后跟的傾向。通過減小后跟側(cè)區(qū)域的寬度wp,增大趾側(cè)區(qū)域的寬度wp,能夠抑制桿頭重心傾向后跟。因此,擊球點(diǎn)向趾側(cè)偏移時的反彈性能提高。

像這樣,通過設(shè)置寬度wp小的部分,能夠得到與該部分的位置相應(yīng)的效果。作為與突出部pr1整體的平均寬度相比寬度wp小的部分(寬度小的部分)的配置的結(jié)構(gòu),舉例以下(1)到(18)。此外,還舉例以下的結(jié)構(gòu)(19)。還可以組合從這些結(jié)構(gòu)中選出的2種以上。

(1)寬度小的部分被配置于形心cf的趾側(cè)和形心cf的后跟側(cè)。

(2)寬度小的部分被配置于形心cf的上側(cè)和形心cf的下側(cè)。

(3)寬度小的部分被配置于頂側(cè)區(qū)域和底側(cè)區(qū)域。

(4)寬度小的部分被配置于趾側(cè)區(qū)域和后跟側(cè)區(qū)域。

(5)寬度小的部分被配置于由頂側(cè)區(qū)域、底側(cè)區(qū)域、趾側(cè)區(qū)域以及后跟側(cè)區(qū)域構(gòu)成的群中選出的1個以上的位置。

(6)寬度小的部分被配置于由頂側(cè)區(qū)域、底側(cè)區(qū)域、趾側(cè)區(qū)域以及后跟側(cè)區(qū)域構(gòu)成的群中選出的2個以上的位置。

(7)寬度小的部分被配置于由頂側(cè)區(qū)域、底側(cè)區(qū)域、趾側(cè)區(qū)域以及后跟側(cè)區(qū)域構(gòu)成群中選出的3個以上的位置。

(8)寬度小的部分被分別配置于頂側(cè)區(qū)域、底側(cè)區(qū)域、趾側(cè)區(qū)域以及后跟側(cè)區(qū)域。

(9)頂側(cè)區(qū)域中,寬度小的部分被配置于形心cf的趾側(cè)和形心cf的后跟側(cè)。

(10)在底側(cè)區(qū)域中,寬度小的部分被配置于形心cf的趾側(cè)和形心cf的后跟側(cè)。

(11)趾側(cè)區(qū)域中,寬度小的部分被配置于形心cf的下側(cè)和形心cf的上側(cè)。

(12)在后跟側(cè)區(qū)域中,寬度小的部分被配置于形心cf的下側(cè)和形心cf的上側(cè)。

(13)寬度小的部分被配置于后跟側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏上側(cè)的第1位置,和趾側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏下側(cè)的第2位置。

(14)寬度小的部分被配置于趾側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏上側(cè)的第1位置,和后跟側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏下側(cè)的第2位置。

(15)寬度小的部分配置于頂側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏后跟側(cè)的第1位置,和底側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏趾側(cè)的第2位置。

(16)寬度小的部分被配置于底側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏后跟側(cè)的第1位置,和頂側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏趾側(cè)的第2位置。

(17)寬度小的部分被配置于頂側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏后跟側(cè)的第1位置,和底側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏后跟側(cè)的第2位置。

(18)寬度小的部分被配置于頂側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏趾側(cè)的第1位置,和底側(cè)區(qū)域并且相對于形心cf偏趾側(cè)的第2位置。

(19)第1分區(qū)sg1中的突出部pr1的平均寬度大于第2分區(qū)sg2中的突出部pr1的平均寬度。

實(shí)施例

以下,通過實(shí)施例明確本發(fā)明的效果,但不應(yīng)該基于該實(shí)施例的記載而局限性地理解本發(fā)明。

[實(shí)施例]

制作與上述桿頭2相同的桿頭。準(zhǔn)備面板p1以及桿頭主體(變形前主體)h1p。通過鑄造制作桿頭主體h1p。該桿頭主體h1p的底部安裝配重件wt。配重件wt的材質(zhì)為鎢鎳合金。該桿頭主體h1p具有變形前凸部d2。該變形前凸部d2形成于開口部14的周圍的整體。桿頭主體h1p的材質(zhì)為不銹鋼(sus630)。面板p1切自板材(軋制材料)。通過nc加工削去面板p1的板后表面b1,形成所要求的突出部pr1。由于已加工面板p1,突出部pr1容易形成。面板p1的材質(zhì)是鈦合金。作為該鈦合金,可以使用新日鐵住金公司制造的super-tix(注冊商標(biāo))。

該面板p1被嵌入于桿頭主體h1p的開口部14。接著,進(jìn)行上述填縫工序,變形前凸部d2變?yōu)樗苄宰冃尾縟1。由此得到實(shí)施例的桿頭。

像這樣,通過對安裝于桿頭主體h1p前的面板p1進(jìn)行加工,能夠容易地形成突出部pr1。

如上所示,本發(fā)明的優(yōu)越性明顯。

【產(chǎn)業(yè)上的可利用性】

本發(fā)明能夠應(yīng)用于木桿型桿頭、實(shí)用型桿頭、混合型桿頭、鐵頭型桿頭、推桿頭等所有的高爾夫球桿頭。

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