效應(yīng)是足夠的。通過布置裝置背面上的離子出口或全部的離子出口，可發(fā)生離子排放而不存在由使用者的手或由位于離子出口前面的毛發(fā)束造成的機(jī)械障礙。
[0016]原則上，單一離子出口可為足夠的。任選地，也可能在裝置背面上布置多個(gè)離子出口。在這兩種情況下，均優(yōu)選使所述布置對稱于毛發(fā)護(hù)理裝置的縱向中心平面。優(yōu)選地，所述至少一個(gè)離子出口或多個(gè)離子出口以如下方式產(chǎn)生:離子的主排出方向或離子的主排出方向的總和取向在背部表面的平面中，或?qū)ΨQ于縱向中心平面而取向在背面的表面上。此處，離子出口的主排出方向有利地取向成基本平行于背部表面，以便離子基本平行于裝置的背面排出，從而移動(dòng)通過此側(cè)。作為另外一種選擇或除此之外，還可提供以很小的銳角擴(kuò)展的離子發(fā)射。此處，離子排放可與背面的表面傾斜成優(yōu)選0°至45°，優(yōu)選0°至30°的角度。
[0017]為了獲得在毛發(fā)上的均勻的離子分布，將所述至少一個(gè)離子出口布置在與毛發(fā)處理裝置相對定位的裝置背部表面的邊緣上，以便在功能頭的背面上形成離子云。
[0018]如果僅存在單一離子出口，則將該出口有利地布置在縱向中心平面自身中。在裝置背面上存在兩個(gè)離子出口的情況下，可將它們布置成與縱向中心平面相距一定距離，相對于彼此處在相同的水平上，并且優(yōu)選它們兩者均可背離縱向中心平面而略微傾斜。作為另外一種選擇，在給定裝置的背面上的兩個(gè)離子出口的情況下可提供一種布置，其中它們彼此相對定位，使得這兩個(gè)離子出口布置在向后的功能頭表面的相對邊緣上并且指向彼此以便例如離子朝彼此排出。
【附圖說明】
[0019]本發(fā)明的這些和其它特征是基于權(quán)利要求以及以下說明和/或附圖，其中所述特征可以彼此的各種組合和子組合的方式以及單獨(dú)的方式形成本發(fā)明的主題，而不考慮它們在權(quán)利要求中的概述。在下文中，將根據(jù)優(yōu)選的示例性實(shí)施方案和附圖來更詳細(xì)地說明本發(fā)明。
[0020]圖1顯示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)有利實(shí)施方案的呈毛發(fā)刷形式的毛發(fā)護(hù)理裝置的背面的頂視圖，其顯示了功能頭的背面的邊緣上的處于縱向中心平面中的離子出口。
[0021]圖2顯示沿圖1中的線A-A穿過圖1的毛發(fā)刷的縱截面，其中功能頭上的接地表面設(shè)置在提供在那里的齒區(qū)的下方。
[0022]圖3顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的毛發(fā)刷的正面的頂視圖，其中所提供的功能頭上的接地表面呈在邊緣處圍繞齒區(qū)的金屬條的形式。
[0023]圖4顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的毛發(fā)刷的背面的頂視圖，其顯示了對稱于縱向中心平面而布置在功能頭的背面的邊緣上的兩個(gè)離子出口。
[0024]圖5顯示圖4的毛發(fā)刷的正視圖，其顯示了離子出口的主排出方向，所述方向相對于彼此擴(kuò)展并且基本上平行于毛發(fā)刷的背部表面延伸。
[0025]圖6顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的毛發(fā)刷的背面的頂視圖，其中所提供的兩個(gè)離子出口處在毛發(fā)刷的縱向中心平面中，彼此相對指向。
[0026]圖7顯示沿圖6中的線A-A的毛發(fā)刷的縱截面，其顯示了毛發(fā)刷的背面上的離子出口的不同傾斜度。
[0027]圖8顯示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)有利實(shí)施方案的離子出口和其出口外殼的示意透視圖，其中出口外殼的底板表面被設(shè)計(jì)為接地表面。
[0028]圖9顯示圖8的離子出口的端口側(cè)的正面頂視圖。
[0029]圖10顯示穿過前述兩個(gè)圖的離子出口的縱截面。
[0030]圖11顯示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)可供選擇的有利實(shí)施方案的離子出口透視示意圖，其中出口外殼的底板的僅部分區(qū)域被設(shè)計(jì)為接地表面。
[0031]圖12顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的離子出口的示意透視圖，其中出口外殼的側(cè)面被局部地設(shè)計(jì)為接地表面。
[0032]圖13顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的離子出口的示意透視圖，其中出口外殼的與端口側(cè)相對的背面被設(shè)計(jì)為接地表面。
[0033]圖14顯示根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)有利實(shí)施方案的離子出口的示意透視圖，其中出口外殼的兩個(gè)相對的側(cè)面每個(gè)均被局部地設(shè)計(jì)為接地表面。
【具體實(shí)施方式】
[0034]圖1和2所示的毛發(fā)護(hù)理裝置I包括裝置基體2，所述基體具有柄部3并且在其內(nèi)部中或在其外殼上具有下述的電子器件。所述柄部3承載功能頭4，所述頭部在裝置的正面7上保持作為毛發(fā)處理裝置5的刷區(qū)6。然而，應(yīng)當(dāng)了解，如果毛發(fā)護(hù)理裝置被設(shè)計(jì)為毛發(fā)成型裝置和/或毛發(fā)烘干機(jī)，則也可提供其它毛發(fā)處理工具例如加熱棒或毛發(fā)成型元件、或任選的鼓風(fēng)機(jī)出口。所述毛發(fā)處理工具也可任選地彼此組合。
[0035]所述毛發(fā)處理裝置可固定地一體形成到功能頭4中。作為另外一種選擇，毛發(fā)處理裝置5可有利地以可互換的形式安裝在功能頭4上，以便功能頭4可裝備和使用各種毛發(fā)處理裝置5。
[0036]有利的是，毛發(fā)護(hù)理裝置I可具有包括多個(gè)組件的模組化設(shè)計(jì)，所述組件可放置在彼此上，其中特別是整個(gè)功能頭4、和/或以所述方式毛發(fā)處理裝置5可被設(shè)計(jì)成與裝置基體2分離。此處，可有利地在各種組件之間提供例如呈按扣銷軸和凹槽形式的型面配合連接部件，從而可將組件去除和放回到適當(dāng)位置中而無需使用工具。
[0037]如圖1和2所示，離子排放裝置9附加地設(shè)置在裝置基體2上，即設(shè)置在背離毛發(fā)處理裝置5的裝置的背面8上，所述排放裝置具有布置在裝置基體2的內(nèi)部空間中的離子發(fā)射器10，和/或可具有布置在離子出口 11中的用于排放離子的高電壓元件12。所述高電壓元件12可布置在盒型或夾套型出口外殼13中，所述外殼的壁在端口側(cè)14上具有排出開口 17，所排放的離子可通過該開口排出。
[0038]在所描繪的實(shí)施方案中，離子出口 11被設(shè)計(jì)成噴嘴或擴(kuò)散器的形式，因而導(dǎo)致離子的定向排出；參見圖2。有利的是，離子出口 11布置在裝置的背面8上，所述背面與刷區(qū)6相對定位，或背離刷區(qū)并且形成例如毛發(fā)刷的背面。有利的是，此處的離子出口 11布置在縱向中心平面18中，所述平面形成圖2中的圖的平面，其中離子出口 11的主排出方向19有利地與裝置背面的表面傾斜成很小的銳角并且取向成與其背離；參見圖2，其中傾斜角有利地介于0°和45°之間，并且在所描繪的實(shí)施方案中可有利地介于大約20°和30°之間。如圖1和2所示，離子出口 11布置在功能頭的背部表面的邊緣上，所述背部表面布置成與刷區(qū)6相對，以便從離子出口 11排出的離子可在功能頭4的背面上形成離子云。特別是，離子出口 11可如圖1所示粗略地講大致布置在柄部3和功能頭4之間的過渡區(qū)域中。
[0039]將能源單元(其未示出)封裝在裝置基體2的內(nèi)部中，所述單元可被優(yōu)選地設(shè)計(jì)成電池裝置或可再充電裝置的形式。有利的是，毛發(fā)護(hù)理裝置I被設(shè)計(jì)成為能量自給自足的；即，其不具有可通過電源插座供電的永久電源部件。當(dāng)然，可插接電源電纜以便可對裝置基體2內(nèi)的蓄電池進(jìn)行充電?？赏ㄟ^所述能源單元向離子排放裝置9提供能量以便生成離子。
[0040]如圖2所示，毛發(fā)護(hù)理裝置I有利地具有接地裝置20，以便避免不希望有的裝置帶電和對離子排出的損害并且可改善裝置的操作安全性。在根據(jù)圖2的所繪實(shí)施方案中，接地裝置20在功能頭4的區(qū)域中可具有接地表面21，所述接地表面可防止大電荷場積聚在功能頭4的區(qū)域中，特別是積聚在毛發(fā)處理裝置5的區(qū)域中。在根據(jù)圖2的實(shí)施方案中，接地表面21直接連接到毛發(fā)處理裝置5上，其中接地表面被設(shè)計(jì)為承載體并且位于成形到其上的毛發(fā)處理裝置5的下方；參見圖2。此處，接地表面21有利地由連結(jié)到功能頭主體上的金屬表面和/或金屬涂層制成，所述主體否則由塑料制成。接地表面21可連接到裝置電位上，特別是連接到布置在裝置內(nèi)的接地組件上。
[0041]作為另外一種選擇或除此之外，功能頭上的接地表面21也可具有金屬表面體，所述金屬表面體布置在刷區(qū)6的邊緣上，優(yōu)選呈環(huán)形地圍繞刷區(qū)6或如圖3所示以U形在三個(gè)側(cè)面上包圍刷區(qū)的金屬條的形式。刷區(qū)6和功能頭4的主體的其余部分可被設(shè)計(jì)成非導(dǎo)電的，特別是由塑料制成