一種超聲波清洗設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種超聲波清洗設(shè)備，包括依次設(shè)置的上料輸送裝置、超聲波清洗裝置、風(fēng)刀干燥裝置及下料輸送裝置，超聲波清洗裝置、風(fēng)刀干燥裝置、上料輸送裝置及下料輸送裝置的上方對應(yīng)設(shè)有機械臂動作裝置，上料輸送裝置、超聲波清洗裝置、風(fēng)刀干燥裝置、下料輸送裝置及機械臂動作裝置分別與電控柜控制連接。在電控柜的控制作用下，裝載有多晶硅片的料筐放置在輸送線上，經(jīng)過上料輸送裝置到指定位置，此時機械臂動作裝置固持料筐依次經(jīng)過超聲波清洗裝置完成清洗工序及風(fēng)刀干燥裝置完成風(fēng)切干燥工序，最后放置在下料輸送裝置上送出。該超聲波清洗設(shè)備適用于多晶硅片的清洗，提高了清洗過程的自動化程度，生產(chǎn)效率較高，清洗質(zhì)量較高。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及一種超聲波清洗設(shè)備，尤其涉及適用于多晶硅片等多晶硅產(chǎn)品清 洗的超聲波清洗設(shè)備。 一種超聲波清洗設(shè)備

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)有技術(shù)中對多晶硅片的超聲波清洗，通常采用人工操作，采用單個的超聲波清 洗機，人工投料、人工控制超聲波清洗機以及最后人工實現(xiàn)清洗完成后的卸料，整個過程自 動化程度低，生產(chǎn)效率較低，清洗質(zhì)量較差。 實用新型內(nèi)容
[0003] 本實用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的問題，提供一種超聲波清洗設(shè)備，其 適用于多晶硅片的清洗，可提高清洗過程的自動化程度，生產(chǎn)效率較高，清洗質(zhì)量較高。
[0004] 本實用新型的目的是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)：
[0005] -種超聲波清洗設(shè)備，包括依次設(shè)置的上料輸送裝置、超聲波清洗裝置、風(fēng)刀干燥 裝置及下料輸送裝置，所述超聲波清洗裝置、所述風(fēng)刀干燥裝置、所述上料輸送裝置及所述 下料輸送裝置的上方對應(yīng)設(shè)有機械臂動作裝置，所述上料輸送裝置、超聲波清洗裝置、風(fēng)刀 干燥裝置、下料輸送裝置及機械臂動作裝置分別與電控柜控制連接。
[0006] 在電控柜的控制作用下，裝載有多晶硅片的料筐放置在輸送線上，經(jīng)過上料輸送 裝置到指定位置，此時機械臂動作裝置固持料筐依次經(jīng)過超聲波清洗裝置完成清洗工序及 風(fēng)刀干燥裝置完成風(fēng)切干燥工序，最后放置在下料輸送裝置上送出。
[0007] 需要說明的是，電控柜的設(shè)計原理在現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)非常成熟，不再贅述。風(fēng)刀干 燥裝置可直接來源于市售產(chǎn)品，通常為帶風(fēng)切槽的風(fēng)切裝置及空氣加熱裝置的組合，本領(lǐng) 域普通技術(shù)人員根據(jù)該裝置的作用可直接從現(xiàn)有技術(shù)的存在中獲得，亦不再贅述。
[0008] 為了提高工作效率及清洗質(zhì)量，更好地適應(yīng)多晶硅片清洗生產(chǎn)的需求，所述超聲 波清洗裝置可以包括多個超聲波清洗單元，所述超聲波清洗單元具有清洗槽，所述清洗槽 的下方設(shè)有超聲波震板。
[0009] 機械臂動作裝置的設(shè)計是為了取代傳統(tǒng)的人工操作，需要具有良好的操控性能， 因此所述機械臂動作裝置包括沿輸送方向平行設(shè)置的X軸直線導(dǎo)軌，與所述X軸直線導(dǎo)軌 滑動連接的Z軸直線導(dǎo)軌，所述Z軸直線導(dǎo)軌上滑動連接有橫向支撐，所述橫向支撐的端部 固定連接有掛持裝置。掛持裝置用來固持所述料筐，掛持裝置通過橫向支撐的連接作用，在 Z軸直線導(dǎo)軌的作用下上下動作，同時Z軸直線導(dǎo)軌在X軸直線導(dǎo)軌的作用下實現(xiàn)前后動 作，從而滿足了整個清洗生產(chǎn)中的動作需求。
[0010] 為了準確控制料筐完成各個工序，所述掛持裝置活動設(shè)置在所述清洗槽或所述風(fēng) 刀干燥裝置的上方。即橫向支撐的長度以端部到達清洗槽或風(fēng)刀干燥裝置的上方中間位置 為宜。
[0011] 考慮到z軸直線導(dǎo)軌運行較X軸直線導(dǎo)軌更加頻繁，且Z軸直線導(dǎo)軌的行程較小， 需要更加精確的控制，所述Z軸直線導(dǎo)軌為滾珠絲杠式直線導(dǎo)軌，同時考慮到整個設(shè)備的 空間布局，整體呈橫向布置，因此為了控制整體的高度，所述Z軸直線導(dǎo)軌的頂端旁側(cè)設(shè)有 動力電機。
[0012] 該超聲波清洗設(shè)備還包括警示燈，所述警示燈與所述電控柜控制連接，從而具有 較好的安全報警能力。
[0013] 進一步地，所述X軸直線導(dǎo)軌、所述Z軸直線導(dǎo)軌、所述超聲波清洗單元分別與所 述電控柜連接。
[0014] 進一步地,所述清洗槽包括清洗槽本體，為了避免清洗槽本體的內(nèi)腔底部形成死 角，減少雜質(zhì)殘留，所述清洗槽本體的內(nèi)腔底部邊緣呈圓弧形，為了避免雜質(zhì)二次沉淀集中 在清洗槽本體的內(nèi)腔底部，所述清洗槽本體的頂部邊緣的外側(cè)圍設(shè)有溢流沉淀槽，從而使 雜質(zhì)隨著液體的流動進入到溢流沉淀槽，同樣為了避免溢流沉淀槽內(nèi)部形成雜質(zhì)殘留死 角，所述溢流沉淀槽的底部內(nèi)緣呈圓弧形，但是為了避免溢流沉淀槽內(nèi)的液體流動時產(chǎn)生 溢流泄漏，處于所述溢流沉淀槽的最外圍的側(cè)壁高度高于所述清洗槽本體的頂部邊緣高 度，為了及時排出液體內(nèi)的雜質(zhì)，所述溢流沉淀槽的槽底設(shè)有排水口，同時考慮到為了使雜 質(zhì)隨液體的流動自清洗槽本體順利進入溢流沉淀槽，所述清洗槽本體的頂部邊緣具有溢流 部，所述溢流部呈自內(nèi)向外過渡的弧線形狀，從而減小頂部邊緣對雜質(zhì)的阻力，避免雜質(zhì)在 頂部邊緣處堆積。
[0015] 為了進一步減小雜質(zhì)在頂部邊緣處的阻力，所述溢流部與所述清洗槽本體的外側(cè) 壁通過圓角過渡，所述圓角的半徑與所述溢流部的弧線曲率相適應(yīng)。
[0016] 進一步地，所述排水口位于所述溢流沉淀槽的底部中間位置，所述溢流沉淀槽具 有多個排水口。
[0017] 進一步地，所述清洗槽本體的底部設(shè)有超聲波震板。
[0018] 本實用新型所述的超聲波清洗設(shè)備，包括依次設(shè)置的上料輸送裝置、超聲波清洗 裝置、風(fēng)刀干燥裝置及下料輸送裝置，超聲波清洗裝置、風(fēng)刀干燥裝置、上料輸送裝置及下 料輸送裝置的上方對應(yīng)設(shè)有機械臂動作裝置，上料輸送裝置、超聲波清洗裝置、風(fēng)刀干燥裝 置、下料輸送裝置及機械臂動作裝置分別與電控柜控制連接。在電控柜的控制作用下，裝載 有多晶硅片的料筐放置在輸送線上，經(jīng)過上料輸送裝置到指定位置，此時機械臂動作裝置 固持料筐依次經(jīng)過超聲波清洗裝置完成清洗工序及風(fēng)刀干燥裝置完成風(fēng)切干燥工序，最后 放置在下料輸送裝置上送出。該超聲波清洗設(shè)備適用于多晶硅片的清洗，提高了清洗過程 的自動化程度，生產(chǎn)效率較高，清洗質(zhì)量較高。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0019] 圖1為本實用新型所述一種超聲波清洗設(shè)備一具體實施例中的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020] 圖2為圖1中的機械臂動作裝置的側(cè)視圖；
[0021] 圖3為圖1中清洗槽的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022] 圖4為圖3中P處的局部放大圖。

【具體實施方式】
[0023] 下面根據(jù)附圖和實施例對本實用新型作進一步詳細說明。
[0024] 如圖1及圖2所示，本實用新型實施例所述的一種超聲波清洗設(shè)備，包括依次設(shè)置 的上料輸送裝置1、超聲波清洗裝置2、風(fēng)刀干燥裝置3及下料輸送裝置4,超聲波清洗裝置 2、風(fēng)刀干燥裝置3、上料輸送裝置1及下料輸送裝置4的上方對應(yīng)設(shè)有機械臂動作裝置5， 上料輸送裝置1、超聲波清洗裝置2、風(fēng)刀干燥裝置3、下料輸送裝置4及機械臂動作裝置5 分別與電控柜6控制連接。
[0025] 在電控柜的控制作用下，裝載有多晶硅片的料筐放置在輸送線上，經(jīng)過上料輸送 裝置到指定位置，此時機械臂動作裝置固持料筐依次經(jīng)過超聲波清洗裝置完成清洗工序及 風(fēng)刀干燥裝置完成風(fēng)切干燥工序，最后放置在下料輸送裝置上送出。
[0026] 需要說明的是，電控柜的設(shè)計原理在現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)非常成熟，不再贅述。風(fēng)刀干 燥裝置可直接來源于市售產(chǎn)品，通常為帶風(fēng)切槽的風(fēng)切裝置及空氣加熱裝置的組合，本領(lǐng) 域普通技術(shù)人員根據(jù)該裝置的作用可直接從現(xiàn)有技術(shù)的存在中獲得，亦不再贅述。
[0027] 為了提高工作效率及清洗質(zhì)量，更好地適應(yīng)多晶硅片清洗生產(chǎn)的需求，超聲波清 洗裝置2可以包括多個超聲波清洗單元21，超聲波清洗單元具有清洗槽21a，清洗槽21a的 下方設(shè)有超聲波震板(未圖示)。在本實施例中，有四個超聲波清洗單元。
[0028] 機械臂動作裝置的設(shè)計是為了取代傳統(tǒng)的人工操作，需要具有良好的操控性能， 因此機械臂動作裝置5包括沿輸送方向a平行設(shè)置的X軸直線導(dǎo)軌7,與X軸直線導(dǎo)軌7滑 動連接的Z軸直線導(dǎo)軌8, Z軸直線導(dǎo)軌8上滑動連接有橫向支撐9,橫向支撐9的端部固 定連接有掛持裝置10。掛持裝置10用來固持料筐11，掛持裝置通過橫向支撐的連接作用， 在Z軸直線導(dǎo)軌的作用下上下動作，同時Z軸直線導(dǎo)軌在X軸直線導(dǎo)軌的作用下實現(xiàn)前后 動作，從而滿足了整個清洗生產(chǎn)中的動作需求。
[0029] 為了準確控制料筐完成各個工序，掛持裝置10活動設(shè)置在清洗槽21a或風(fēng)刀干燥 裝置3的上方。即橫向支撐9的長度以端部到達清洗槽或風(fēng)刀干燥裝置的上方中間位置為 且。
[0030] 考慮到Z軸直線導(dǎo)軌運行較X軸直線導(dǎo)軌更加頻繁，且Z軸直線導(dǎo)軌的行程較小， 需要更加精確的控制，Z軸直線導(dǎo)軌8為滾珠絲杠式直線導(dǎo)軌，同時考慮到整個設(shè)備的空間 布局，整體呈橫向布置，因此為了控制整體的高度，Z軸直線導(dǎo)軌8的頂端旁側(cè)設(shè)有動力電 機81。
[0031] 該超聲波清洗設(shè)備還包括警示燈12,警示燈12與電控柜6控制連接，從而具有較 好的安全報警能力。
[0032] X軸直線導(dǎo)軌7、Z軸直線導(dǎo)軌8、超聲波清洗單元21分別與電控柜6連接。
[0033] 如圖3及圖4所示，清洗槽21a包括清洗槽本體211，為了避免清洗槽本體的內(nèi)腔 底部形成死角，減少雜質(zhì)殘留，清洗槽本體211的內(nèi)腔底部邊緣211a呈圓弧形，為了避免雜 質(zhì)二次沉淀集中在清洗槽本體的內(nèi)腔底部，清洗槽本體1的頂部邊緣21 lb的外側(cè)圍設(shè)有溢 流沉淀槽212,從而使雜質(zhì)隨著液體的流動進入到溢流沉淀槽，同樣為了避免溢流沉淀槽內(nèi) 部形成雜質(zhì)殘留死角，溢流沉淀槽212的底部內(nèi)緣212a呈圓弧形，但是為了避免溢流沉淀 槽內(nèi)的液體流動時產(chǎn)生溢流泄漏，處于溢流沉淀槽212的最外圍的側(cè)壁212b高度高于清洗 槽本體211的頂部邊緣211b高度，為了及時排出液體內(nèi)的雜質(zhì)，溢流沉淀槽212的槽底設(shè) 有排水口 213,同時考慮到為了使雜質(zhì)隨液體的流動自清洗槽本體順利進入溢流沉淀槽，清 洗槽本體211的頂部邊緣211b具有溢流部214,溢流部214呈自內(nèi)向外過渡的弧線形狀，從 而減小頂部邊緣對雜質(zhì)的阻力，避免雜質(zhì)在頂部邊緣處堆積。
[0034] 為了進一步減小雜質(zhì)在頂部邊緣處的阻力，溢流部214與清洗槽本體211的外側(cè) 壁211c通過圓角21 Id過渡，圓角21 Id的半徑與溢流部214的弧線曲率相適應(yīng)。
[0035] 排水口 213位于溢流沉淀槽212的底部中間位置，溢流沉淀槽212具有多個排水 □ 213。
[0036] 清洗槽本體211的底部設(shè)有超聲波震板215。在清洗槽底部設(shè)置的超聲波震板的 作用下，雜質(zhì)隨液體流動至溢流沉淀槽，最后順利排出，有效改善提升了超聲波清洗槽的排 污能力。
[0037] 以上所述僅為說明本實用新型的實施方式，并不用于限制本實用新型，對于本領(lǐng) 域的技術(shù)人員來說，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進 等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，包括依次設(shè)置的上料輸送裝置、超聲波清洗裝 置、風(fēng)刀干燥裝置及下料輸送裝置，所述超聲波清洗裝置、所述風(fēng)刀干燥裝置、所述上料輸 送裝置及所述下料輸送裝置的上方對應(yīng)設(shè)有機械臂動作裝置，所述上料輸送裝置、超聲波 清洗裝置、風(fēng)刀干燥裝置、下料輸送裝置及機械臂動作裝置分別與電控柜控制連接。
2. 如權(quán)利要求1所述的超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，所述超聲波清洗裝置包括多個 超聲波清洗單元，所述超聲波清洗單元具有清洗槽，所述清洗槽的下方設(shè)有超聲波震板。
3. 如權(quán)利要求2所述的超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，所述機械臂動作裝置包括沿輸 送方向平行設(shè)置的X軸直線導(dǎo)軌，與所述X軸直線導(dǎo)軌滑動連接的Z軸直線導(dǎo)軌，所述Z軸 直線導(dǎo)軌上滑動連接有橫向支撐，所述橫向支撐的端部固定連接有掛持裝置。
4. 如權(quán)利要求3所述的超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，所述掛持裝置活動設(shè)置在所述 清洗槽或所述風(fēng)刀干燥裝置的上方。
5. 如權(quán)利要求3所述的超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，所述Z軸直線導(dǎo)軌為滾珠絲杠式 直線導(dǎo)軌，所述Z軸直線導(dǎo)軌的頂端旁側(cè)設(shè)有動力電機。
6. 如權(quán)利要求5所述的超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，所述X軸直線導(dǎo)軌、所述Z軸直 線導(dǎo)軌、所述超聲波清洗單元分別與所述電控柜連接。
7. 如權(quán)利要求2至6任一項所述的超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗槽包括清洗 槽本體，所述清洗槽本體的內(nèi)腔底部邊緣呈圓弧形，所述清洗槽本體的頂部邊緣的外側(cè)圍 設(shè)有溢流沉淀槽，所述溢流沉淀槽的底部內(nèi)緣呈圓弧形，處于所述溢流沉淀槽的最外圍的 側(cè)壁高度高于所述清洗槽本體的頂部邊緣高度，所述溢流沉淀槽的槽底設(shè)有排水口，所述 清洗槽本體的頂部邊緣具有溢流部，所述溢流部呈自內(nèi)向外過渡的弧線形狀。
8. 如權(quán)利要求7所述的超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，所述溢流部與所述清洗槽本體 的外側(cè)壁通過圓角過渡，所述圓角的半徑與所述溢流部的弧線曲率相適應(yīng)。
9. 如權(quán)利要求8所述的超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，所述排水口位于所述溢流沉淀 槽的底部中間位置，所述溢流沉淀槽具有多個排水口。
10. 如權(quán)利要求9所述的超聲波清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗槽本體的底部設(shè)有超 聲波震板。
【文檔編號】B08B13/00GK203900017SQ201420265513
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年5月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月23日
【發(fā)明者】楊志忠 申請人:無錫妤卓蘭科技有限公司