全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其利用兆聲波發(fā)生器產(chǎn)生的兆聲波進(jìn)入到設(shè)置在腔體中的兆聲清洗機(jī)構(gòu)，從進(jìn)水端進(jìn)入的潔凈DI水會(huì)對(duì)應(yīng)帶上超聲波能量，將正在清洗盤上旋轉(zhuǎn)的工件上的污染物擊穿氣化；同時(shí)利用二流體清洗機(jī)構(gòu)進(jìn)入潔凈DI水與進(jìn)入的壓縮空氣進(jìn)行混合產(chǎn)生霧化去離子水分子，而霧化后的水分子可以充滿整個(gè)腔體及工件的小縫隙，達(dá)到完全清洗的效果。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明利用二流體、高頻兆聲波及離子風(fēng)相結(jié)合的清洗方式，實(shí)現(xiàn)了對(duì)高精密半導(dǎo)體晶圓的清洗，滿足了其潔凈度的要求；同時(shí)本發(fā)明還利用清洗完后快速離心甩干實(shí)現(xiàn)了高精密半導(dǎo)體晶圓的干燥，有效提高了工作效率，保證了清洗的效果。
【專利說明】全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】:
[0001]本發(fā)明屬于半導(dǎo)體清洗【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及的是一種全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備。
【背景技術(shù)】:
[0002]晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片，由于其形狀為圓形，故稱為晶圓；在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu)，而成為有特定電性功能的IC產(chǎn)品。而隨著半導(dǎo)體晶圓上集成電路尺寸向微米級(jí)發(fā)展，對(duì)半導(dǎo)體晶圓制作過程中的清洗要求也越來越高，尤其是半導(dǎo)體晶圓在制作過程中如遭到塵粒、金屬的污染，很容易造成晶片內(nèi)電路功能的損壞，形成短路或斷路等，從而導(dǎo)致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。因此在制作過程中除了要排除外界的污染源外，還需要進(jìn)行清洗工作，以在不破壞晶圓表面特性及電特性的前提下，有效地使用化學(xué)溶液或氣體清除殘留在晶圓上的微塵、金屬離子及有機(jī)物等雜質(zhì)。
[0003]由于待清洗晶圓表面殘留物種類主要包括微粒、金屬離子、有機(jī)物及自然氧化物。而這些殘留物中又以金屬離子對(duì)半導(dǎo)體組件的電氣特性影響最大。為了保證清洗效果，目前大多采用單晶圓清洗設(shè)備進(jìn)行清洗，單晶圓清洗設(shè)備主要采用噴淋清洗，其能夠提高過程環(huán)境控制能力與微粒去除率，有效解決晶圓經(jīng)清洗后所造成腐蝕破壞等現(xiàn)象，具有設(shè)備占地小、化學(xué)品與純水耗量少等優(yōu)點(diǎn)。
[0004]但是隨著航空科技、太空科技的進(jìn)一步認(rèn)識(shí)和開發(fā)探索，要求越來越精密的電路板、Wafer和半導(dǎo)體元器件，一般單晶圓清洗設(shè)備的噴淋清洗已經(jīng)無法達(dá)到高精密晶圓的潔凈度要求，這就需要在原來的基礎(chǔ)上研制出能適應(yīng)這一要求的高端精密清洗設(shè)備。

【發(fā)明內(nèi)容】
:
[0005]為此，本發(fā)明的目的在于提供一種全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，以實(shí)現(xiàn)對(duì)高精密半導(dǎo)體晶圓的清洗，以滿足其潔凈度要求。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明主要采用以下技術(shù)方案:
[0007]—種全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備,包括:
[0008]殼體(10)及設(shè)置于殼體(10)上方的腔體(12)；
[0009]所述殼體(10)中固定安裝有電控箱(11)、兆聲波發(fā)生器(13)、主軸升降機(jī)構(gòu)(20)和真空吸附機(jī)構(gòu)(30 )，所述兆聲波發(fā)生器(13 )與電控箱(11)連接；
[0010]所述主軸升降機(jī)構(gòu)(20)包括氣缸(21)、伺服電機(jī)(22)、氣缸托架(23)、減震墊
(24)、滑動(dòng)板(31)、直線軸(32)、主軸軸套(33)和直線軸固定件(34)，所述伺服電機(jī)(22)與電控箱(11)連接，所述氣缸托架(23 )安裝在氣缸(21)上端，通過氣缸(21)控制上升或下降；所述滑動(dòng)板(31)下端通過減震墊(24)與氣缸托架(23)連接，上端設(shè)置有主軸軸套(33)和多個(gè)直線軸(32 )，所述直線軸(32 )上端固定在直線軸固定件(34)上；
[0011]所述真空吸附機(jī)構(gòu)(30)包括安裝在電控箱(11)中的真空發(fā)生器，所述真空發(fā)生器通過氣管與設(shè)置在主軸軸套(33)內(nèi)的密閉腔體連通，通過真空發(fā)生器將密閉腔體內(nèi)的空氣抽干，以形成真空吸附，便于安裝和取放工件；
[0012]所述腔體(12)中設(shè)置有一清洗盤(50)，所述清洗盤(50)上方設(shè)置有二流體清洗機(jī)構(gòu)(60 )和兆聲波清洗機(jī)構(gòu)(70 );所述清洗盤(50 )底部設(shè)置有光軸(53 )，所述光軸(53 )位于軸軸套(33)中且與所述伺服電機(jī)(22)連接，通過所述伺服電機(jī)(22)帶動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)；
[0013]所述兆聲波清洗機(jī)構(gòu)(70)包括兆聲波清洗頭(71)，所述兆聲波清洗頭(71)上設(shè)置有兆聲波進(jìn)線端(72)、進(jìn)水端(73)和噴嘴(74)，所述聲波清洗頭(71)通過兆聲波進(jìn)線端
(72)與兆聲波發(fā)生器(13)連接；
[0014]二流體清洗機(jī)構(gòu)(60 )包括噴桿(61)和二流體噴頭(62 )，所述二流體噴頭(62 )上設(shè)置有二流體霧化出口端(65)、與噴桿(61)連接的二流體進(jìn)水端(63)及與外部空壓機(jī)連接的二流體進(jìn)氣端(64 )。
[0015]優(yōu)選地，所述殼體(10)中還固定安裝有一與電控箱(11)連接的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(40)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(40)分別與二流體清洗機(jī)構(gòu)(60)、兆聲波清洗機(jī)構(gòu)(70)連接,用于控制二流體清洗機(jī)構(gòu)(60 )、兆聲波清洗機(jī)構(gòu)(70 )在腔體(12 )中轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0016]優(yōu)選地，所述殼體(10)中還設(shè)置有一分別與進(jìn)水端(73)、噴桿(61)連接的進(jìn)水管，該進(jìn)水管與外部水泵連接。
[0017]優(yōu)選地，所述殼體(10)中還設(shè)置有一與清洗盤(50)連接的排水管(15)。
[0018]優(yōu)選地，所述真空吸附機(jī)構(gòu)(30)還包括有一位于清洗盤(50)底部的吸盤固定葉輪(52)，所述吸盤固定葉輪(52)與主軸軸套(33)內(nèi)密閉腔體連通，用于將放置在清洗盤
(50)上的工件通過大氣壓壓緊在清洗盤(50)上。
[0019]優(yōu)選地，所述清洗盤(50)的外側(cè)還設(shè)置有一擋水板(51)。
[0020]優(yōu)選地,所述殼體(10)中還固定安裝有流量計(jì)(16)。
[0021 ] 優(yōu)選地，所述腔體(12 )上方還設(shè)置有一由風(fēng)扇(81)、過濾層(802 )和過濾芯(803 )構(gòu)成的空氣過濾機(jī)構(gòu)(80 )。
[0022]本發(fā)明中兆聲波發(fā)生器產(chǎn)生的兆聲波進(jìn)入到設(shè)置在腔體中的兆聲清洗機(jī)構(gòu)，從進(jìn)水端進(jìn)入的潔凈DI水會(huì)對(duì)應(yīng)帶上超聲波能量，將正在清洗盤上旋轉(zhuǎn)的工件上的污染物擊穿氣化；同時(shí)利用二流體清洗機(jī)構(gòu)進(jìn)入潔凈DI水與進(jìn)入的壓縮空氣進(jìn)行混合產(chǎn)生霧化去離子水分子，而霧化后的水分子可以充滿整個(gè)腔體及工件的小縫隙，達(dá)到完全清洗的效果。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明利用二流體、高頻兆聲波及離子風(fēng)相結(jié)合的清洗方式，實(shí)現(xiàn)了對(duì)高精密半導(dǎo)體晶圓的清洗，滿足了其潔凈度的要求；同時(shí)本發(fā)明還利用清洗完后快速離心甩干實(shí)現(xiàn)了高精密半導(dǎo)體晶圓的干燥，有效提高了工作效率，保證了清洗的效果。
【專利附圖】

【附圖說明】:
[0023]圖1為本發(fā)明全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備的殼體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖2為本發(fā)明全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖3為本發(fā)明主軸升降及真空吸附機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖4為本發(fā)明清洗盤的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖5為本發(fā)明兆聲波清洗機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖6為本發(fā)明二流體清洗機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；[0029]圖7為本發(fā)明空氣過濾機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖8為本發(fā)明全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備的原理圖。
[0031]圖中標(biāo)識(shí)說明:殼體10、電控箱11、腔體12、兆聲波發(fā)生器13、腳輪14、排水管15、流量計(jì)16、抽風(fēng)口 17、主軸升降機(jī)構(gòu)20、氣缸21、伺服電機(jī)22、氣缸托架23、減震片24、真空吸附機(jī)構(gòu)30、滑動(dòng)板31、直線軸32、主軸軸套33、直線軸固定件34、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)40、清洗盤50、擋水板51、吸盤固定葉輪52、光軸53、二流體清洗機(jī)構(gòu)60、噴桿61、二流體噴頭62、二流體進(jìn)水端63、二流體進(jìn)氣端64、二流體霧化出口端65、兆聲波清洗機(jī)構(gòu)70、兆聲波清洗頭71、兆聲波進(jìn)線端72、進(jìn)水端73、噴嘴74、空氣過濾機(jī)構(gòu)80、風(fēng)扇81、過濾層802、過濾芯803。
【具體實(shí)施方式】:
[0032]為闡述本發(fā)明的思想及目的，下面將結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的說明。
[0033]請(qǐng)參見圖1、圖2所示，圖1為本發(fā)明全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備的殼體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明實(shí)施例提供的是一種全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其主要用于實(shí)現(xiàn)了對(duì)高精密半導(dǎo)體晶圓的清洗，滿足了其潔凈度的要求。
[0034]其中該清洗設(shè)備包括有:殼體10、設(shè)置于殼體10上方的腔體12以及安裝在腔體12上方的空氣過濾機(jī)構(gòu)80。殼體10是本發(fā)明的基本構(gòu)架及支撐部分，腔體12為半導(dǎo)體等工件(晶圓)的清洗場(chǎng)所，整個(gè)殼體及腔體的材質(zhì)為sus304，耐酸堿腐蝕且經(jīng)久耐用。
[0035]殼體10底部對(duì)應(yīng)安裝有腳輪14，以便于整個(gè)設(shè)備的搬運(yùn)。殼體10中對(duì)應(yīng)安裝有電控箱11、兆聲波發(fā)生器13、排水管15、流量計(jì)16、主軸升降機(jī)構(gòu)20、真空吸附機(jī)構(gòu)30和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)40。其中兆聲波發(fā)生器13與電控箱11連接，以對(duì)應(yīng)產(chǎn)生所需要的兆聲波，本實(shí)施例中兆聲波的頻率可達(dá)95kHz，能使DI水瞬間帶上超聲波的能量，清洗效果好。
[0036]腔體12中設(shè)置有清洗盤50,所述清洗盤50的外側(cè)還設(shè)置有擋水板51,所述擋水板51上對(duì)應(yīng)設(shè)置有與上述排水管15連接的排水孔，以便于將清洗后的廢液通過排水管15排出。
[0037]在清洗盤50前方對(duì)應(yīng)安裝有可打開關(guān)閉的玻璃門，清洗盤50上方設(shè)置有一個(gè)二流體清洗機(jī)構(gòu)60和一個(gè)兆聲波清洗機(jī)構(gòu)70 ;且所述二流體清洗機(jī)構(gòu)60和兆聲波清洗機(jī)構(gòu)70均與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)40連接，通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)40控制實(shí)現(xiàn)在腔體12中轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)清洗工件時(shí)，轉(zhuǎn)動(dòng)到清洗盤50的上方；當(dāng)清洗工件完成后，對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)到腔體12的側(cè)壁，以防止有水滴落到工件上，造成工件污染。
[0038]在殼體10內(nèi)或外部還對(duì)應(yīng)安裝有水泵和空壓機(jī)，以將DI水(去離子水)對(duì)應(yīng)送入到上述二流體清洗機(jī)構(gòu)60和兆聲波清洗機(jī)構(gòu)70中，及同時(shí)將壓縮空氣對(duì)應(yīng)送入到二流體清洗機(jī)構(gòu)60中，以形成霧化去離子水分子。
[0039]如圖2、圖3、圖4所示，所述主軸升降機(jī)構(gòu)20包括氣缸21、伺服電機(jī)22、氣缸托架23、減震墊24、滑動(dòng)板31、直線軸32、主軸軸套33和直線軸固定件34，所述伺服電機(jī)22與電控箱11連接，所述氣缸托架23安裝在氣缸21上端，通過氣缸21控制上升或下降；所述滑動(dòng)板31下端通過減震墊24與氣缸托架23連接，上端設(shè)置有主軸軸套33和多個(gè)直線軸32，所述直線軸32上端固定在直線軸固定件34上。[0040]主軸軸套33內(nèi)設(shè)置有一個(gè)密閉腔體，在主軸軸套33外側(cè)設(shè)置有一個(gè)與該密封腔體連通的真空吸附孔。
[0041]真空吸附機(jī)構(gòu)30包括安裝在電控箱11中的真空發(fā)生器和位于清洗盤50底部的吸盤固定葉輪52，所述真空發(fā)生器通過氣管、真空吸附孔與設(shè)置在主軸軸套33內(nèi)的密閉腔體連通，所述吸盤固定葉輪52與主軸軸套33內(nèi)密閉腔體連通，且當(dāng)真空發(fā)生器將密閉腔體內(nèi)的空氣抽干，形成真空時(shí)，將清洗盤50吸附，而由于清洗盤50上對(duì)應(yīng)設(shè)置有用于放置工件的孔，通過外部大氣壓可將待清洗的工件壓緊在清洗盤50上，從而對(duì)工件形成真空吸附，便于安裝和取放工件。
[0042]清洗盤50底部設(shè)置有光軸53，所述光軸53位于主軸軸套33中且與所述伺服電機(jī)22連接，通過所述伺服電機(jī)22帶動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)；所述吸盤固定葉輪52與氣缸21連接，可對(duì)應(yīng)吸附在清洗盤50上。
[0043]主軸升降機(jī)構(gòu)20運(yùn)行過程中，當(dāng)其降至最低位置，此時(shí)清洗盤50是比玻璃門低一些的(這樣高速離心工作時(shí)比較安全)，當(dāng)工作結(jié)束要取件時(shí)，主軸升降機(jī)構(gòu)20升至最高位置，此時(shí)至少與玻璃門平齊，甚至高一些，便于取件。
[0044]本設(shè)備中伺服電機(jī)22和光軸53通過主軸軸套33固定在滑動(dòng)板31上，然后吸盤固定葉輪52再固定在光軸53上，而伺服電機(jī)22和光軸53之間通過聯(lián)軸器連接，伺服電機(jī)22高速旋轉(zhuǎn)就通過光軸53、聯(lián)軸器傳遞給了吸盤固定葉輪52，這樣就實(shí)現(xiàn)了高速離心清洗和干燥。
[0045]氣缸21通過氣缸托架23、直線軸32、直線軸固定件34固定在殼體10上的，這樣伺服電機(jī)22、光軸53、滑動(dòng)板31就可以通過氣缸21推動(dòng)在氣缸托架23與直線軸固定件34之間沿著直線軸32上下移動(dòng)，實(shí)現(xiàn)光軸53的升降，從而方便工件的安裝與取卸。
[0046]另外主軸軸套33、光軸53、吸盤固定葉輪52和清洗盤50通過油封形成封閉的腔體，利用真空發(fā)生器將形成的封閉`腔體中的空氣吸出，此時(shí)這個(gè)密閉的腔體就形成了真空，對(duì)應(yīng)的半導(dǎo)體膜就可以吸附在清洗盤上，在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)候可以實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的清洗。本設(shè)備中主軸上還可以安裝測(cè)速儀和測(cè)振儀，以預(yù)知及控制主軸速度和檢出設(shè)備工作時(shí)的震動(dòng)大小，從而消除設(shè)備的動(dòng)平衡問題，而且真空吸附工件半導(dǎo)體晶圓，在安裝工件時(shí)也更加方便可
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[0047]如圖2、圖3、圖5所示，兆聲波清洗機(jī)構(gòu)70包括兆聲波清洗頭71，所述兆聲波清洗頭71上設(shè)置有兆聲波進(jìn)線端72、進(jìn)水端73和噴嘴74，所述聲波清洗頭71通過兆聲波進(jìn)線端72與兆聲波發(fā)生器13連接。其中本設(shè)備中兆聲波清洗是通過兆聲波發(fā)生器、兆聲波噴頭將潔凈的DI水帶上超聲波的能量，將工件上的污染物擊穿氣化，以達(dá)到清洗的效果。
[0048]如圖2、圖3、圖6所示，二流體清洗機(jī)構(gòu)60包括噴桿61和二流體噴頭62，所述二流體噴頭62上設(shè)置有二流體霧化出口端65、與噴桿61連接的二流體進(jìn)水端63及與外部或內(nèi)部空壓機(jī)連接的二流體進(jìn)氣端64。本發(fā)明實(shí)施例中二流體清洗，就是將干凈的去離子水通過二流體噴嘴將去離子水霧化(即去離子水霧化成很小的水分子)，霧化后的很小的水分子可以充滿整個(gè)腔體及工件的小縫隙，達(dá)到完全清洗的效果。而安裝在殼體10中的流量計(jì)16則用于控制、調(diào)節(jié)氣體流量、DI水或純水流量以達(dá)到最佳的霧化效果。
[0049]如圖2、圖7所示，腔體12側(cè)壁還設(shè)置有抽風(fēng)口 17，腔體12的頂部對(duì)應(yīng)安裝有空氣過濾機(jī)構(gòu)80，所述空氣過濾機(jī)構(gòu)80由風(fēng)扇81、過濾層802和過濾芯803構(gòu)成。其中風(fēng)扇將空氣通過高效過濾芯過濾后可達(dá)0.3微米，空氣過濾單元在離心甩干時(shí)，將水霧向下吹，腔體底端接有外部強(qiáng)抽系統(tǒng)(通過抽風(fēng)口 17連接)，由此形成吹風(fēng)，抽干循環(huán)，可在干燥時(shí)及時(shí)將水霧全部抽出，滿足設(shè)備的干燥要求。
[0050]如圖8所示，圖8為本發(fā)明全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備的原理圖。本發(fā)明實(shí)施例工作原理如下:設(shè)備啟動(dòng)時(shí)，主軸升降機(jī)構(gòu)上升，使清洗盤與門平齊，將所需要清洗的Wafer或其他工件平整放置在清洗盤上，設(shè)定觸摸屏上的參數(shù)，確認(rèn)無誤之后按下觸摸屏上的啟動(dòng)按鈕；設(shè)備啟動(dòng)后，執(zhí)行清洗過程:真空發(fā)生器首先開始工作，將工件牢牢吸附在清洗盤上，主軸升降機(jī)構(gòu)下降，使清洗盤下降到工作位置，光軸帶動(dòng)清洗盤和其上面的半導(dǎo)體(或工件進(jìn))行低速、中速旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)每次都經(jīng)過噴桿的中間部位，實(shí)現(xiàn)噴桿對(duì)工件一遍又一遍的清洗；DI水經(jīng)過可調(diào)流量計(jì)到達(dá)噴桿噴嘴的進(jìn)水端，空壓機(jī)提供的壓縮空氣經(jīng)過三級(jí)空氣過濾后經(jīng)過可調(diào)流量計(jì)到達(dá)噴桿噴嘴的進(jìn)氣端，通過這兩個(gè)流量計(jì)調(diào)節(jié)水和氣的流量來達(dá)到最佳的霧化效果來對(duì)Wafer或工件進(jìn)行二流體清洗，同時(shí)經(jīng)過三級(jí)過濾后的空氣經(jīng)過去離子風(fēng)機(jī)，使整個(gè)腔體充滿去離子的空氣，防止工件清洗時(shí)產(chǎn)生靜電使灰塵吸附在工件上，這樣會(huì)大大提高清洗的潔凈度及效果，此外另一路DI水經(jīng)過兆聲波發(fā)生器及二流體噴嘴旁邊的超聲波噴頭后附帶上高頻率的超聲波能量沖擊在工件上，以進(jìn)一步提高清洗的潔凈度及效果。當(dāng)清洗結(jié)束之后，對(duì)應(yīng)進(jìn)行干燥，此時(shí)旋轉(zhuǎn)裝置將噴桿、噴嘴旋轉(zhuǎn)至腔體側(cè)壁，防止噴嘴中的二流體滴到工件上，防止二次污染，光軸帶動(dòng)葉輪盤及其上面的半導(dǎo)體或工件進(jìn)行高速旋轉(zhuǎn)，通過離心力將工件上的水及水霧甩干，設(shè)備頂端配置的空氣過濾單元將水霧向下吹，總腔體底端接有外部強(qiáng)抽風(fēng)系統(tǒng)，由此形成吹風(fēng)，抽風(fēng)循環(huán)，可在干燥時(shí)及時(shí)將水霧全部抽出，提高設(shè)備的干燥效果。干燥后，主軸升降機(jī)構(gòu)上升，使清洗盤與門平齊，將設(shè)備停機(jī)，真空發(fā)生器停止工作，然后將工件取出。
[0051]本發(fā)明設(shè)備主要用于高精密元器件的清洗(如Wafer、手機(jī)攝像頭等)，其采用二流體、高頻兆聲波、離子風(fēng)相結(jié)合的清洗方式，具有清洗效果質(zhì)量穩(wěn)定，效果好的優(yōu)點(diǎn)，而且通過設(shè)置的高速離心干燥機(jī)構(gòu)，在工件清洗完之后能對(duì)工件快速離心甩干，同時(shí)利用空氣過濾機(jī)構(gòu)和主軸升降機(jī)構(gòu)，能夠大大提高工件的清洗效率和烘干效果，因此更能適應(yīng)高精密電子元器件的清洗要求。
[0052]以上是對(duì)本發(fā)明所提供的全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備進(jìn)行了詳細(xì)的介紹，本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想；同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，在【具體實(shí)施方式】及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
【權(quán)利要求】
1.一種全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于，包括: 殼體(10)及設(shè)置于殼體(10)上方的腔體(12)； 所述殼體(10)中固定安裝有電控箱(11)、兆聲波發(fā)生器(13)、主軸升降機(jī)構(gòu)(20)和真空吸附機(jī)構(gòu)(30)，所述兆聲波發(fā)生器(13 )與電控箱(11)連接； 所述主軸升降機(jī)構(gòu)(20)包括氣缸(21)、伺服電機(jī)(22)、氣缸托架(23)、減震墊(24)、滑動(dòng)板(31)、直線軸(32)、主軸軸套(33)和直線軸固定件(34)，所述伺服電機(jī)(22)與電控箱(11)連接，所述氣缸托架(23 )安裝在氣缸(21)上端，通過氣缸(21)控制上升或下降；所述滑動(dòng)板(31)下端通過減震墊(24)與氣缸托架(23)連接，上端設(shè)置有主軸軸套(33)和多個(gè)直線軸(32)，所述直線軸(32)上端固定在直線軸固定件(34)上； 所述真空吸附機(jī)構(gòu)(30)包括安裝在電控箱(11)中的真空發(fā)生器，所述真空發(fā)生器通過氣管與設(shè)置在主軸軸套(33)內(nèi)的密閉腔體連通，通過真空發(fā)生器將密閉腔體內(nèi)的空氣抽干，以形成真空吸附，便于安裝和取放工件； 所述腔體(12)中設(shè)置有一清洗盤(50)，所述清洗盤(50)上方設(shè)置有二流體清洗機(jī)構(gòu)(60)和兆聲波清洗機(jī)構(gòu)(70);所述清洗盤(50)底部設(shè)置有光軸(53)，所述光軸(53)位于軸軸套(33)中且與所述伺服電機(jī)(22)連接，通過所述伺服電機(jī)(22)帶動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)； 所述兆聲波清洗機(jī)構(gòu)(70)包括兆聲波清洗頭(71)，所述兆聲波清洗頭(71)上設(shè)置有兆聲波進(jìn)線端(72)、進(jìn)水端(73)和噴嘴(74)，所述聲波清洗頭(71)通過兆聲波進(jìn)線端(72)與兆聲波發(fā)生器(13)連接； 二流體清洗機(jī)構(gòu)(60)包括噴桿(61)和二流體噴頭(62)，所述二流體噴頭(62)上設(shè)置有二流體霧化出口端(65)、與噴桿(61)連接的二流體進(jìn)水端(63)及與外部空壓機(jī)連接的二流體進(jìn)氣端(64 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于，所述殼體(10 )中還固定安裝有一與電控箱(11)連接的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(40 )，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(40 )分別與二流體清洗機(jī)構(gòu)(60)、兆聲波清洗機(jī)構(gòu)(70)連接,用于控制二流體清洗機(jī)構(gòu)(60)、兆聲波清洗機(jī)構(gòu)(70)在腔體(12)中轉(zhuǎn)動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于，所述殼體(10)中還設(shè)置有一分別與進(jìn)水端(73)、噴桿(61)連接的進(jìn)水管，該進(jìn)水管與外部水泵連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于，所述殼體(10)中還設(shè)置有一與清洗盤(50)連接的排水管(15)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于，所述真空吸附機(jī)構(gòu)(30)還包括有一位于清洗盤(50)底部的吸盤固定葉輪(52)，所述吸盤固定葉輪(52)與主軸軸套(33)內(nèi)密閉腔體連通，用于將放置在清洗盤(50)上的工件通過大氣壓壓緊在清洗盤(50)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗盤(50)的外側(cè)還設(shè)置有一擋水板(51)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于，所述殼體(10)中還固定安裝有流量計(jì)(16)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動(dòng)兆聲波半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于，所述腔體(12 )上方還設(shè)置有一由風(fēng)`扇(81)、過濾層(802 )和過濾芯(803 )構(gòu)成的空氣過濾機(jī)構(gòu)(80 )。
【文檔編號(hào)】B08B3/02GK103489814SQ201310440054
【公開日】2014年1月1日 申請(qǐng)日期:2013年9月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月24日
【發(fā)明者】高輝武, 曾志家 申請(qǐng)人:深圳市凱爾迪光電科技有限公司