專利名稱：一種掩膜板清潔裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及掩膜板清潔技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩膜板清潔裝置。
背景技術(shù)：
薄膜晶體管TFT制造技術(shù)的核心是光刻技術(shù)。光刻的作用是利用掩模板Mask上面的幾何圖形，通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，將圖案轉(zhuǎn)移到襯底上(硅片或玻璃基板)，其本質(zhì)是以光刻膠為材料在玻璃基板表面形成TFT圖案pattern,這個(gè)TFT pattern的作用就是保護(hù)在它下面的金屬或者其他的薄膜，使其在曝光過(guò)程中不被紫外光所改變，下一道刻蝕工序中不被刻蝕掉，從而最終形成我們所需要的TFT pattern。光刻技術(shù)之所以重要，是因?yàn)門FT中的精細(xì)尺寸都是由光刻過(guò)程控制的。在TFT-LCD制造技術(shù)中，光刻技術(shù)同樣占據(jù)著非常重要的作用，而光刻工藝中最為關(guān)注的是掩模板，其是轉(zhuǎn)移微細(xì)圖形的母版，主要用于圖形的批量復(fù)制生產(chǎn)，是TFT-LCD產(chǎn)業(yè)鏈中不可或缺的重要環(huán)節(jié)。掩模板的質(zhì)量在很大程度上決定了 TFT-LCD的品質(zhì)。另外，TFT-LCD生產(chǎn)中，除了在陣列基板上制作晶體管時(shí)需要利用掩模版之外，彩色濾光片的制作同樣會(huì)用到掩模版。由于生產(chǎn)環(huán)境或者生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的異物顆粒附著于光刻掩模板的表面,或者由于人為或者其他原因引起掩模板表面的污潰等，這些粒子污物會(huì)在掩膜板的圖形上造成缺陷，掩模板上有著微米級(jí)的電子器件圖案，上述缺陷的存在極易對(duì)上述電子器件圖案造成損害。若將具有上述缺陷的掩模版返回生產(chǎn)廠商進(jìn)行清潔處理，所需周期過(guò)長(zhǎng)，會(huì)嚴(yán)重的影響生產(chǎn)的連續(xù)性，導(dǎo)致產(chǎn)品的滯后和延遲。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供了一種掩膜板清潔裝置，能夠?qū)ρ谀ぐ灞砻娴牧Ｗ游畚镞M(jìn)行檢測(cè)，當(dāng)掩膜板的表面存在粒子污物時(shí)對(duì)掩膜板進(jìn)行清潔，提高生產(chǎn)的連續(xù)性，提高產(chǎn)率。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案一種掩膜板清潔裝置，包括粒子檢測(cè)室，內(nèi)部具有檢測(cè)掩膜板表面粒子信息的粒子檢測(cè)裝置；根據(jù)所述粒子檢測(cè)裝置采集的粒子信息，當(dāng)掩膜板的表面存在粒子污物時(shí)對(duì)掩膜板進(jìn)行清潔的清潔單元；夾持并移動(dòng)所述掩膜板的機(jī)械手裝置。優(yōu)選地，還包括儲(chǔ)存待清潔掩膜板的掩膜板存儲(chǔ)柜；存放已清潔掩膜板的曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域。優(yōu)選地，所述清潔單元包括掩膜板風(fēng)淋室；[0018]掩膜板濕洗室；掩膜板烘干室。優(yōu)選地，還包括信號(hào)連接所述粒子檢測(cè)裝置和所述機(jī)械手裝置的信號(hào)處理模塊，當(dāng)粒子檢測(cè)裝置檢測(cè)到掩膜板表面的粒子污物數(shù)量超過(guò)一設(shè)定值時(shí)，所述信號(hào)處理模塊信號(hào)控制所述機(jī)械手裝置將該掩膜板依次放入掩膜板風(fēng)淋室、掩膜板濕洗室、掩膜板烘干室，且所述機(jī)械手裝置將清潔后的掩膜板放入曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域；當(dāng)粒子檢測(cè)裝置檢測(cè)到掩膜板表面存在粒子污物，且數(shù)量未超過(guò)一設(shè)定值時(shí)，所述信號(hào)處理模塊信號(hào)控制所述機(jī)械手裝置將該掩膜板放入掩膜板風(fēng)淋室清潔后，放入曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域。優(yōu)選地，所述粒子檢測(cè)室、掩膜板風(fēng)淋室、掩膜板濕洗室、掩膜板烘干室沿豎直方向依次排列。優(yōu)選地，所述掩膜板存儲(chǔ)柜的開(kāi)口與所述掩膜板風(fēng)淋室、掩膜板濕洗室以及掩膜板烘干室的開(kāi)口相對(duì)設(shè)置，且所述機(jī)械手裝置包括沿豎直方向設(shè)置的導(dǎo)向條；可沿所述導(dǎo)向條豎直滑動(dòng)，以拖動(dòng)所述掩膜板上下位移的托架；夾持并水平移動(dòng)所述掩膜板的機(jī)械手；驅(qū)動(dòng)所述托架以及機(jī)械手的驅(qū)動(dòng)裝置。優(yōu)選地，所述掩膜板風(fēng)淋室內(nèi)與所述掩膜板的正面以及反面相對(duì)的兩個(gè)內(nèi)壁均設(shè)有風(fēng)淋裝置。優(yōu)選地，所述掩膜板濕洗室內(nèi)與所述掩膜板的正面以及反面相對(duì)的兩個(gè)內(nèi)壁均設(shè)有濕洗裝置。本實(shí)用新型提供的掩膜板清潔裝置，包括粒子particle檢測(cè)室，內(nèi)部具有檢測(cè)掩膜板Mask表面粒子信息的粒子檢測(cè)裝置；根據(jù)所述粒子檢測(cè)裝置采集的粒子信息，當(dāng)掩膜板的表面存在粒子污物時(shí)對(duì)掩膜板進(jìn)行清潔的清潔單元；夾持并移動(dòng)所述掩膜板的機(jī)械手裝置。上述掩膜板清潔裝置，機(jī)械手裝置將掩膜板放入粒子檢測(cè)室內(nèi)進(jìn)行檢測(cè)，通過(guò)粒子檢測(cè)室內(nèi)的粒子檢測(cè)裝置對(duì)掩膜板表面進(jìn)行檢測(cè)，處理當(dāng)掩膜板表面沒(méi)有粒子污物時(shí)，該掩膜板可以直接使用，無(wú)需清潔；當(dāng)掩膜板表面存在粒子污物時(shí)，機(jī)械手裝置將該掩膜板放入清潔單元中進(jìn)行清潔，將粒子污物去除，無(wú)需返回生產(chǎn)廠商進(jìn)行清潔，縮短掩膜板的清潔周期，提高生產(chǎn)的連續(xù)性，提高產(chǎn)率。本實(shí)用新型提供的掩膜板清潔裝置，通過(guò)粒子檢測(cè)室的粒子檢測(cè)裝置對(duì)掩膜板進(jìn)行檢測(cè)，能夠及時(shí)發(fā)現(xiàn)表面帶有粒子污物的掩膜板，提高產(chǎn)品的良率，并通過(guò)清潔單元對(duì)帶有粒子污物的掩膜板進(jìn)行清潔，無(wú)需返回生產(chǎn)廠商進(jìn)行清潔，從而保證生產(chǎn)的連續(xù)性，提高品產(chǎn)率。

圖1為本實(shí)用新型提供的掩膜板清潔裝置的原理示意圖；[0037]圖2為本實(shí)用新型提供的掩膜板清潔裝置的一種結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型提供的掩膜板清潔裝置中掩膜板風(fēng)淋室內(nèi)雙側(cè)設(shè)置風(fēng)淋裝置的結(jié)構(gòu)不意圖；圖4為本實(shí)用新型提供的掩膜板清潔裝置的機(jī)械手與基板配合狀態(tài)示意圖；圖5為本實(shí)用新型提供的掩膜板清潔裝置的工作原理流程圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。如圖1所示，本實(shí)用新型提供的掩膜板清潔裝置，包括粒子particle檢測(cè)室15,內(nèi)部具有檢測(cè)掩膜板Mask表面粒子信息的粒子檢測(cè)裝置；根據(jù)粒子檢測(cè)裝置采集的粒子信息，當(dāng)掩膜板的表面存在粒子污物時(shí)對(duì)掩膜板進(jìn)行清潔的清潔單元D，清潔單元D如圖1中虛線框所示；夾持并移動(dòng)掩膜板13的機(jī)械手裝置。其中，掩膜板13如圖2中所示。上述掩膜板清潔裝置，機(jī)械手裝置將掩膜板13放入粒子檢測(cè)室15內(nèi)進(jìn)行檢測(cè)，通過(guò)粒子檢測(cè)室15內(nèi)的粒子檢測(cè)裝置對(duì)掩膜板13表面進(jìn)行檢測(cè)，處理當(dāng)掩膜板13表面沒(méi)有粒子污物時(shí)，該掩膜板13可以直接使用，無(wú)需清潔；當(dāng)掩膜板13表面存在粒子污物時(shí)，機(jī)械手裝置將該掩膜板13放入清潔單元D中進(jìn)行清潔，將粒子污物去除，無(wú)需返回生產(chǎn)廠商進(jìn)行清潔，縮短掩膜板13的清潔周期，提高生產(chǎn)的連續(xù)性，提高產(chǎn)率。本實(shí)用新型提供的掩膜板清潔裝置，通過(guò)粒子檢測(cè)室15的粒子檢測(cè)裝置對(duì)掩膜板13進(jìn)行檢測(cè)，能夠及時(shí)發(fā)現(xiàn)表面帶有粒子污物的掩膜板13，提高產(chǎn)品的良率，并通過(guò)清潔單元D對(duì)帶有粒子污物的掩膜板13進(jìn)行清潔，無(wú)需返回生產(chǎn)廠商進(jìn)行清潔，從而保證生產(chǎn)的連續(xù)性，提高品產(chǎn)率。當(dāng)然，使上述掩膜板清潔裝置能夠在線清潔，如圖2所示，優(yōu)選地，上述技術(shù)方案中提到的掩膜板清潔裝置還包括儲(chǔ)存待清潔掩膜板的掩膜板存儲(chǔ)柜11 ；存放已清潔掩膜板的曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域(圖中未示出)。具體使用過(guò)程中，機(jī)械手裝置將掩膜板13從掩膜板存儲(chǔ)柜11中取出，由粒子檢測(cè)室15的開(kāi)口 151放入粒子檢測(cè)室15中，通過(guò)粒子檢測(cè)裝置進(jìn)行粒子分析和檢測(cè)，若掩膜板13的表面沒(méi)有粒子污物，機(jī)械手裝置將掩膜板13直接放置在曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域；若掩膜板13的表面存在粒子污物，機(jī)械手裝置將該掩膜板13放入清潔單元D中進(jìn)行清潔，掩膜板13清潔之后，機(jī)械手裝置將清潔后的掩膜板13放入曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域內(nèi)，實(shí)現(xiàn)對(duì)掩膜板的在線清潔，進(jìn)一步提高產(chǎn)率。如圖2所示，為實(shí)現(xiàn)對(duì)掩膜板13的分類清潔，進(jìn)一步提高產(chǎn)率，上述清潔單元D包括掩膜板風(fēng)淋室16，以對(duì)表面帶有粒子污物的掩膜板13進(jìn)行干洗；[0054]掩膜板濕洗室17，以對(duì)表面帶有粒子污物的掩膜板13進(jìn)行濕洗；掩膜板烘干室18，對(duì)濕洗后的掩膜板13進(jìn)行烘干。當(dāng)然，為便于對(duì)掩膜板13的清潔方式進(jìn)行精確區(qū)分，優(yōu)選地，上述掩膜板清潔裝置還包括信號(hào)連接粒子檢測(cè)裝置和機(jī)械手裝置的信號(hào)處理模塊(圖中未示出)，當(dāng)粒子檢測(cè)裝置檢測(cè)到掩膜板13表面的粒子污物數(shù)量超過(guò)一設(shè)定值時(shí)，信號(hào)處理模塊信號(hào)控制機(jī)械手裝置將該掩膜板依次放入掩膜板風(fēng)淋室16、掩膜板濕洗室17、掩膜板烘干室18，且機(jī)械手裝置將清潔后的掩膜板13放入曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域；當(dāng)粒子檢測(cè)裝置檢測(cè)到掩膜板13表面存在粒子污物，且數(shù)量未超過(guò)一設(shè)定值時(shí)，信號(hào)處理模塊信號(hào)控制機(jī)械手裝置將該掩膜板放入掩膜板風(fēng)淋室清潔后，放入曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域。同時(shí)，當(dāng)粒子檢測(cè)裝置檢測(cè)到掩膜板13表面未存在粒子污物時(shí)，信號(hào)處理模塊直接信號(hào)控制機(jī)械手裝置將掩膜板13放入曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域。優(yōu)選地，上述信號(hào)處理模塊為可編程邏輯控制器PLC。如圖5所示，圖5提供了上述技術(shù)方案中提供的掩膜板清洗裝置的工作原理流程圖。上述清潔單元D中，粒子檢測(cè)室15、掩膜板風(fēng)淋室16、掩膜板濕洗室17、掩膜板烘干室18的排列方式可以有多種選擇，優(yōu)選地，如圖2所示，粒子檢測(cè)室15、掩膜板風(fēng)淋室16、掩膜板濕洗室17、掩膜板烘干室18沿豎直方向依次排列。當(dāng)然還可以有其他排列方式，這里不再贅述。具體地，為簡(jiǎn)化機(jī)械手裝置的操作，上述掩膜板存儲(chǔ)柜11的開(kāi)口與掩膜板風(fēng)淋室16、掩膜板濕洗室17以及掩膜板烘干室18的開(kāi)口相對(duì)設(shè)置，如圖2中所示，粒子檢測(cè)室15的開(kāi)口 151、掩膜板風(fēng)淋室16的開(kāi)口 161、掩膜板濕洗室17的開(kāi)口 171以及掩膜板烘干室18的開(kāi)口 181均朝向上述掩膜板存儲(chǔ)柜11的開(kāi)口 ；且上述機(jī)械手裝置包括沿豎直方向設(shè)置的導(dǎo)向條121 ;可沿導(dǎo)向條121豎直滑動(dòng)，以拖動(dòng)掩膜板13上下位移的托架1212 ；夾持并水平移動(dòng)掩膜板13的機(jī)械手12 ；驅(qū)動(dòng)托架1212以及機(jī)械手12的驅(qū)動(dòng)裝置(圖中未示出)。機(jī)械手12夾持掩膜板13，并水平移動(dòng)，將掩膜板13放置在托架1212上，托架1212沿導(dǎo)向條121豎直滑動(dòng)，將掩膜板13放入粒子檢測(cè)室15或者相應(yīng)的清潔室內(nèi)，實(shí)現(xiàn)對(duì)掩膜板13的位移。當(dāng)然，托架1212與導(dǎo)向條121之間的配合方式可以有多種方式一，導(dǎo)向槽121上設(shè)有導(dǎo)向槽1211，托架1212上具有與導(dǎo)向槽1211滑動(dòng)配合的凸起。方式二，導(dǎo)向條121與托架1212之間通過(guò)絲杠裝置連接。當(dāng)然，導(dǎo)向條121與托架1212之間還可以有其他連接方式，這里不再贅述。為了減輕掩膜板13在掩膜板風(fēng)淋室16內(nèi)清潔時(shí)受到二次污染，機(jī)械手12在夾取基板時(shí)，挾持基板的邊緣部位，具體挾持方式如圖4中所示。優(yōu)選地，如圖3所示，上述掩膜板風(fēng)淋室16內(nèi)與掩膜板13的正面以及反面相對(duì)的兩個(gè)內(nèi)壁均設(shè)有風(fēng)淋裝置。[0075]如圖3中所示，掩膜板風(fēng)淋室16內(nèi)與掩膜板13的正面以及反面相對(duì)的兩個(gè)內(nèi)壁，分別設(shè)有風(fēng)淋裝置162和風(fēng)淋裝置163、風(fēng)淋裝置162上設(shè)置有多個(gè)均勻分布的風(fēng)淋口1621，風(fēng)淋裝置163上設(shè)置有多個(gè)均勻分布的風(fēng)淋口 1631，即掩膜板風(fēng)淋室16可以對(duì)掩膜板13的正反兩面同時(shí)進(jìn)行清潔。同理，上述掩膜板濕洗室17內(nèi)與掩膜板13的正面以及反面相對(duì)的兩個(gè)內(nèi)壁均設(shè)有濕洗裝置(圖中未示出)。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種掩膜板清潔裝置，其特征在于，包括粒子檢測(cè)室，內(nèi)部具有檢測(cè)掩膜板表面粒子信息的粒子檢測(cè)裝置；根據(jù)所述粒子檢測(cè)裝置采集的粒子信息，當(dāng)掩膜板的表面存在粒子污物時(shí)對(duì)掩膜板進(jìn)行清潔的清潔單元；夾持并移動(dòng)所述掩膜板的機(jī)械手裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板清潔裝置，其特征在于，還包括儲(chǔ)存待清潔掩膜板的掩膜板存儲(chǔ)柜；存放已清潔掩膜板的曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板清潔裝置，其特征在于，所述清潔單元包括掩膜板風(fēng)淋室；掩膜板濕洗室；掩膜板烘干室。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜板清潔裝置，其特征在于，還包括信號(hào)連接所述粒子檢測(cè)裝置和所述機(jī)械手裝置的信號(hào)處理模塊，當(dāng)粒子檢測(cè)裝置檢測(cè)到掩膜板表面的粒子污物數(shù)量超過(guò)一設(shè)定值時(shí)，所述信號(hào)處理模塊信號(hào)控制所述機(jī)械手裝置將該掩膜板依次放入掩膜板風(fēng)淋室、掩膜板濕洗室、掩膜板烘干室，且所述機(jī)械手裝置將清潔后的掩膜板放入曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域；當(dāng)粒子檢測(cè)裝置檢測(cè)到掩膜板表面存在粒子污物，且數(shù)量未超過(guò)一設(shè)定值時(shí)，所述信號(hào)處理模塊信號(hào)控制所述機(jī)械手裝置將該掩膜板放入掩膜板風(fēng)淋室清潔后，放入曝光機(jī)掩膜板放置區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板清潔裝置，其特征在于，所述粒子檢測(cè)室、掩膜板風(fēng)淋室、掩膜板濕洗室、掩膜板烘干室沿豎直方向依次排列。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板清潔裝置，其特征在于，所述掩膜板存儲(chǔ)柜的開(kāi)口與所述掩膜板風(fēng)淋室、掩膜板濕洗室以及掩膜板烘干室的開(kāi)口相對(duì)設(shè)置，且所述機(jī)械手裝置包括沿豎直方向設(shè)置的導(dǎo)向條；可沿所述導(dǎo)向條豎直滑動(dòng)，以拖動(dòng)所述掩膜板上下位移的托架；夾持并水平移動(dòng)所述掩膜板的機(jī)械手；驅(qū)動(dòng)所述托架以及機(jī)械手的驅(qū)動(dòng)裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板清潔裝置，其特征在于，所述掩膜板風(fēng)淋室內(nèi)與所述掩膜板的正面以及反面相對(duì)的兩個(gè)內(nèi)壁均設(shè)有風(fēng)淋裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板清潔裝置，其特征在于，所述掩膜板濕洗室內(nèi)與所述掩膜板的正面以及反面相對(duì)的兩個(gè)內(nèi)壁均設(shè)有濕洗裝置。
專利摘要本實(shí)用新型涉及掩膜板清潔技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種掩膜板清潔裝置，包括粒子檢測(cè)室，內(nèi)部具有粒子檢測(cè)裝置；對(duì)掩膜板進(jìn)行清潔的清潔單元；夾持并移動(dòng)所述掩膜板的機(jī)械手裝置。上述掩膜板清潔裝置，機(jī)械手裝置將掩膜板放入粒子檢測(cè)室內(nèi)進(jìn)行檢測(cè)，通過(guò)粒子檢測(cè)室內(nèi)的粒子檢測(cè)裝置對(duì)掩膜板表面進(jìn)行檢測(cè)，處理當(dāng)掩膜板表面沒(méi)有粒子污物時(shí)，該掩膜板可以直接使用，無(wú)需清潔；當(dāng)掩膜板表面存在粒子污物時(shí)，機(jī)械手裝置將該掩膜板放入清潔單元中進(jìn)行清潔，將粒子污物去除，無(wú)需返回生產(chǎn)廠商進(jìn)行清潔，縮短掩膜板的清潔周期，提高生產(chǎn)的連續(xù)性，提高產(chǎn)率。
文檔編號(hào)B08B7/04GK202824005SQ20122054212
公開(kāi)日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年10月22日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月22日
發(fā)明者王燦, 王偉杰, 何璇, 焦士搏 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司