專利名稱：溶液供應(yīng)單元、清潔系統(tǒng)及其清潔方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)于一種溶液供應(yīng)單元、清潔系統(tǒng)及其清潔方法，尤指一種用于板件清潔的溶液供應(yīng)單元、清潔系統(tǒng)及其清潔方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今電子產(chǎn)品均使用印刷電路板(Printed circuit board，PCB)來進(jìn)行線路的規(guī)劃，而隨著高科技產(chǎn)業(yè)的精進(jìn)，印刷電路板上的尺寸逐漸縮小。由于在生產(chǎn)、搬運(yùn)、儲藏或焊接電子組件至印刷電路板上的過程中，印刷電路板上可能吸附空氣中的塵?；蚬ぷ鳝h(huán)境中的微粒，若未加以清除，塵?；蛭⒘Ｈ菀自斐呻娐范搪返默F(xiàn)象，導(dǎo)致電子組件出現(xiàn)燒毀的情況，使得電子產(chǎn)品的可靠度降低。一般而言，傳統(tǒng)作法是將印刷電路板利用超音波清洗設(shè)備進(jìn)行清潔，其經(jīng)由超音波的振動引起清洗槽中液體(化學(xué)藥液、水等)振蕩，進(jìn)而使液體與放置于清洗槽液體內(nèi)的待清洗物體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)及物理相互作用，從而獲得清洗效果。但通常采用化學(xué)藥液清洗印刷電路板需要將電路板浸入被加熱的化學(xué)藥液中，使印刷電路板表面的污染物與加熱的化學(xué)藥液發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。但加熱過程中可能產(chǎn)生電路板周圍的化學(xué)藥液受熱不均勻，而出現(xiàn)電路板表面不同區(qū)域與化學(xué)藥液反應(yīng)程度不同，造成無法完全徹底且均勻地去除印刷電路板表面各處的污物。另外，以浸泡的方式處理印刷電路板必須使用大量的化學(xué)溶劑，故在成本與廢料管制上造成生產(chǎn)端的負(fù)擔(dān)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問題是提供一種溶液供應(yīng)單元、清潔系統(tǒng)及其清潔方法，以在清潔時可精確地輸出所需要的溶劑。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案—種溶液供應(yīng)單元,包括一容置槽體,該容置槽體容置有溶液于其中；一連接于該容置槽體的壓力供應(yīng)模塊；一連接于該容置槽體的液體輸出模塊，該液體輸出模塊具有一管體、一設(shè)于該管體的控制閥及一設(shè)于該管體的末端的液體輸出頭；以及一設(shè)置于該容置槽體的檢測模塊。一種清潔系統(tǒng)，用以清潔至少一板件，該清潔系統(tǒng)包括一主體，其具有一清潔頭；一設(shè)于該主體上的輸送裝置，該板件由該輸送裝置傳送至一對應(yīng)該清潔頭的清潔位置；以及一設(shè)于該主體上的溶液供應(yīng)單元，包括一容置槽體，該容置槽體容置有溶液于其中；一連接于該容置槽體的壓力供應(yīng)模塊；一連接于該容置槽體的液體輸出模塊，該液體輸出模塊具有一管體、一設(shè)于該管體的控制閥及一設(shè)于該管體的末端的液體輸出頭，該液體輸出頭固定于該清潔頭；以及一設(shè)置于該容置槽體的檢測模塊。一種清潔方法，包括以下步驟步驟一提供一清潔系統(tǒng)，該清潔系統(tǒng)包括一主體、一設(shè)于該主體上的輸送裝置及一設(shè)于該主體上的溶液供應(yīng)單元，該主體具有一清潔頭，該溶液供應(yīng)單元包括一容置有溶液于其中的容置槽體、一連接于該容置槽體的壓力供應(yīng)模塊、一連接于該容置槽體的液體輸出模塊及一設(shè)置于該容置槽體的檢測模塊，該液體輸出模塊具有一管體、一設(shè)于該管體的控制閥及一設(shè)于該管體的末端的液體輸出頭，該液體輸出頭固定于該清潔頭；步驟二 提供至少一板件，該板件由該輸送裝置所承載，該輸送裝置將該板件傳送至一對應(yīng)該清潔頭的清潔位置；步驟三進(jìn)行一清潔步驟，利用該壓力供應(yīng)模塊施加壓力于該容置槽體中的溶液，使其沿著該管體由液體輸出頭輸出，以利用該溶液針對該板件進(jìn)行清潔。本發(fā)明具有如下有益效果本發(fā)明提出的溶液供應(yīng)單元，其可利用氣體壓力擠壓清潔溶液輸出于板件上，而氣體壓力可被精準(zhǔn)控制，且清潔溶液在管體中的流量亦可進(jìn)一步的被控制，故就整體而言，本發(fā)明的溶液供應(yīng)單元可相當(dāng)精準(zhǔn)的針對應(yīng)用面的需求輸出所需要的清潔溶液的態(tài)樣，并且具有相當(dāng)高的穩(wěn)定性；再者，本發(fā)明可利用檢測模塊監(jiān)控清潔溶液的存量，以避免系統(tǒng)的誤動作。為能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明與附圖，然而所附圖式僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。


圖1是顯示本發(fā)明的溶液供應(yīng)單元的示意圖。圖2是顯示本發(fā)明的清潔系統(tǒng)的示意圖。圖3是顯示本發(fā)明的清潔方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提出一種溶液供應(yīng)單元、清潔系統(tǒng)及其清潔方法，本發(fā)明所提出的溶液供應(yīng)單元是利用氣體壓力控制溶液(例如清潔劑、有機(jī)溶劑等)的輸出，故可以達(dá)到自動化且精準(zhǔn)控制溶液的用量，并可針對不同需求的清潔作業(yè)提供各種形式的溶液，例如擦拭形式的溶液供應(yīng)、噴灑形式的溶液供應(yīng)等等。請參考圖1，本發(fā)明所提出的溶液供應(yīng)單元I包括有容置槽體11、壓力供應(yīng)模塊12、液體輸出模塊13及檢測模塊14 ;其中容置槽體11是用于容置溶液的主槽體，所述的溶液可為但不限于清潔劑、有機(jī)溶劑、去離子水等等；而壓力供應(yīng)模塊12及液體輸出模塊13則分別連接于容置槽體11，壓力供應(yīng)模塊12主要在于提供氣體，以氣體壓力施加于容置槽體11的溶液，以迫使容置槽體11的溶液由液體輸出模塊13輸出，進(jìn)而利用所輸出的溶液進(jìn)行預(yù)定的清潔作業(yè)。再者，檢測模塊14同樣設(shè)置在容置槽體11上，其可用于檢測容置槽體11的溶液的存量，以避免容置槽體11中的溶液已用罄所導(dǎo)致的系統(tǒng)空轉(zhuǎn)的情況。在本發(fā)明中，溶液供應(yīng)單元I可應(yīng)用于一清潔系統(tǒng)，其主要可用于清洗至少一板件P，例如晶圓、印刷電路板(printed circuit board, PCB)、導(dǎo)線架(lead frame)或陶瓷基板(ceramic substrate)等等,后文將針對清潔系統(tǒng)做一詳細(xì)說明。請復(fù)參閱圖1，在本具體實(shí)施例中，容置槽體11為一大致呈現(xiàn)筒狀的密閉槽體，而溶液可經(jīng)由一個可關(guān)閉的開口注入其中，而溶液則為一種用于去除殘留在印刷電路板上的異方性導(dǎo)電膜的剝離劑或是清洗印刷電路板上的油潰、污垢、松香、錫渣的水性洗劑、氯化溶劑等等。在本具體實(shí)施例中，壓力供應(yīng)模塊12包括一氣體供應(yīng)器121及一設(shè)于氣體供應(yīng)器121與容置槽體11之間的壓力控制器122。氣體供應(yīng)器121可為氣體鋼瓶如氮?dú)馄康然蚴谴笮蜌怏w供應(yīng)設(shè)備，其連接于容置槽體11以提供高壓氣體；而壓力控制器122則設(shè)于氣體供應(yīng)器121與容置槽體11之間，操作者可依照實(shí)際的應(yīng)用調(diào)整壓力供應(yīng)模塊12所輸出的氣體壓力，以控制容置槽體11中溶液的輸出，舉例來說，壓力控制器122可包括薄膜電容式傳感器及控制器，其可控制上游或下游壓力，而控制壓力范圍可介于約100至2000托耳(Torr)。液體輸出模塊13則連通于容置槽體11，其用于將容置槽體11中的溶液輸出、傳送至工作區(qū)域。在本具體實(shí)施例中，液體輸出模塊13可包括管體131、設(shè)于管體131之控制閥及設(shè)于管體131的末端的液體輸出頭134 ;具體而言，管體131形成溶液流動的管道，其頭端延伸于容置槽體11的溶液中，而管體131的末端則具有液體輸出頭134，故當(dāng)壓力供應(yīng)模塊12施加壓力于容置槽體11中的溶液，受壓后的溶液會通過管體131流動至管體131末端的液體輸出頭134，即可用于進(jìn)行前述的板件的清潔、擦拭作業(yè)。另一方面，如圖所示，所述的控制閥可包括節(jié)流閥(throttle) 132及/或電磁閥133，節(jié)流閥132主要用于調(diào)整管體131的溶液的流速，電磁閥133則可構(gòu)成一控制開關(guān)，故控制閥可用于控制由液體輸出頭134所流出的溶液的態(tài)樣，例如，通過節(jié)流閥132及電磁閥133的控制，溶液可緩慢的流出，而達(dá)到潤濕連接在液體輸出頭134的擦拭布，如不織布、無塵布等等；或者溶液可具有速度地由液體輸出頭134噴灑于前述的板件P上，以利用沖刷的方式清潔前述的板件P。更具體而言，壓力控制器122可利用粗調(diào)的方式控制液體輸出頭134的輸出溶液的態(tài)樣，而液體輸出模塊13的控制閥則以微調(diào)的方式控制液體輸出頭134的輸出溶液的態(tài)樣，藉以更精確的輸出符合各種應(yīng)用面的清潔需求。再者，檢測模塊14則是設(shè)置在容置槽體11，如圖所示，檢測模塊至少包括設(shè)于容置槽體11的第一液面檢測器141及設(shè)于容置槽體11的第二液面檢測器142 ;具體而言，第一液面檢測器141為高液面檢測器，第二液面檢測器142則為低液面檢測器，兩者均可為液面高度的傳感器(sensor)，例如一種浮筒結(jié)構(gòu)或是光學(xué)傳感器等，其可針對液面高度進(jìn)行監(jiān)控/偵測，而前述管體131的頭端的高度較佳地低于第二液面檢測器142的位置；因此，當(dāng)容置槽體11中所灌注的溶液高度高于第一液面檢測器141，表示為高水位；而當(dāng)容置槽體11中的溶液高度介于第一液面檢測器141與第二液面檢測器142則表示為正常水位；當(dāng)容置槽體11中的溶液高度低于第二液面檢測器142則表示為低水位，則本發(fā)明的溶液供應(yīng)單元I可利用一警示模塊(圖未示)提醒操作者必須添加溶液，若在一預(yù)定時間內(nèi)第二液面檢測器142或第一液面檢測器141仍未偵測到溶液液面，本發(fā)明的溶液供應(yīng)單元I就會停止供應(yīng)溶液，而整個清潔系統(tǒng)亦會停止運(yùn)作，而該預(yù)定時間可根據(jù)使用者的事先設(shè)定值來進(jìn)行，或是溶液供應(yīng)單元I可根據(jù)當(dāng)時的液體輸出頭134的輸出流量加以計算，例如在高輸出流量時，預(yù)定時間為I分鐘，而在低輸出流量的條件下，預(yù)定時間則延長為5分鐘。如圖2所示，其顯示本發(fā)明的清潔系統(tǒng)的部分示意圖，其中本發(fā)明的清潔系統(tǒng)包括溶液供應(yīng)單元1、至少具有清潔頭21的主體2及設(shè)于主體2上的輸送裝置3，板件P則是被輸送裝置3，如帶動軌道所承載，并傳送至一對應(yīng)清潔頭21的清潔位置，而液體輸出頭134可連接固定于清潔頭21上，以相對于板件P移動而進(jìn)行板件P的擦拭、清潔作業(yè)。
如圖3所示，當(dāng)進(jìn)行板件P的清潔時，可利用下述的步驟進(jìn)行步驟SlOl :提供一清潔系統(tǒng)，該清潔系統(tǒng)包括溶液供應(yīng)單元1、至少具有清潔頭21的主體2及設(shè)于主體2上的輸送裝置3，而溶液供應(yīng)單元I的結(jié)構(gòu)如前文所述，在此就不予贅言。步驟S103 :提供至少一板件P，板件P由輸送裝置3所承載，且輸送裝置3可連續(xù)性地將板件P傳送至一對應(yīng)清潔頭21的清潔位置，故清潔頭21可上下/左右地帶動溶液供應(yīng)單元I的液體輸出頭134，而液體輸出頭134則輸出溶液以進(jìn)行板件P的清潔、擦拭作業(yè)。步驟S105 :進(jìn)行一清潔步驟，利用壓力供應(yīng)模塊12施加壓力于容置槽體11中的溶液，使其沿著管體131由液體輸出頭134輸出，以利用溶液針對板件P進(jìn)行清潔。更進(jìn)一步地說，壓力供應(yīng)模塊12的氣體供應(yīng)器121提供高壓氣體以產(chǎn)生壓力于容置槽體11中的溶液，而壓力控制器122則可用于調(diào)整壓力供應(yīng)模塊12所輸出的氣體壓力，藉以初步地控制容置槽體11中的溶液所輸出的態(tài)樣。另外，當(dāng)容置槽體11中的溶液受壓力而沿著液體輸出模塊13的管體131由液體輸出頭134輸出時，節(jié)流閥132及電磁閥133可更精確地用于控制由液體輸出頭134所流出的溶液的態(tài)樣。再一方面，在前述的步驟S105中，本發(fā)明的溶液供應(yīng)單元I可提供一種安全監(jiān)控的步驟。具體而言，容置槽體11上設(shè)有第一液面檢測器141及第二液面檢測器142，而第一液面檢測器141及第二液面檢測器142會針對容置槽體11中的溶液進(jìn)行液面高度的偵測，以避免清潔系統(tǒng)產(chǎn)生誤動作。舉例而言，當(dāng)?shù)谝灰好鏅z測器141及第二液面檢測器142同時偵測到容置槽體11中的溶液的液面高度時，表示容置槽體11中的溶液為高水位；當(dāng)僅有第二液面檢測器142偵測到容置槽體11中的溶液的液面高度時，表示容置槽體11中的溶液為正常水位；而當(dāng)?shù)诙好鏅z測器142亦無法偵測到容置槽體11中的溶液的液面高度時，則表示容置槽體11中的溶液為低水位，此時溶液供應(yīng)單元I即可進(jìn)行一警示步驟，例如以聲響、燈光等通知操作者補(bǔ)充溶液；若在警示步驟中，當(dāng)?shù)诙好鏅z測器142在一預(yù)定時間內(nèi)仍然偵測不到容置槽體11中的溶液的液面高度時，溶液供應(yīng)單元I即停止輸出溶液，使清潔系統(tǒng)暫時關(guān)閉，等待操作者進(jìn)行溶液的補(bǔ)充，反之，當(dāng)?shù)诙好鏅z測器142在一預(yù)定時間內(nèi)重新偵測到容置槽體11中的溶液的液面高度時，溶液供應(yīng)單元I即取消所述的警示步驟，并回復(fù)至正常的溶液供應(yīng)作業(yè)。綜上所述，本發(fā)明的溶液供應(yīng)單元可有效率地、精確地輸出不同態(tài)樣的溶液進(jìn)行板件的擦拭或清潔；另外，本發(fā)明的溶液供應(yīng)單元更可動態(tài)地監(jiān)控溶液的存量，以避免清潔系統(tǒng)產(chǎn)生誤動作。雖然本發(fā)明以較佳實(shí)施例揭露如上，但并非用以限定本發(fā)明實(shí)施的范圍。任何本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的發(fā)明范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的改進(jìn)，即凡是依照本發(fā)明所做的同等改進(jìn)，應(yīng)為本發(fā)明的發(fā)明范圍所涵蓋。
權(quán)利要求
1.ー種溶液供應(yīng)單元，其特征在于，包括 一容置槽體，該容置槽體容置有溶液于其中； 一連接于該容置槽體的壓カ供應(yīng)模塊； 一連接于該容置槽體的液體輸出模塊，該液體輸出模塊具有一管體、一設(shè)于該管體的控制閥及一設(shè)于該管體的末端的液體輸出頭；以及ー設(shè)置于該容置槽體的檢測模塊。
2.如權(quán)利要求1所述的溶液供應(yīng)單元，其特征在于，該檢測模塊包括一設(shè)于該容置槽體的第一液面檢測器及一設(shè)于該容置槽體的第二液面檢測器。
3.如權(quán)利要求2所述的溶液供應(yīng)單元，其特征在于，該管體的頭端伸入該容置槽體中，該管體的頭端的位置低于該第二液面檢測器。
4.如權(quán)利要求1所述的溶液供應(yīng)單元，其特征在于，該壓力供應(yīng)模塊包括ー氣體供應(yīng)器及一設(shè)于該氣體供應(yīng)器與該容置槽體之間的壓カ控制器。
5.如權(quán)利要求1所述的溶液供應(yīng)單元，其特征在于，該控制閥包括一電磁閥及ー節(jié)流閥。
6.如權(quán)利要求1所述的溶液供應(yīng)單元，其特征在于，該液體輸出頭連接有一擦拭布。
7.ー種清潔系統(tǒng)，用以清潔至少ー板件，其特征在于，該清潔系統(tǒng)包括 一主體，其具有一清潔頭； 一設(shè)于該主體上的輸送裝置，該板件由該輸送裝置傳送至一對應(yīng)該清潔頭的清潔位置；以及 一設(shè)于該主體上的溶液供應(yīng)單元，包括 一容置槽體，該容置槽體容置有溶液于其中； 一連接于該容置槽體的壓カ供應(yīng)模塊； 一連接于該容置槽體的液體輸出模塊，該液體輸出模塊具有一管體、一設(shè)于該管體的控制閥及一設(shè)于該管體的末端的液體輸出頭，該液體輸出頭固定于該清潔頭；以及ー設(shè)置于該容置槽體的檢測模塊。
8.如權(quán)利要求7所述的清潔系統(tǒng)，其特征在干，該檢測模塊包括一設(shè)于該容置槽體的第一液面檢測器及一設(shè)于該容置槽體的第二液面檢測器。
9.如權(quán)利要求8所述的清潔系統(tǒng)，其特征在干，該管體的頭端伸入該容置槽體中，該管體的頭端的位置低于該第二液面檢測器。
10.如權(quán)利要求7所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，該壓力供應(yīng)模塊包括一氣體供應(yīng)器及一設(shè)于該氣體供應(yīng)器與該容置槽體之間的壓カ控制器。
11.如權(quán)利要求7所述的清潔系統(tǒng)，其特征在于，該控制閥包括一電磁閥及ー節(jié)流閥。
12.一種清潔方法，其特征在于，包括以下步驟 提供一清潔系統(tǒng)，該清潔系統(tǒng)包括一主體、一設(shè)于該主體上的輸送裝置及一設(shè)于該主體上的溶液供應(yīng)單元，該主體具有一清潔頭，該溶液供應(yīng)單元包括一容置有溶液于其中的容置槽體、一連接于該容置槽體的壓カ供應(yīng)模塊、一連接于該容置槽體的液體輸出模塊及ー設(shè)置于該容置槽體的檢測模塊，該液體輸出模塊具有一管體、一設(shè)于該管體的控制閥及一設(shè)于該管體的末端的液體輸出頭，該液體輸出頭固定于該清潔頭； 提供至少ー板件，該板件由該輸送裝置所承載，該輸送裝置將該板件傳送至一對應(yīng)該清潔頭的清潔位置；以及進(jìn)行一清潔步驟，利用該壓力供應(yīng)模塊施加壓力于該容置槽體中的溶液，使其沿著該管體由液體輸出頭輸出，以利用該溶液針對該板件進(jìn)行清潔。
13.如權(quán)利要求12所述的清潔方法，其特征在于，該壓力供應(yīng)模塊包括一氣體供應(yīng)器及一設(shè)于該氣體供應(yīng)器與該容置槽體之間的壓力控制器，在進(jìn)行一清潔步驟的步驟中，該氣體供應(yīng)器提供高壓氣體以產(chǎn)生壓力于該容置槽體中的溶液，該壓力控制器可調(diào)整該壓力供應(yīng)模塊所輸出的氣體壓力。
14.如權(quán)利要求12所述的清潔方法，其特征在于，該檢測模塊包括一設(shè)于該容置槽體的第一液面檢測器及一設(shè)于該容置槽體的第二液面檢測器。
15.如權(quán)利要求14所述的清潔方法，其特征在于，該管體的頭端伸入該容置槽體中，該管體的頭端的位置低于該第二液面檢測器。
16.如權(quán)利要求15所述的清潔方法，其特征在于，在進(jìn)行一清潔步驟的步驟中，該第一液面檢測器及該第二液面檢測器會針對該容置槽體中的溶液進(jìn)行液面高度的偵測。
17.如權(quán)利要求16所述的清潔方法，其特征在于，在進(jìn)行一清潔步驟的步驟中，當(dāng)該第二液面檢測器偵測不到該容置槽體中的溶液的液面高度時，該溶液供應(yīng)單元進(jìn)行一警示步驟。
18.如權(quán)利要求17所述的清潔方法，其特征在于，在該警示步驟中，當(dāng)該第二液面檢測器在一預(yù)定時間內(nèi)偵測不到該容置槽體中的溶液的液面高度時，該溶液供應(yīng)單元即停止輸出溶液；當(dāng)該第二液面檢測器在一預(yù)定時間內(nèi)重新偵測到該容置槽體中的溶液的液面高度時，該溶液供應(yīng)單元即取消所述的警示步驟。
全文摘要
本發(fā)明公開一種溶液供應(yīng)單元、清潔系統(tǒng)及其清潔方法，其中溶液供應(yīng)單元包括一容置槽體，該容置槽體容置有溶液于其中；一連接于該容置槽體的壓力供應(yīng)模塊；一連接于該容置槽體的液體輸出模塊，該液體輸出模塊具有一管體、一設(shè)于該管體的控制閥及一設(shè)于該管體的末端的液體輸出頭；以及一設(shè)置于該容置槽體的檢測模塊。本發(fā)明的溶液供應(yīng)單元可相當(dāng)精準(zhǔn)的針對應(yīng)用面的需求輸出所需要的清潔溶液的態(tài)樣，并且具有相當(dāng)高的穩(wěn)定性；再者，本發(fā)明可利用檢測模塊監(jiān)控清潔溶液的存量，以避免系統(tǒng)的誤動作。
文檔編號B08B13/00GK103028564SQ20111030294
公開日2013年4月10日 申請日期2011年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月30日
發(fā)明者陳忠賢, 唐于斌 申請人:金寶電子(中國)有限公司, 金寶電子工業(yè)股份有限公司