專(zhuān)利名稱(chēng)：高真空系統(tǒng)去污結(jié)構(gòu)的控制系統(tǒng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種高真空系統(tǒng)清潔維護(hù)以及其對(duì)光電陰極影響的改進(jìn)裝置，尤
指一種用于對(duì)光電陰極制備過(guò)程中真空系統(tǒng)的清潔維護(hù)使用，達(dá)到清洗高真空系統(tǒng)的一種 去污結(jié)構(gòu)的控制系統(tǒng)裝置。
背景技術(shù)：
在X射線影像增強(qiáng)器件中，對(duì)紫外光譜的感應(yīng)是由光電陰極來(lái)實(shí)現(xiàn)的。光電陰極 是將光信號(hào)轉(zhuǎn)換成電信號(hào)的關(guān)鍵。它的制作過(guò)程是在真空中進(jìn)行的，與其它部分相比，它的 一致性較差，所以光電陰極的制作往往是這類(lèi)器件的難點(diǎn)。所謂的一致性較差，主要體現(xiàn)在 在光電陰極制備中，經(jīng)常出現(xiàn)光電陰極靈敏度不高，甚至無(wú)法進(jìn)行銻、銫交替以及像面有明 顯霧狀、暗斑、不規(guī)則陰影等現(xiàn)象，嚴(yán)重地影響制管成品率。

發(fā)明內(nèi)容為了克服上述不足之處，本實(shí)用新型的主要目的旨在提供一種真空系統(tǒng)和熱氮置
換維護(hù)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，在機(jī)械方面，增設(shè)了一套沖氮裝置，在電氣方面，建立了一套基于可編程
控制器PLC的溫度控制系統(tǒng)、沖抽氮壓控制系統(tǒng)用于分別控制沖洗真空系統(tǒng)時(shí)的熱量交換
和氮?dú)庵脫Q，使之達(dá)到清洗高真空系統(tǒng)的高真空系統(tǒng)去污結(jié)構(gòu)的控制系統(tǒng)裝置。 本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是主要解決如何設(shè)計(jì)一套熱氮置換維護(hù)系統(tǒng)來(lái)改
善真空系統(tǒng)問(wèn)題；要解決如何易于重復(fù)操作，無(wú)重大安全隱患問(wèn)題；要解決如何著眼于平
時(shí)的維護(hù)和同樣適用于應(yīng)急或補(bǔ)救措施等有關(guān)技術(shù)問(wèn)題。 本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是該裝置包括真空系統(tǒng)及光電陰 極等部件，還包括機(jī)械泵、分子泵、冷規(guī)、電離規(guī)管、電磁閥門(mén)、壓力控制閥和氣體過(guò)濾器， 在原真空系統(tǒng)中增設(shè)了一套沖氮裝置，以及增設(shè)一套基于可編程邏輯控制器PLC的溫度控 制系統(tǒng)和沖抽氮壓控制系統(tǒng)，上述各部件組合為一整體的清洗高真空系統(tǒng)，該系統(tǒng)至少包 括有 —分子泵增設(shè)了前級(jí)閥門(mén)，分子泵的第一路通過(guò)不銹鋼管道與電磁閥門(mén)D的一端 相互聯(lián)接，電磁閥門(mén)D的另一端通過(guò)不銹鋼管道與電磁閥門(mén)E的一端相互聯(lián)接后整個(gè)系統(tǒng) 密閉，電磁閥門(mén)E的另一端依次通過(guò)不銹鋼管道與壓力控制閥和氣體過(guò)濾器相互聯(lián)接；分 子泵的第二路通過(guò)不銹鋼管道與電離規(guī)管相互聯(lián)接；分子泵的第三路通過(guò)不銹鋼管道經(jīng)由 電磁閥門(mén)B與冷規(guī)B的一端相互聯(lián)接； —機(jī)械泵依次通過(guò)不銹鋼管道經(jīng)由電磁閥門(mén)A和電磁閥門(mén)C與冷規(guī)A的一端相互 聯(lián)接； —電離規(guī)管通過(guò)不銹鋼管道與分子泵和電磁閥門(mén)D的連接點(diǎn)相互聯(lián)接。 進(jìn)一步的，所述的高真空系統(tǒng)去污結(jié)構(gòu)的控制系統(tǒng)裝置的不銹鋼管道為310不銹
鋼管道，并在其管道上纏繞有加熱帶。 本實(shí)用新型的有益效果是本系統(tǒng)基于平時(shí)定期真空系統(tǒng)維護(hù)使用和系統(tǒng)受污后的應(yīng)急救護(hù)，取得了良好的效果在制備光電陰極后的預(yù)測(cè)，其陰影發(fā)生率大大降低，減少 了影像增強(qiáng)器的返修量；針對(duì)制作光電陰極的關(guān)鍵設(shè)備，建立了以平時(shí)保養(yǎng)為主，臨時(shí)應(yīng)急 為輔的保養(yǎng)維護(hù)制度，有力、有利、有效地管理起該關(guān)鍵設(shè)備；相比起其他有關(guān)廠家的相關(guān) 設(shè)備使用氮?dú)浠旌蠜_洗，該系統(tǒng)更加安全可靠；同時(shí)由于引入了自動(dòng)化控制概念，減少了保 養(yǎng)的人力投入，避免了人為保養(yǎng)所引起的差異，具有操作方便，無(wú)重大安全隱患等優(yōu)點(diǎn)。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。 附


圖1是本實(shí)用新型真空系統(tǒng)加熱氮置換維護(hù)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖； 附圖中標(biāo)號(hào)說(shuō)明 SP-機(jī)械泵； TP-分子泵； CDG1-冷規(guī)A ; CDG2-冷規(guī)B ; HVG-電離規(guī)管； VI-電磁閥門(mén)A V2-電磁閥門(mén)B V3-電磁閥門(mén)C V4-電磁閥門(mén)D V5-電磁閥門(mén)E V6-壓力控制閥； V7-氣體過(guò)濾器；
具體實(shí)施方式請(qǐng)參閱附
圖1所示，本實(shí)用新型包括真空系統(tǒng)及光電陰極等部件，還包括機(jī)械泵 SP、分子泵TP、冷規(guī)CDG、電離規(guī)管HVG、電磁閥門(mén)、壓力控制閥V6和氣體過(guò)濾器V7，在原真 空系統(tǒng)中增設(shè)了一套沖氮裝置，以及增設(shè)一套基于可編程邏輯控制器PLC的溫度控制系統(tǒng) 和沖抽氮壓控制系統(tǒng)，上述各部件組合為一整體的清洗高真空系統(tǒng)，該系統(tǒng)至少包括有 —分子泵TP增設(shè)了前級(jí)閥門(mén)，分子泵TP的第一路通過(guò)不銹鋼管道與電磁閥門(mén)DV4 的一端相互聯(lián)接，電磁閥門(mén)DV4的另一端通過(guò)不銹鋼管道與電磁閥門(mén)EV5的一端相互聯(lián)接 后整個(gè)系統(tǒng)密閉，電磁閥門(mén)EV5的另一端依次通過(guò)不銹鋼管道與壓力控制閥V6和氣體過(guò)濾 器V7相互聯(lián)接；分子泵TP的第二路通過(guò)不銹鋼管道與電離規(guī)管HVG相互聯(lián)接；分子泵TP 的第三路通過(guò)不銹鋼管道經(jīng)由電磁閥門(mén)BV2與冷規(guī)B CDG2的一端相互聯(lián)接； —機(jī)械泵SP依次通過(guò)不銹鋼管道經(jīng)由電磁閥門(mén)AV1和電磁閥門(mén)CV3與冷規(guī)A CDG1的一端相互聯(lián)接； —電離規(guī)管HVG通過(guò)不銹鋼管道與分子泵TP和電磁閥門(mén)DV4的連接點(diǎn)相互聯(lián)接。 進(jìn)一步的，所述的高真空系統(tǒng)去污結(jié)構(gòu)的控制系統(tǒng)裝置的不銹鋼管道為310不銹 鋼管道，并在其管道上纏繞有加熱帶。 本實(shí)用新型采取的具體實(shí)施例的技術(shù)方案是[0032] 我們認(rèn)為，器件光電陰極靈敏度不高，像面呈現(xiàn)陰影、暗斑等現(xiàn)象的主要原因是由 于真空系統(tǒng)受污染或裸管烘烤除氣不夠徹底引起的光電發(fā)射的慢性"中毒"所引起的。經(jīng)長(zhǎng) 時(shí)間烘烤排氣的管子內(nèi)部真空度可達(dá)2X10-5Pa。在個(gè)壓強(qiáng)下，如果表面有氣源，10s內(nèi)就 可形成一個(gè)單分子層。因此，系統(tǒng)等放出的對(duì)陰極表面有害的氣體H20、 CO、 C02、 CnHn化合 物很容易吸附于陰極基底表面，使得陰極面先受污染。這種情況下制做光電陰極，勢(shì)必在薄 層與陰極基底表面之間存在氣體污染層。該污染層是導(dǎo)致光電陰極靈敏度降低的主要原因 之一。目前我們影像增強(qiáng)器在制作光電陰極前必須經(jīng)過(guò)7小時(shí)27(TC的現(xiàn)場(chǎng)烘烤(其零件 預(yù)先經(jīng)過(guò)400°C -1050°C的真空除氣)，因此我們把主要精力集中在真空系統(tǒng)的改善上。我 們公司使用的真空系統(tǒng)主要是由機(jī)械泵、分子泵和若干閥們構(gòu)成。由于用分子泵代替了擴(kuò) 散泵，因此系統(tǒng)本身受到油類(lèi)污染的可能性不大。 但由于(1)我們的真空系統(tǒng)每年會(huì)暫停運(yùn)行若干星期。(2)我們發(fā)現(xiàn)每次前道工 序的溫濕度發(fā)生異常波動(dòng)，總會(huì)影響光電陰極的成品率，并具有一定的延續(xù)性?；谝陨蟽?點(diǎn)考慮，必須要有一整套系統(tǒng)改善方案。 我們?cè)O(shè)計(jì)一套熱氮置換維護(hù)系統(tǒng)來(lái)改善真空系統(tǒng)，這基于以下若干點(diǎn)的考慮 (1):該改善方案的對(duì)象是針對(duì)H20、 C0、 C02、 CnHn等的化合物。(2):該改善方案應(yīng)易于(重復(fù))操作，無(wú)重大安全隱患。
(3):該改善方案應(yīng)著眼于平時(shí)的維護(hù) (4):該改善方案同樣適用于應(yīng)急或(和)補(bǔ)救措施。 考慮到氮?dú)庠诓讳P鋼(FeNi合金)對(duì)該些氣體的吸附能和脫附活化能較低，并且 在一定的溫度下，其吸附能和脫附活化能進(jìn)一步降低，這意味著熱氮是一種不錯(cuò)的置換氣 體。同時(shí)氮?dú)庥质嵌栊詺怏w，相比較氫氣有更高的安全系數(shù)。所以，在機(jī)械方面，根據(jù)現(xiàn)有 的真空系統(tǒng)我們?yōu)槠湓黾恿艘惶讻_氮裝置(氮?dú)膺x用4個(gè)9以上的高純度氮)，包括過(guò)濾 器V7、氣體壓力控制閥V6、分子泵閥門(mén)、軟管、加熱帶等(見(jiàn)附圖l示意圖)。在電氣方面， 建立了一套基于PLC的溫度控制系統(tǒng)、沖抽氮壓控制系統(tǒng)用于分別控制沖洗真空系統(tǒng)時(shí)的 熱量交換和氮?dú)庵脫Q。具體操作是先對(duì)涉及到紅色區(qū)域內(nèi)的管道等加熱到120°C ，然后使用 PLC控制沖抽氮壓系統(tǒng)，對(duì)體系進(jìn)行沖氮_保溫_抽真空的半小時(shí)循環(huán)，達(dá)到清洗高真空系 統(tǒng)的目的。 該套系統(tǒng)使用基于平時(shí)定期真空系統(tǒng)維護(hù)使用和系統(tǒng)受污后的應(yīng)急救護(hù)，取得了 良好的效果 (1)在制備光電陰極后的預(yù)測(cè)，其陰影發(fā)生率大大降低，減少了影像增強(qiáng)器的返修 (2)針對(duì)制作光電陰極的關(guān)鍵設(shè)備，建立了以平時(shí)保養(yǎng)為主，臨時(shí)應(yīng)急為輔的保養(yǎng) 維護(hù)制度。有力、有利、有效地管理起該關(guān)鍵設(shè)備。 (3)相比起其他有關(guān)廠家的相關(guān)設(shè)備使用氮?dú)浠旌蠜_洗，該系統(tǒng)更加安全可靠。同 時(shí)由于引入了自動(dòng)化控制概念，減少了保養(yǎng)的人力投入，避免了人為保養(yǎng)所引起的差異。
權(quán)利要求一種高真空系統(tǒng)去污結(jié)構(gòu)的控制系統(tǒng)裝置，包括真空系統(tǒng)及光電陰極，其特征在于還包括機(jī)械泵(SP)、分子泵(TP)、冷規(guī)(CDG)、電離規(guī)管(HVG)、電磁閥門(mén)、壓力控制閥(V6)和氣體過(guò)濾器(V7)，在原真空系統(tǒng)中增設(shè)了一套沖氮裝置，以及增設(shè)一套基于可編程邏輯控制器PLC的溫度控制系統(tǒng)和沖抽氮壓控制系統(tǒng)，上述各部件組合為一整體的清洗高真空系統(tǒng)，該系統(tǒng)至少包括有一分子泵(TP)增設(shè)了前級(jí)閥門(mén)，分子泵(TP)的第一路通過(guò)不銹鋼管道與電磁閥門(mén)D(V4)的一端相互聯(lián)接，電磁閥門(mén)D(V4)的另一端通過(guò)不銹鋼管道與電磁閥門(mén)E(V5)的一端相互聯(lián)接后整個(gè)系統(tǒng)密閉，電磁閥門(mén)E(V5)的另一端依次通過(guò)不銹鋼管道與壓力控制閥(V6)和氣體過(guò)濾器(V7)相互聯(lián)接；分子泵(TP)的第二路通過(guò)不銹鋼管道與電離規(guī)管(HVG)相互聯(lián)接；分子泵(TP)的第三路通過(guò)不銹鋼管道經(jīng)由電磁閥門(mén)B(V2)與冷規(guī)B(CDG2)的一端相互聯(lián)接；一機(jī)械泵(SP)依次通過(guò)不銹鋼管道經(jīng)由電磁閥門(mén)A(V1)和電磁閥門(mén)C(V3)與冷規(guī)A(CDG1)的一端相互聯(lián)接；一電離規(guī)管(HVG)通過(guò)不銹鋼管道與分子泵(TP)和電磁閥門(mén)D(V4)的連接點(diǎn)相互聯(lián)接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高真空系統(tǒng)去污結(jié)構(gòu)的控制系統(tǒng)裝置，其特征在于所述的 不銹鋼管道為310不銹鋼管道，并在其管道上纏繞有加熱帶。
專(zhuān)利摘要一種涉及高真空系統(tǒng)清潔維護(hù)以及其對(duì)光電陰極影響的改進(jìn)裝置，尤指一種用于對(duì)光電陰極制備過(guò)程中真空系統(tǒng)的清潔維護(hù)使用的高真空系統(tǒng)去污結(jié)構(gòu)的控制系統(tǒng)裝置，本實(shí)用新型包括機(jī)械泵、分子泵、冷規(guī)、電離規(guī)管、電磁閥門(mén)和氣體過(guò)濾器等部件，在原真空系統(tǒng)中增設(shè)了一套沖氮裝置，以及增設(shè)一套基于可編程邏輯控制器PLC的溫度控制系統(tǒng)和沖抽氮壓控制系統(tǒng)。主要解決如何設(shè)計(jì)一套熱氮置換維護(hù)系統(tǒng)來(lái)改善真空系統(tǒng)等有關(guān)技術(shù)問(wèn)題。本實(shí)用新型的積極效果是減少了影像增強(qiáng)器的返修量，建立了以平時(shí)保養(yǎng)為主，臨時(shí)應(yīng)急為輔的保養(yǎng)維護(hù)制度，減少了保養(yǎng)的人力投入，具有操作方便，安全可靠等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)B08B3/00GK201498476SQ20092007449
公開(kāi)日2010年6月2日 申請(qǐng)日期2009年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月14日
發(fā)明者吳明康, 康海峰 申請(qǐng)人:上海泰雷茲電子管有限公司