專(zhuān)利名稱(chēng)：基板清潔單元和具有該清潔單元的基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
實(shí)施例涉及基板清潔單元以及具有該清潔單元的基板處理裝置。更具體地，實(shí)施
例涉及用于平板顯示器裝置的基板的清潔單元以及具有該清潔單元的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
通常通過(guò)各種單元制造工藝在諸如玻璃基板之類(lèi)的大型基板上制造平板顯示器 裝置。例如，依次在基板上進(jìn)行作為單元制造工藝的蝕刻處理、剝離處理、清潔處理和干燥 處理，并因此將基板依次傳送入各個(gè)用于實(shí)施上述單元制造工藝的處理裝置。通常，所述處 理裝置根據(jù)單元制造工藝的處理順序連續(xù)設(shè)置。 例如，處理裝置包括對(duì)基板進(jìn)行清潔處理的清潔單元和對(duì)基板進(jìn)行干燥處理的干 燥單元。 在現(xiàn)有的清潔單元中，通常用刷子從基板清除污染物。然而，由于刷子的偏斜或松 弛，不能充分地清除基板的邊緣部上的污染物。此外，現(xiàn)有的清潔單元必須大得足以容納刷 子。還有，刷子還會(huì)帶來(lái)可能使基板污染的顆粒。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明概念的實(shí)施例提供了一種尺寸減小且清潔能力提高的清潔單元。 本發(fā)明概念的實(shí)施例提供了一種包括上述清潔單元的基板處理裝置。 根據(jù)本發(fā)明概念的一些實(shí)施例，提供了一種清潔單元，包括用于在第一方向傳送
所述基板的傳送部和靠近所述基板并以與所述第一方向基本垂直的第二方向延伸的清潔
塊。所述清潔塊包括用于將清潔劑輸送到所述基板上的第一塊和位于所述第一塊的側(cè)部并
吸走所述基板上的上述清潔劑的第二塊。 在一實(shí)施例中，所述第一和第二塊以這樣的方式排列，所述清潔劑在上述基板上 以與所述第一方向相反的方向流動(dòng)，使得在所述第一方向上所述第二塊位于所述第一塊的 前面。 在一實(shí)施例中，所述第一塊包括用于容納所述清潔劑的緩沖空間；以及多孔塊，所 述清潔劑通過(guò)所述多孔塊從所述緩沖空間輸送到所述基板上。 在一實(shí)施例中，所述緩沖空間由側(cè)壁對(duì)、與所述側(cè)壁接觸的上板以及位于所述側(cè) 壁下部位置的所述多孔塊界定。 在一實(shí)施例中，所述第一塊包括用于容納所述清潔劑的緩沖空間；以及通孔，所述 清潔劑通過(guò)所述通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。 在一實(shí)施例中，所述緩沖空間由側(cè)壁對(duì)和與所述側(cè)壁接觸的上板界定，且所述通 孔穿過(guò)側(cè)壁的下部。 在一實(shí)施例中，所述清潔塊還包括分別位于所述第一塊和所述第二塊側(cè)部的空氣 幕塊，所述空氣幕塊將空氣輸送到所述基板上，由此將空氣幕提供到所述基板的表面。
在實(shí)施例中，所述空氣幕塊包括用于容納所述空氣的緩沖空間；以及通孔，所述空氣通過(guò)該通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。 在一實(shí)施例中，所述清潔塊包括靠近所述基板的上表面的上清潔塊和靠近所述基 板下表面的下清潔塊，所述上清潔塊和下清潔塊的結(jié)構(gòu)基本相同。 根據(jù)本發(fā)明概念的一些實(shí)施例，提供了一種處理基板的裝置。該處理裝置包括在 所述基板上進(jìn)行清潔處理的清潔單元，具有用于在第一方向傳送所述基板的第一傳送部、 用于將清潔劑輸送到所述基板上的第一清潔塊和位于所述第一清潔塊側(cè)部并吸走所述基 板上的所述清潔劑的第二清潔塊；及在所述基板上進(jìn)行干燥處理的干燥單元，包括用于將 干燥氣體輸送到所述基板上的第一干燥塊和位于所述第一干燥塊側(cè)部并吸走所述基板上 的所述干燥氣體的第二干燥塊。所述第一和第二清潔塊靠近所述基板并在基本垂直于所述 第一方向的第二方向延伸。 在一實(shí)施例中，所述第一和第二清潔塊以這樣的方式排列，所述清潔劑以與所述 第一方向相反的方向在所述基板上流動(dòng)，使得在所述第一方向上，所述第二清潔塊處在所 述第一清潔塊前面。 在實(shí)施例中，所述第一清潔塊包括用于容納所述清潔劑的緩沖空間以及多孔塊， 所述清潔劑通過(guò)所述多孔塊從所述緩沖空間輸送到所述基板上。 在一實(shí)施例中，所述第一清潔塊包括用于容納所述清潔劑的緩沖空間；以及通孔， 所述清潔劑通過(guò)所述通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。 在一實(shí)施例中，所述清潔單元還包括分別位于所述第一和第二清潔塊側(cè)部的空氣 幕塊，所述空氣幕塊將空氣輸送到所述基板上，由此將空氣幕提供到所述基板的表面。
在一實(shí)施例中，所述第一和第二干燥塊以這樣的方式排列，所述干燥氣體以與所 述第一方向相反的方向在所述基板上流動(dòng)，使得在所述第一方向上，所述第二干燥塊處在 所述第一干燥塊的前面。 在一實(shí)施例中，所述干燥單元還包括在所述干燥處理前進(jìn)行初步干燥處理的前 塊，其位于所述第二干燥塊的前側(cè)并將所述干燥氣體輸送到所述基板上；以及在所述干燥 處理后進(jìn)行附加干燥處理的背塊，其位于所述第一干燥塊的背側(cè)并將所述干燥氣體輸送到 所述基板上。 在一實(shí)施例中，所述前塊包括用于容納所述干燥氣體的緩沖空間以及通扎，所述 干燥氣體通過(guò)所述通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。 在一實(shí)施例中，其中所述前塊的通孔包括從所述緩沖空間垂直向下延伸的上通孔 以及與所述上通孔相連并在與第一方向相反的方向上相對(duì)所述上通孔傾斜的下通孔。
在一實(shí)施例中，從所述背塊輸送的干燥氣體的溫度高于從所述前塊輸送的干燥氣 體。 在一實(shí)施例中，所述第一干燥塊包括用于容納干燥氣體的緩沖空間；以及多孔塊， 干燥氣體通過(guò)該多孔塊從所述緩沖空間輸送到所述基板上。 在一實(shí)施例中，所述第一干燥塊包括用于容納所述干燥氣體的緩沖空間；以及通 孔，干燥氣體通過(guò)該通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。 在一實(shí)施例中，所述處理裝置還包括用于進(jìn)行二次清潔處理的二次清潔單元，其 處于所述清潔單元和所述干燥單元之間。所述二次清潔單元在所述基板上方朝上延伸，并 包括噴嘴，所述清潔劑通過(guò)該噴嘴噴射到所述基板上。
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在一實(shí)施例中，所述噴嘴包括一對(duì)第一和第二板以及在這對(duì)板之間的沿所述第二 方向延伸的通孔，所述清潔劑通過(guò)所述噴嘴的通孔輸送到所述基板上。 在一實(shí)施例中，用于將清潔溶液輸送到所述通孔中的第一輸送管和用于輸送空氣 的第二輸送管與所述板之一相連，使得所述清潔溶液和空氣在所述通孔內(nèi)互相混合，由此 形成清潔霧。 在一實(shí)施例中，所述噴嘴包括鄰近所述基板的末端部和遠(yuǎn)離所述基板的頭部，且 所述第一輸送管與所述板的中心部相連，所述第二輸送管與所述板的與所述噴嘴的頭部相 對(duì)應(yīng)的上部相連，從而所述通孔從所述頭部向下延伸到所述末端部，且空氣輸送到所述噴 嘴的通孔中的所述清潔溶液上。 在一實(shí)施例中，所述第一板包括凹槽部，所述第二板包括插入所述第一板的所述
凹槽部的突起部，使得所述通孔包括由所述凹槽部和突起部形成的路徑變化部。 在一實(shí)施例中，所述凹槽部和突起部位于所述板的中心部和端部之間，所述板的
端部與所述噴嘴的末端部對(duì)應(yīng)。 在一實(shí)施例中，所述通孔在所述末端部附近具有第一寬度，并且在所述頭部附近 具有大于所述第一寬度的第二寬度，所述清潔溶液和空氣在所述頭部附近的所述通孔中互 相混合。 根據(jù)本發(fā)明概念的上述實(shí)施例，在清潔單元中安裝有將清潔劑輸送到基板的第一 清潔塊和將清潔劑從所述基板吸走的第二清潔塊，由此充分地提高清潔單元的清潔效率。 此外，因?yàn)闊o(wú)需使用刷子，可以充分地減小第一清潔單元的尺寸。 還有，清潔劑和空氣可在第二清潔單元中混合，由此形成均勻的清潔霧。這樣，清
潔霧可替代清潔劑輸送到基板上，由此降低清潔基板所用的清潔劑的量。 還有，干燥單元中安裝有用于將干燥氣體輸送到基板的第一干燥塊和用于從基板
吸走干燥氣體的第二干燥塊，由此可充分地提高干燥單元的效率。此外，干燥塊在與基板傳
送方向基本垂直的基板寬度方向延伸，由此充分地減小干燥單元的尺寸。 因此，可充分地減小包括第一和第二清潔單元以及干燥單元的處理裝置的尺寸，
并可降低清潔劑和干燥氣體的用量。


通過(guò)以下結(jié)合附圖的詳細(xì)描述可以更清楚地理解實(shí)施例。 圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的包括清潔單元的基板處理裝置； 圖2為示出了圖1所示第一清潔單元的第一傳送部的平面圖； 圖3為示出了圖2所示第一傳送部的主視圖； 圖4為示出了圖1所示上塊和下塊的剖視圖； 圖5為示出了圖4所示上、下塊的改動(dòng)方式； 圖6為示出了圖1所示噴嘴的剖視圖； 圖7為示出了圖1所示噴嘴的側(cè)視圖；及 圖8為示出了圖1所示上干燥塊和下干燥塊的剖視圖； 圖9為示出了圖8所示上、下清潔塊的改動(dòng)方式的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
參見(jiàn)示出實(shí)施例的附圖，下文將更詳細(xì)地描述各種實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以以許 多不同形式實(shí)現(xiàn)，并且不應(yīng)解釋為受在此提出之實(shí)施例的限制。相反，提出這些實(shí)施例是為 了達(dá)成充分及完整公開(kāi)，并且使本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員完全了解本發(fā)明的范圍。這些附圖 中，為清楚起見(jiàn)，可能放大了層及區(qū)域的尺寸及相對(duì)尺寸。 應(yīng)理解，當(dāng)將元件或?qū)臃Q(chēng)為在另一元件或?qū)?上"或"連接至"另一元件或?qū)又畷r(shí)，
其可為直接在另一元件或?qū)由匣蛑苯舆B接至其它元件或?qū)樱蛘叽嬖诰佑谄溟g的元件或
層。與此相反，當(dāng)將元件稱(chēng)為"直接在另一元件或?qū)由?、或"直接連接至"或另一元件或?qū)?br> 之時(shí)，并不存在居于其間的元件或?qū)?。整份說(shuō)明書(shū)中相同標(biāo)號(hào)是指相同的元件。如本文中
所使用的，用語(yǔ)"及/或"包括一或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任何或所有組合。 應(yīng)理解，盡管本文中使用第一、第二、第三等來(lái)描述多個(gè)元件、組件、區(qū)域、層及/
或部分，但這些元件、組件、區(qū)域、層及/或部分并不受這些用語(yǔ)的限制。這些用語(yǔ)僅用于使
一個(gè)元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一個(gè)區(qū)域、層或部分區(qū)別開(kāi)來(lái)。由此，下文所稱(chēng)之第一
元件、組件、區(qū)域、層或部分也可稱(chēng)為第二元件、組件、區(qū)域、層或部分，而不脫離本發(fā)明的教導(dǎo)。 與空間相關(guān)的表述，如"下"、"上"等，在本文中使用是為了容易地表述如圖所示的 一個(gè)元件或部件與另一元件或部件的關(guān)系。應(yīng)理解，這些與空間相關(guān)的表述除圖中所示方 位之外，還意欲涵蓋該設(shè)備在使用或工作中的不同方位。例如，若圖中的該設(shè)備翻轉(zhuǎn)，描述 為在其它元件或部件"下方"或"之下"的設(shè)備則會(huì)確定為在其它元件或部件"之上"。由此， 該示范性的表述"在...下方"可同時(shí)涵蓋"在...上方"與"在...下方"兩者。該設(shè)備可 為另外的朝向(旋轉(zhuǎn)90度或其它朝向)，并且本文中所使用的這些與空間相關(guān)的表述亦作 相應(yīng)的解釋。 本文中所使用的表述僅用于描述特定的實(shí)施例，并且并不意欲限制本發(fā)明。如本 文中所述的，單數(shù)形式的冠詞意欲包括復(fù)數(shù)形式，除非其上下文明示。還應(yīng)理解，當(dāng)本說(shuō)明 書(shū)中使用表述"包括"之時(shí)，明確說(shuō)明了存在所描述的部件、整體、步驟、操作、元件及/或組 件，但并不排除存在或附加有一個(gè)或多個(gè)其它部件、整體、步驟、操作、元件、組件及/或它 們的組合。 對(duì)于本發(fā)明的實(shí)施例，本文中是參照本發(fā)明的理想化實(shí)施例(以及中間結(jié)構(gòu))的 示意剖視圖來(lái)描述的。照此，預(yù)期會(huì)產(chǎn)生例如因制造工藝及/或公差而造成形狀上的變化。 由此，本發(fā)明的實(shí)施例不應(yīng)解釋為將其限制成本文所示的特定區(qū)域形狀，還應(yīng)包括例如，因 制造而導(dǎo)致的形狀偏差。例如，顯示為矩形的植入?yún)^(qū)，通常具有圓形或曲線形的特征和/或 在其邊緣形成植入密度的梯度，而非從植入?yún)^(qū)域到非植入?yún)^(qū)域的二元變化。類(lèi)似的，通過(guò)植 入形成的埋入?yún)^(qū)會(huì)導(dǎo)致在該埋入?yún)^(qū)和發(fā)生植入的表面之間的區(qū)域中有一些植入。因此，圖 中所示的區(qū)域的本質(zhì)是示意性的，并且其形狀并不意欲示出部件區(qū)域的精確形狀，也不意 欲限制本發(fā)明的范圍。 除非另行詳細(xì)說(shuō)明，本文所使用的所有術(shù)語(yǔ)(包括科技術(shù)語(yǔ))的意思與本技術(shù)領(lǐng) 域的技術(shù)人員所通常理解的一致。還應(yīng)理解，諸如一般字典中所定義的術(shù)語(yǔ)應(yīng)解釋為與相 關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中的意思一致，并且不應(yīng)解釋為理想化的或過(guò)度刻板的含義，除非在文中另有 明確定義。
下面參考附圖對(duì)實(shí)施例作詳細(xì)描述。 圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的包括清潔單元的基板處理裝置。下文中，所述基 板處理裝置經(jīng)常被稱(chēng)作處理裝置。 參見(jiàn)圖l，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的處理裝置2可清潔和干燥基板4，諸如用于平板 顯示器(FPD)裝置的玻璃基板。 在實(shí)施例中，處理裝置2包括水平延伸的處理室6，基板4可通過(guò)多個(gè)輥?zhàn)釉谔幚?室6內(nèi)水平傳送。 在實(shí)施例中，處理裝置2包括第一清潔單元10，用于對(duì)基板4進(jìn)行第一清潔處 理；第二清潔單元40，用于對(duì)基板4進(jìn)行第二清潔處理；和干燥單元50，用于對(duì)基板4進(jìn)行 干燥處理。干燥室6由隔斷件8分成第一清潔區(qū)、第二清潔區(qū)和干燥區(qū)，因此第一清潔單元 10、第二清潔單元40和干燥單元50可分別放置在處理室的第一清潔區(qū)、第二清潔區(qū)和干燥 區(qū)。 在實(shí)施例中，第一清潔單元10包括第一傳送部12、上清潔塊200和下清潔塊250。 在第一清潔單元10中，基板4可由傳送部12以第一方向移動(dòng)，且上、下清潔塊200和250 分別位于基板4的上方和下方。例如，上、下清潔塊200和250以基本上垂直于第一方向的 第二方向延伸，并設(shè)置為靠近基板4的上表面和下表面。 圖2為示出了圖1所示第一清潔單元的第一傳送部的平面圖，圖3為示出了圖2 所示第一傳送部的主視圖。 參見(jiàn)圖2和圖3，旋轉(zhuǎn)軸102以第一方向，例如圖2中的x_方向排列，設(shè)置成旋轉(zhuǎn) 軸102以一間距互相隔開(kāi)。各旋轉(zhuǎn)軸102沿第二方向，例如圖2中的y-方向延伸，設(shè)置成 旋轉(zhuǎn)軸與上下清潔塊200和250平行。有多個(gè)傳送輥104安裝于各個(gè)旋轉(zhuǎn)軸102，并支撐基 板4。 驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸102的驅(qū)動(dòng)裝置106設(shè)置在處理室6的外部。例如，驅(qū)動(dòng)裝置106包 括使軸102旋轉(zhuǎn)的馬達(dá)(未示出)。 有多個(gè)第一磁碟108設(shè)置在處理室6的側(cè)壁的外表面上，并且有多個(gè)第二磁碟110 分別安裝于旋轉(zhuǎn)軸102的端部，靠近處理室6的側(cè)壁的內(nèi)表面且處于其外表面的反側(cè)。第 一和第二磁碟108和110相對(duì)于處理室6的側(cè)壁相互一一對(duì)應(yīng)并對(duì)稱(chēng)。
驅(qū)動(dòng)裝置6連接至第一磁碟108。具體地，在朝向處理室6的側(cè)壁的支架上設(shè)置 有多個(gè)從動(dòng)軸114，第一磁碟108分別聯(lián)接至所述從動(dòng)軸114，因此第一磁碟108隨從動(dòng)軸 114的旋轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)動(dòng)。各從動(dòng)軸114安裝有從動(dòng)輪116，連接至驅(qū)動(dòng)裝置106的軸的驅(qū)動(dòng)輪 118通過(guò)傳動(dòng)帶120與從動(dòng)輪116相連。還有，有多個(gè)惰輪122安裝于支架112，并且向傳 動(dòng)帶120施加均勻的張力。 因此，驅(qū)動(dòng)裝置106的旋轉(zhuǎn)力通過(guò)驅(qū)動(dòng)輪118、從動(dòng)輪116和傳動(dòng)帶120傳送至第 一磁碟108，第一磁碟108相對(duì)其中軸線旋轉(zhuǎn)。因此，第二磁碟110通過(guò)磁力根據(jù)第一磁碟 108的旋轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)動(dòng)，而旋轉(zhuǎn)軸102因第二磁碟108的旋轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)動(dòng)。 在實(shí)施例中，第一和第二磁碟108和110包括多個(gè)磁性件(未示出)。磁性件可沿 第一和第二磁碟108和110的圓周方向排列，并且這多個(gè)磁性件的磁極可在圓周方向交替 變化。 槽124形成在處理室6的側(cè)壁的外表面上，第一及第二磁碟108和110之間的間距可以減小?？稍谔幚硎?內(nèi)設(shè)置多個(gè)支撐件126，以支撐旋轉(zhuǎn)軸102。
圖4為示出了圖1所示上下清潔塊的剖視圖。 參見(jiàn)圖4，上清潔塊200具有和下清潔塊基本相同的結(jié)構(gòu)。例如，上清潔塊200包 括用于將清潔劑輸送至基板4的第一清潔塊210，和設(shè)置為靠近第一清潔塊210并吸收基板 4上的清潔劑的第二清潔塊220。清潔劑包括清潔溶液以及清潔溶液和其它氣體的混合物。
在實(shí)施例中，第一和第二清潔塊210和220排列在處理室6內(nèi)，設(shè)置成清潔劑能以 與傳送基板4的第一方向相反的方向在基板4上流動(dòng)。S卩，沿基板傳送方向，第二清潔塊 220位于第一清潔塊210的前面，因而第二清潔塊220和第一清潔塊210沿第一方向的先后 次序順序排列。 在實(shí)施例中，清潔劑包括去離子水。然而，前述去離子水只是清潔劑的示例，不應(yīng) 該被認(rèn)為是對(duì)其的限定。 因此，清潔劑能在基板4上以與基板傳送方向相反的方向從第一清潔塊210流動(dòng) 到第二清潔塊220，這樣清潔劑會(huì)將污染物從基板4清除。 在實(shí)施例中，第一和第二清潔塊210和220的側(cè)部分別設(shè)置有空氣幕塊230?？諝?幕塊230可防止污染物滯留在基板4與第一和第二清潔塊210和220之間的區(qū)域。此外， 空氣幕塊230引導(dǎo)從第一和第二清潔塊210和220下面的基板4清除的污染物被吸收進(jìn)第 二清潔塊220。 在實(shí)施例中，第一清潔塊210包括一對(duì)第一側(cè)壁212、與第一側(cè)壁212接觸的第一 上板214以及在第一側(cè)壁212的下部之間的多孔塊216。例如，多孔塊216包括多孔材料， 諸如可通過(guò)燒結(jié)處理形成的碳和不銹鋼。 因此，第一清潔塊210包括由第一側(cè)壁212、第一上板214以及多孔塊216界定的 第一緩沖空間218。清潔劑包含在第一清潔塊210的第一緩沖空間218內(nèi)，并可通過(guò)多孔塊 216輸送到基板4上。有了緩沖空間218，清潔劑被均勻地輸送到基板4上。
例如，多孔塊216具有直徑為約0. 1 ii m至約5 ii m的開(kāi)口以及連接至溶液貯槽(未 示出)的輸送管，可連接至第一上板214。 在實(shí)施例中，第二清潔塊220包括一對(duì)第二側(cè)壁222、與第二側(cè)壁接觸的第二上板 224以及由第二側(cè)壁222和在第二側(cè)壁222上部的第二上板224界定的第二緩沖空間226。 第一通孔228穿過(guò)第二側(cè)壁的下部并與第二緩沖空間226相連。這樣，被清潔劑從基板4 清除的污染物可與清潔劑一起通過(guò)第一通孔228被吸走。 有了第二空間226，污染物和清潔劑可通過(guò)第一通孔228被均勻地吸走。第二上板 224還可安裝有泵吸裝置(未示出)和泵管線，以吸走污染物和清潔劑。
雖然上述實(shí)施例公開(kāi)了第二清潔塊220包括用于吸走污染物和清潔劑的通孔 228，可利用本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的任意其它構(gòu)造或器具替代通孔228，或者與通孔 228組合。例如，可用多個(gè)孔替代通孔228來(lái)吸走污染物和清潔劑。所述孔可相互隔開(kāi)相同 的距離，還可為第二清潔塊220設(shè)置下板，用于在其上面形成所述孔。 在實(shí)施例中，各空氣幕還具有一對(duì)第三側(cè)壁232、與第三側(cè)壁232接觸的第三上板 234、以及由第三側(cè)壁232和位于第三側(cè)壁232上部的第三上板234界定的第三緩沖空間 236。第二通孔238穿過(guò)第三側(cè)壁232的下部，并與第三緩沖空間236相連。這樣，通過(guò)第 二通孔238在基板4和上清潔塊200之間形成空氣幕。
有了空氣幕塊230的第三緩沖空間236，空氣可均勻地輸送到基板4上，并且第三 上板234與空氣輸送裝置(未顯示)相連。 下清潔塊250的結(jié)構(gòu)基本上與前述上清潔塊200相同，因而省略了對(duì)下清潔塊250 的詳細(xì)描述。 因此，清潔劑可快速地在上清潔塊200和基板4之間于基板4的上表面上流動(dòng)，并 且在下清潔塊250和基板4之間于基板4的下表面上流動(dòng)，由此提高基板4上的清潔效率。 即，清潔劑由于該流動(dòng)路徑而具有康達(dá)效應(yīng)(Coandaeffect)，其可從第一清潔塊210輸送 并被吸收入第二清潔塊220，從而可有效地從基板4去除和清除污染物。
根據(jù)本發(fā)明的上述實(shí)施例，基板4首先用上下清潔塊200和250清潔而無(wú)需使用 刷子，從而大大減小第一清潔單元10的尺寸。 圖5為示出了圖4所示上下清潔塊的改動(dòng)方式的剖視圖。 參見(jiàn)圖5，改動(dòng)的上清潔塊300包括第一清潔塊310、第二清潔塊320和空氣幕塊 330。第二清潔塊320和空氣幕塊330的結(jié)構(gòu)基本上與參考圖4詳述的第二清潔塊220和空 氣幕塊230相同。從而下文省略了對(duì)第二清潔塊320及空氣幕塊330的進(jìn)一步詳細(xì)描述。
在實(shí)施例中，第一清潔塊310包括一對(duì)側(cè)壁312、與側(cè)壁312接觸的上板314和由 側(cè)壁312和位于側(cè)壁312上部的上板界定的緩沖空間316。通孔318從側(cè)壁的下部穿過(guò)，并 與緩沖空間316相連。這樣，清潔劑可通過(guò)通孔318輸送到基板4上。
有了緩沖空間316，清潔劑可通過(guò)通孔318均勻地輸送到基板4上。上板314與溶 液儲(chǔ)槽(未示出)相連。第一清潔塊310的通孔318從緩沖空間316向下延伸，緩沖空間 316中的清潔劑以與基板4垂直的方向輸送到基板4上。 改動(dòng)的下清潔塊350的結(jié)構(gòu)與改動(dòng)的上清潔塊300基本相同，因而省略了對(duì)改動(dòng) 的下清潔塊350的進(jìn)一步詳述。 參見(jiàn)圖1，第二清潔單元40可對(duì)經(jīng)過(guò)第一清潔單元10的第一清潔處理的基板4進(jìn) 行第二清潔處理。 在實(shí)施例中，第二清潔單元40包括第二傳送部42和噴嘴400，清潔劑通過(guò)噴嘴噴 射到基板4上?；?通過(guò)第二清潔單元40中的第二傳送部42以第一方向移動(dòng)。第二傳 送部42的結(jié)構(gòu)與第一傳送部12相同，因此省略了對(duì)第二傳送部42的進(jìn)一步詳述。
第二清潔單元40還具有第一和第二蓮蓬噴頭44和46，清潔劑可通過(guò)該蓮蓬噴頭 供應(yīng)。噴嘴400設(shè)置在第一和第二蓮蓬噴頭44和46之間。 圖6為示出了圖1所示噴嘴的剖視圖，圖7是示出了圖1所示噴嘴的側(cè)視圖。
參見(jiàn)圖6和圖7，噴嘴400包括一對(duì)板，即第一板410和第二板420，它們垂直于基 板4的上表面向上延伸。第一和第二板410和420互相連接成使得在第一和第二板410和 420之間形成通孔430。清潔劑可通過(guò)通孔430噴射到基板4上。噴嘴400可包括鄰近基 板4的末端部T和遠(yuǎn)離基板并與末端部相對(duì)的頭部H。 還有，噴嘴400包括位于第一和第二板410和420之間的密封件403 (圖6中未完 整示出)，從而可防止清潔劑從噴嘴400泄漏。 溶液儲(chǔ)槽440通過(guò)溶液輸送管442與第一板410的中心部相連。溶液輸送管442 通過(guò)第一板410延伸至通孔430。在本實(shí)施例中，多個(gè)溶液輸送管與第一板410的中心部相 連。
空氣儲(chǔ)罐450通過(guò)空氣輸送管452與噴嘴400的頭部H相連，并可將空氣輸送到 噴嘴400。在本實(shí)施例中，空氣輸送管452與第一板410的上部相連并通過(guò)第一板410延伸 至通孔430，從而從空氣輸送管452輸送入通孔430的空氣將從溶液輸送管442輸送的清潔 劑向下推進(jìn)通孔430。在本實(shí)施例中，有多個(gè)空氣輸送管452與第一板410的上部相連。
在實(shí)施例中，第一板410包括凹槽部412，第二板420包括與凹槽部412對(duì)應(yīng)的突 起部。凹槽部412和突起部422分別具有第一寬度wl和第二寬度w2。當(dāng)?shù)谝缓偷诙?10 和420互相連接時(shí)，突起部422插入凹槽部412，因而第一寬度wl稍大于第二寬度w2。由 于由凹槽部412和突起部422導(dǎo)致的通孔430的路徑變化部，清潔劑可均勻地噴射到基板 4上。 在實(shí)施例中，由凹槽部412和突起部422導(dǎo)致的通孔430的路徑變化部之后，通孔 430從噴嘴400的末端部T向上延伸至頭部H。具體地，通孔430的路徑變化部位于第一板 的中心部之下，該中心部與溶液輸送管442相連。S卩，凹槽部412和突起部422設(shè)置在第一 板410的中心部和噴嘴400的末端部之間。 即，通孔430包括第一通孔432、第二通孔434、第三通孔436和第四通孔438，其中 第一通孔與空氣輸送管相連，第二通孔與溶液輸送管442相連，第三通孔由凹槽部412和突 起部422界定，第四通孔由第一和第二板410和420界定在噴嘴400的末端部處。
例如，清潔溶液和空氣在第二通孔434處互相混合。在本實(shí)施例中，第一、第三和 第四通孔432、436和438具有第一間隙，第二通孔434具有大于第一間隙的第二間隙。第 一間隙為約0. 05mm至約0. lmm，第二間隙為約0. lmm至約1. Omm。 由于清 潔溶液和空氣的壓力，清潔溶液和空氣在第二通孔434處互相混合成清潔 霧。然后，第二通孔434中的清潔霧通過(guò)第三和第四通孔436和438均勻地噴射到基板4 上。 根據(jù)本發(fā)明的改動(dòng)實(shí)施例，通過(guò)多個(gè)溶液輸送管442輸送的清潔劑與通過(guò)多個(gè)空 氣輸送管452輸送的空氣在第二通孔434處混合，從而形成均勻的的清潔霧。然后，清潔霧 通過(guò)由凹槽部412和突起部422界定的第三通孔436以及第四通孔438噴射到基板4上， 從而提高清潔劑在基板4上的均勻性。 再次參見(jiàn)圖l，干燥單元50包括第三傳送部52、上干燥塊500和下干燥塊550。第 三傳送部52的結(jié)構(gòu)與第一傳送部12基本相同，因此省略了對(duì)第三傳送部52的詳細(xì)描述。
上干燥塊500位于由第三傳送部52傳送的基板4上方，因此上干燥塊500可使基 板4的上表面干燥。上干燥塊500以基本與傳送基板4的第一方向相垂直的第二方向延伸。 在本實(shí)施例中，上干燥塊500靠近基板4的上表面。 下干燥塊550位于由第三傳送部52傳送的基板4下方，從而下干燥塊550可使基 板4的下表面干燥。在本實(shí)施例中，下干燥塊550的結(jié)構(gòu)與上干燥塊550基本相同。下干 燥塊550以基本與傳送基板4的第一方向相垂直的第二方向延伸。在本實(shí)施例中，下干燥 塊550靠近基板4的下表面并且與上干燥塊500平行。
圖8為示出了圖l所示上、下干燥塊的剖視圖。 參見(jiàn)圖8，上干燥塊500的結(jié)構(gòu)與下干燥塊550基本相同。例如，上干燥塊550包 括將干燥氣體輸送到基板4上的第一干燥塊510和靠近第一干燥塊510并吸走基板4上的 干燥氣體的第二干燥塊520。
在實(shí)施例中，第一和第二干燥塊510和520以這樣的布局排列在處理室6內(nèi)，即干 燥氣體以與傳送基板4的第一方向相反的方向在基板4上流動(dòng)。S卩，沿基板傳送的方向，第 二干燥塊520位于第一干燥塊510的前面，從而第二干燥塊520和第一干燥塊510沿所述 第一方向按先后次序順序排列。 在實(shí)施例中，干燥氣體包括溫度約l(TC的空氣。然而，前述空氣僅僅是清潔劑的示 例而不應(yīng)認(rèn)為是對(duì)它的限定。例如，可使用非活性氣體例如氮?dú)獯婵諝狻?
因此，干燥氣體能以與基板傳送方向相反的方向在基板4上從第一干燥塊510流 動(dòng)到第二干燥塊520，從而干燥氣體可充分干燥基板4的上表面。此外，干燥氣體可將殘留 的極少量污染物充分地從基板4的上表面除去。 在實(shí)施例中，背塊540位于第一干燥塊510的背側(cè)部，從而基板4可被從背塊540 噴射的干燥氣體進(jìn)一步干燥。前塊530位于第二干燥塊520的前側(cè)部，從而從前塊530噴 射的干燥氣體可對(duì)基板4作初步干燥。因此，保留在基板4上的清潔劑例如去離子水被初 步干燥，這樣可防止清潔劑被傳送到上干燥塊500與基板4之間的空間。S卩，可以在上干燥 塊500開(kāi)始干燥處理前，從基板初步去除清潔劑。 在實(shí)施例中，第一干燥塊510包括一對(duì)第一側(cè)壁512、與第一側(cè)壁512接觸的第一 上板514以及處于第一側(cè)壁512下部之間的多孔塊516。例如，多孔塊516包括多孔材料， 例如通過(guò)燒結(jié)工藝形成的碳和不銹鋼。 因此，第一干燥塊510包括由第一側(cè)壁512、第一上板514和多孔塊516界定的第 一緩沖空間518。干燥氣體包含在第一干燥塊510的第一緩沖空間518內(nèi)，且可通過(guò)多孔 塊516被輸送到基板4上。因此，有了該第一緩沖空間518，干燥氣體可均勻地輸送到基板 4上。 例如，多孔塊516具有直徑為約0. liim至約5iim的通孔以及與干燥氣體儲(chǔ)罐(未 示出)連接的輸氣管，輸氣管連接至第一上板514。 在實(shí)施例中，第二干燥塊520包括一對(duì)第二側(cè)壁522、與第二側(cè)壁522接觸的第二 上板524以及由第二側(cè)壁522和處于第二側(cè)壁522上部的第二上板524界定的第二緩沖空 間526。第一通孔528穿過(guò)第二側(cè)壁522的下部并與第二緩沖空間526相連。這樣，可通過(guò) 第一通孔528吸走干燥氣體。 有了第二緩沖空間526，基板4上的干燥氣體通過(guò)第一通孔528被均勻地吸走。第 二上板524還安裝有真空裝置(未示出)和真空管，以吸走基板4上的干燥氣體。
雖然上述實(shí)施例公開(kāi)了第二干燥塊520包括用于吸走干燥氣體的通孔528，可使 用任意其它本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的結(jié)構(gòu)或器具來(lái)代替通孔528或與通孔528組合。例 如，可使用多個(gè)孔來(lái)代替用于吸走干燥氣體的通孔528。所述孔互相隔開(kāi)相同的距離，第二 干燥塊520具有下板，以在該下板上形成所述孔。在實(shí)施例中，前塊530包括一對(duì)第三側(cè)壁532、與第三側(cè)壁532接觸的第三上板
534以及由第三側(cè)壁532和第三上板534界定的位于第三側(cè)壁532上部位置的第三緩沖空
間536。第二通孔538穿過(guò)第三側(cè)壁532的下部，并與第三緩沖空間536相連。 有了第三緩沖空間536，干燥氣體可均勻地輸送到基板4上，第三上板534可與干
燥氣體儲(chǔ)罐相連。 在本實(shí)施例中，第二通孔538包括從第三緩沖空間536垂直向下延伸的上通孔538a和與上通孔538a相連的下通孔538b，該下通孔在與基板傳送方向相反的方向上相對(duì) 上通孔538a傾斜。例如，下通孔538b相對(duì)基板4的上表面的傾斜角為約60°至約80° 。
在實(shí)施例中，背塊540包括一對(duì)第四側(cè)壁542、與第四側(cè)壁542接觸的第四上板 544以及由第四側(cè)壁542與第四上板544界定的位于第四側(cè)壁542上部位置的第四緩沖空 間546。第三通孔548穿過(guò)第四側(cè)壁542的下部，并與第四緩沖空間546相連。
有了背塊540的第四緩沖空間546，干燥氣體可均勻地輸送到基板4上，且第四上 板544與干燥氣體儲(chǔ)罐相連。背塊540的第三通孔548從第四緩沖空間546垂直向下延伸， 這樣干燥天氣垂直輸送到基板4上。 在改動(dòng)的實(shí)施例中，從背塊540輸送的干燥氣體(附加干燥氣體)與從第一干燥 塊510輸送的所述干燥氣體不同。例如，附加干燥氣體以比所述干燥氣體高的溫度輸送到 基板。在本實(shí)施例中，可將溫度為約20至30的空氣或氮?dú)庾鳛楦郊痈稍餁怏w輸送到基板 4上，由此對(duì)基板4進(jìn)行附加干燥處理，并控制基板4的溫度。 在另一改動(dòng)實(shí)施例中，背塊540包括位于第四側(cè)壁542下部位置的多孔塊(未示 出)，以替代第三通孔548。因此，干燥氣體可通過(guò)背塊540的多孔塊輸送到基板4上。
下干燥塊550的結(jié)構(gòu)與前述上干燥塊500基本相同，因而省略了對(duì)下干燥塊550 的詳細(xì)說(shuō)明。 上、下干燥塊500和550與基板4隔開(kāi)，間距為約30 y m至約100 y m。在本實(shí)施例 中，基板4與干燥塊500和550之間的間距為約50 y m?；?與干燥塊500和550之間的 間距可根據(jù)基板4上的干燥效率和污染物二次清潔效率來(lái)確定。 因此，本實(shí)施例的基板4與干燥塊500和550之間的間距小于現(xiàn)有的氣刀與基板 之間的間距，這樣干燥氣體可在基板4與干燥塊500和550之間的空間中快速流動(dòng)，從而提 高基板4的干燥效率。此外，干燥氣體由于該流動(dòng)路徑而具有康達(dá)效應(yīng)，其可從第一干燥塊 510輸送，并被吸入到第二干燥塊520，這樣，可將殘留污染物從基板4有效地去除和清除 掉。 圖9為示出了圖8所示上、下清潔塊的改動(dòng)方式的剖視圖。 參見(jiàn)圖9，改動(dòng)的上干燥塊600包括第一干燥塊610、第二干燥塊620、前塊630和 背塊640。第二干燥塊620、前塊630和背塊640的結(jié)構(gòu)與根據(jù)圖8描述的第二干燥塊520、 前塊530和背塊540基本相同。因此，下文省略了對(duì)第二干燥塊620、前塊630和背塊640 的詳細(xì)描述。 在實(shí)施例中，第一干燥塊610包括一對(duì)側(cè)壁612、與側(cè)壁612接觸的上板614以及
由側(cè)壁612和上板614界定的位于側(cè)壁612上部位置的緩沖空間。通孔618穿過(guò)側(cè)壁612
的下部，并與緩沖空間616相連。這樣，干燥氣體通過(guò)通孔618輸送到基板4上。 有了緩沖空間616，干燥氣體通過(guò)通孔618均勻地輸送到基板4上。上板614與干
燥氣體儲(chǔ)罐(未示出)相連。第一干燥塊610的通孔618從緩沖空間616垂直向下延伸，
緩沖空間616中的干燥氣體以與基板4的上表面垂直的方向輸送到基板4上。 改動(dòng)的下干燥塊650的結(jié)構(gòu)與改動(dòng)的上干燥塊600基本相同，因此省略了對(duì)改動(dòng)
的下干燥塊650的進(jìn)一步詳細(xì)描述。 根據(jù)本發(fā)明概念的一些實(shí)施例，用于將清潔劑輸送到基板上的第一清潔塊和用于 從基板吸走清潔劑的第二清潔塊安裝在第一清潔單元中，由此提高清潔單元的清潔效率。
13此外，由于不使用刷子，第一清潔單元的的尺寸可大大減低。 還有，清潔劑和空氣可在第二清潔單元中混合，由此形成均勻的清潔霧。這樣，清
潔霧可替代清潔劑輸送到基板上，由此降低清潔基板所用的清潔劑的量。 還有，干燥單元中安裝有用于將干燥氣體輸送到基板的第一干燥塊和用于從基板
吸走干燥氣體的第二干燥塊，由此可充分地提高干燥單元的效率。此外，干燥塊在與基板傳
送方向基本垂直的基板寬度方向延伸，由此充分地減小干燥單元的尺寸。 因此，可充分地減小包括第一和第二清潔單元以及干燥單元的處理裝置的尺寸，
并可降低清潔劑和干燥氣體的用量。 前述內(nèi)容是對(duì)實(shí)施例的說(shuō)明，而不應(yīng)認(rèn)為是限制性的。雖然已經(jīng)描述了一些實(shí)施 例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員容易理解，可以在本質(zhì)上不脫離本發(fā)明的新的教示和優(yōu)點(diǎn)的情況 下對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行許多改動(dòng)。因此，所有這些改動(dòng)應(yīng)包括在權(quán)利要求書(shū)中定義的本發(fā)明 的范圍內(nèi)。在權(quán)利要求書(shū)中，裝置加功能的語(yǔ)句用于覆蓋本文記載的執(zhí)行所提到的功能的 結(jié)構(gòu)，并且不但包括結(jié)構(gòu)等價(jià)物還包括等價(jià)結(jié)構(gòu)。因此，應(yīng)理解，前述內(nèi)容是對(duì)各種實(shí)施例 的說(shuō)明而不應(yīng)認(rèn)為限于所公開(kāi)的具體實(shí)施例，并且對(duì)公開(kāi)實(shí)施例的這些改動(dòng)、以及其它實(shí) 施例應(yīng)包括在權(quán)利要求的范圍內(nèi)。
1權(quán)利要求
一種用于清潔基板的清潔單元，包括用于在第一方向傳送所述基板的傳送部；和靠近所述基板并以與所述第一方向基本垂直的第二方向延伸的清潔塊，所述清潔塊包括用于將清潔劑輸送到所述基板上的第一塊和位于所述第一塊的側(cè)部并吸走所述基板上的上述清潔劑的第二塊。
2. 如權(quán)利要求1所述的清潔單元，其中所述第一塊和第二塊以這樣的方式排列所述 清潔劑在上述基板上以與所述第一方向相反的方向流動(dòng)，使得在所述第一方向上所述第二 塊位于所述第一塊的前面。
3. 如權(quán)利要求1所述的清潔單元，其中所述第一塊包括用于容納所述清潔劑的緩沖空 間；以及多孔塊，所述清潔劑通過(guò)所述多孔塊從所述緩沖空間輸送到所述基板上。
4. 如權(quán)利要求3所述的清潔單元，其中所述緩沖空間由成對(duì)的側(cè)壁、與所述側(cè)壁接觸 的上板以及位于所述側(cè)壁下部位置的所述多孔塊界定。
5. 如權(quán)利要求1所述的清潔單元，其中所述第一塊包括用于容納所述清潔劑的緩沖空 間；以及通孔，所述清潔劑通過(guò)所述通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。
6. 如權(quán)利要求5所述的清潔單元，其中所述緩沖空間由成對(duì)的側(cè)壁和與所述側(cè)壁接觸 的上板界定，且所述通孔穿過(guò)所述側(cè)壁的下部。
7. 如權(quán)利要求1所述的清潔單元，其中所述清潔塊還包括分別位于所述第一塊和所述 第二塊側(cè)部的空氣幕塊，所述空氣幕塊將空氣輸送到所述基板上，由此將空氣幕提供到所 述基板的表面。
8. 如權(quán)利要求7所述的清潔單元，其中所述空氣幕塊包括用于容納所述空氣的緩沖空 間；以及通孔，所述空氣通過(guò)該通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。
9. 如權(quán)利要求1所述的清潔單元，其中所述清潔塊包括靠近所述基板的上表面的上清 潔塊和靠近所述基板下表面的下清潔塊，所述上清潔塊和下清潔塊的結(jié)構(gòu)基本相同。
10. —種處理基板的裝置，包括在所述基板上進(jìn)行清潔處理的清潔單元，具有用于在第一方向傳送所述基板的第一傳 送部、用于將清潔劑輸送到所述基板上的第一清潔塊和位于所述第一清潔塊側(cè)部并吸走所 述基板上的所述清潔劑的第二清潔塊，所述第一清潔塊和第二清潔塊靠近所述基板并在基 本垂直于所述第一方向的第二方向延伸；及在所述基板上進(jìn)行干燥處理的干燥單元，包括用于將干燥氣體輸送到所述基板上的第 一干燥塊和位于所述第一干燥塊側(cè)部并吸走所述基板上的所述干燥氣體的第二干燥塊。
11. 如權(quán)利要求io所述的裝置，其中所述第一清潔塊和第二清潔塊以這樣的方式排列，所述清潔劑以與所述第一方向相反的方向在所述基板上流動(dòng)，使得在所述第一方向上， 所述第二清潔塊處在所述第一清潔塊前面。
12. 如權(quán)利要求IO所述的裝置，其中所述第一清潔塊包括用于容納所述清潔劑的緩沖 空間；以及多孔塊，所述清潔劑通過(guò)所述多孔塊從所述緩沖空間輸送到所述基板上。
13. 如權(quán)利要求IO所述的裝置，其中所述第一清潔塊包括用于容納所述清潔劑的緩沖 空間；以及通孔，所述清潔劑通過(guò)所述通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。
14. 如權(quán)利要求IO所述的裝置，其中所述清潔單元還包括分別位于所述第一清潔塊和 第二清潔塊側(cè)部的空氣幕塊，所述空氣幕塊將空氣輸送到所述基板上，由此將空氣幕提供到所述基板的表面。
15. 如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述第一干燥塊和第二干燥塊以這樣的方式排列所述干燥氣體以與所述第一方向相反的方向在所述基板上流動(dòng)，使得在所述第一方向 上，所述第二干燥塊處在所述第一干燥塊的前面。
16. 如權(quán)利要求15所述的裝置，其中所述干燥單元還包括在所述干燥處理前進(jìn)行初步干燥處理的前塊，其位于所述第二干燥塊的前側(cè)并將所述 干燥氣體輸送到所述基板上；以及在所述干燥處理后進(jìn)行附加干燥處理的背塊，其位于所述第一干燥塊的背側(cè)并將所述 干燥氣體輸送到所述基板上。
17. 如權(quán)利要求16所述的裝置，其中所述前塊包括用于容納所述干燥氣體的緩沖空 間；以及通孔，所述干燥氣體通過(guò)所述通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。
18. 如權(quán)利要求17所述的裝置，其中所述前塊的通孔包括從所述緩沖空間垂直向下延 伸的上通孔；以及與所述上通孔相連、并在與第一方向相反的方向上相對(duì)所述上通孔傾斜 的下通孔。
19. 如權(quán)利要求16所述的裝置，其中從所述背塊輸送的干燥氣體的溫度高于從所述前 塊輸送的干燥氣體。
20. 如權(quán)利要求IO所述的裝置，其中所述第一干燥塊包括用于容納干燥氣體的緩沖空 間；以及多孔塊，干燥氣體通過(guò)該多孔塊從所述緩沖空間輸送到所述基板上。
21. 如權(quán)利要求IO所述的裝置，其中所述第一干燥塊包括用于容納所述干燥氣體的緩 沖空間；以及通孔，干燥氣體通過(guò)該通孔從所述緩沖空間輸送到所述基板上。
22. 如權(quán)利要求IO所述的裝置，還包括用于進(jìn)行二次清潔處理的二次清潔單元，其處 于所述清潔單元和所述干燥單元之間，所述二次清潔單元在所述基板上方朝上延伸，并包 括噴嘴，所述清潔劑通過(guò)該噴嘴噴射到所述基板上。
23. 如權(quán)利要求22所述的裝置，其中所述噴嘴包括一對(duì)第一和第二板以及在這對(duì)板之 間的、沿所述第二方向延伸的通孔，所述清潔劑通過(guò)所述噴嘴的通孔輸送到所述基板上。
24. 如權(quán)利要求23所述的裝置，其中用于將清潔溶液輸送到所述通孔中的第一輸送管 和用于輸送空氣的第二輸送管與所述板之一相連，使得所述清潔溶液和空氣在所述通孔內(nèi) 互相混合，由此形成清潔霧。
25. 如權(quán)利要求24所述的裝置，其中所述噴嘴包括鄰近所述基板的末端部和遠(yuǎn)離所述 基板的頭部，且所述第一輸送管與所述板的中心部相連，所述第二輸送管與所述板對(duì)應(yīng)于 所述噴嘴的頭部的上部相連，從而所述通孔從所述頭部向下延伸到所述末端部，且空氣輸 送到所述噴嘴的通孔中的所述清潔溶液上。
26. 如權(quán)利要求25所述的裝置，其中所述第一板包括凹槽部，所述第二板包括插入所述第 一板的所述凹槽部的突起部，使得所述通孔包括由所述凹槽部和突起部形成的路徑變化部。
27. 如權(quán)利要求26所述的裝置，其中所述凹槽部和突起部位于所述板的中心部和端部 之間，所述板的端部與所述噴嘴的末端部對(duì)應(yīng)。
28. 如權(quán)利要求25所述的裝置，其中所述通孔在所述末端部附近具有第一寬度，并且 在所述頭部附近具有大于所述第一寬度的第二寬度，所述清潔溶液和空氣在所述頭部附近 的所述通孔中互相混合。
全文摘要
在包括清潔基板的清潔單元的裝置中，清潔單元包括以第一方向傳送基板的傳送部和靠近基板并在與第一方向基本垂直的第二方向延伸的清潔塊。該清潔塊包括將清潔劑輸送到基板上的第一塊和位于第一塊側(cè)部并吸走基板上的清潔劑的第二塊。第一塊和第二塊以這樣的方式排列，所述清潔劑以與第一方向相反的方向在基板上流動(dòng)，使得在第一方向上，第二塊處在第一塊的前面。
文檔編號(hào)B08B1/02GK101758036SQ20091022537
公開(kāi)日2010年6月30日 申請(qǐng)日期2009年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月18日
發(fā)明者尹汰熱, 崔貞烈, 樸亨基, 金正善 申請(qǐng)人:細(xì)美事有限公司