專利名稱：一種清洗機的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種清洗機，具體涉及一種具有新型傳輸裝置的清洗機。
背景技術：
在液晶顯示LCD (Liquid Crystal Display)行業(yè)、薄膜光伏太陽 能行業(yè)、等離子顯示PDP (Plasma Display Panel)行業(yè)廣泛應用干式 清洗技術，應用干式清洗技術清洗大尺寸鍍膜玻璃工藝表面固體微異 顆粒物質。干式清洗技術清洗工作原理是氣體壓縮和膨脹或壓縮及膨 脹反復進行使空氣碰撞并產生超聲波的工藝氣體分離工藝表面固體 微異顆粒物質，達到理想工藝效果需要在清洗頭和工件工藝表面形成 均勾的工藝狹縫。為了達到理想均勻工藝狹縫需要被清洗工件吸附于 工作平臺，使工作平臺對工件向下吸附力抵消理想均勻工藝狹縫產生 的干式清洗頭氣流對工件向上的吸引力。
現有技術干式清洗技術有兩種第一、工作臺固定吸附工件固定 不動，干式清洗頭移動完成干式清洗工藝；第二、干式清洗頭固定， 工作臺固定吸附工件移動完成干式清洗工藝。以上工藝方法都存在一 個工藝節(jié)拍出現兩次工件傳輸機構與工作臺的工件交換過程，此段工 藝成為提高生產線整體節(jié)拍的瓶頸。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的就在于提供一種清洗機，以解決上述現有技術中的 缺陷。
為實現上述目的，本發(fā)明的技術方案是釆用一種清洗機，包括機 架和設在所述機架上的傳輸裝置和清洗裝置，所述傳輸裝置包括 傳入機構，設在清洗裝置的一側，用于向清洗裝置傳入待清洗工
機
主冃件；
傳出機構，設在清洗裝置的另一側，用于傳出已清洗工件； 吸盤移動機構，設在所述傳輸裝置的下方，用于提供工件向下的 吸附力。
其中，所述傳入機構和傳出機構分別包括設在所述機架上表面的 若干滾輪和用于驅動滾輪的電機，所述滾輪用于搭載工件。 其中，若干滾輪對稱分布在所述機架的寬度方向的兩側。 其中，所述吸盤移動機構包括 吸盤，用于吸附工件的下表面；
氣缸，設在移動座板上，與所述吸盤相連，控制吸盤上下移動； 絲杠，橫向設置在所述機架上，所述移動座板通過伺服電極的驅 動能夠在所述絲杠上往復移動。 其中，還包括
導向滾輪，設在機架的上表面，用于對放置在滾輪上的工件進行 導向。
本發(fā)明可大幅度提高干式清洗工藝節(jié)拍，大幅度提高生產線產 能，同時兼容不同尺寸工件清洗工藝;.節(jié)約生產線投資成本，減少生 產線占用空間，提高投資回報率。


圖l是本發(fā)明的具體實施方式
的清洗機的結構圖； 圖2是本發(fā)明的具體實施方式
的吸盤移動機構的結構圖。 圖中主要部件的符號說明1、機架；2、滾輪；3、滾輪；4、導 向滾輪；5、吸盤；6、電機；7、電機；8、工件；9、汽缸；10、伺 服電機；11、吸盤移動機構；12、清洗裝置；13、絲杠。
具體實施例方式
以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。 本發(fā)明的清洗機利用兩套傳輸機構和一套吸盤移動機構實現干式清洗工藝。兩套傳輸機構為傳入機構和傳出機構，分別控制工件滾 入傳輸和工件滾出傳輸，干式清洗工藝過程中兩套滾輪傳輸機構同 步，同時一套吸盤移動機構同步移動并實現提供工件向下吸附力，使 工件在干式清洗工藝過程中能夠壓附在傳輸滾輪表面，對工件向下吸 附力抵消理想均勻工藝狹縫產生的干式清洗頭氣流對工件向上的吸 引力。
如圖1所示，在機架1上設置清洗裝置12，清洗裝置12的一側 為傳入機構，另一側為傳出機構，傳入機構與傳出機構的下方設有吸 盤移動機構。傳入機構和傳出機構的結構基本相同，傳入機構包括滾 輪2和用于驅動滾輪2的電機6，傳出機構包括滾輪3和用于驅動滾 輪3的電機7，其中滾輪設在機架1的上表面，對稱布置在機架l寬 度方向的兩側，這里所述的寬度方向為垂直于紙面的方向。
如圖2所示，吸盤移動機構11包括吸盤5、汽缸9、移動座板 19、滾珠絲杠15。所有吸盤5都設在吸盤架25上，吸盤架25的下 側設有連接板24,連接板通過滾珠導套20、升降導柱21、導柱安裝 座22與移動座板19相連，在移動座板19上設有汽缸9，汽缸9能 夠伸出或縮進，汽缸9伸出時使吸盤5吸附工件8，縮進時吸盤5下 降從而放開工件8。移動座板19的下側與滾動導軌27連接，通過導 軌塊28在滾動導軌27上移動。移動座板19的下側還設有絲杠螺母 17,絲杠螺母17設在絲杠13上，設在絲杠13—端的從動帶輪16通 過同步帶14與伺服電機10的主動同步帶輪13連接，通過伺服電極 10的驅動能夠在絲杠13上作往復運動。
在機架1的上表面還設有導向滾輪，具體設在工件8的兩側，即 機架1寬度方向的兩側，用于實現不同尺寸工件8的導向切換。
下面對本實施方式的工作過程進行說明
電機6驅動滾輪2快速傳輸工件8至清洗工藝前待機位置；氣缸 9伸出使吸盤5吸附工件8;滾輪2、滾輪3和吸盤5以同步清洗工藝速度(低速)傳輸工件8向前移動；在清洗裝置12處完成干式清 洗工藝過程，氣缸9縮回使吸盤5下降，伺服電機10驅動移動座板 19快速返回工件8入口側，準備下一節(jié)拍工藝過程，同時電機7驅 動滾輪3滾輪繼續(xù)快速傳輸工件8到設備出口側。
本實施方式的兩套工件滾輪傳輸機構分離，速度可調，工件流入 和流出可同時進行；清洗工藝速度(低速)傳輸可參數化調整；對工 件向下吸附力抵消理想均勻工藝狹縫產生的干式清洗頭氣流對工件 向上的吸引力，工藝狹縫工藝參數任意可調；吸盤下降、快速回程不 影響整機工藝節(jié)拍；可實現不同尺寸工件切換傳輸；可應用上下布置 雙干式清洗頭工作方式。
以上為本發(fā)明的最佳實施方式，依據本發(fā)明公開的內容，本領域 的普通技術人員能夠顯而易見地想到 一些雷同、替代方案，這些雷同、 替代方案均應落入本發(fā)明保護的范圍。
權利要求
1、一種清洗機，包括機架和設在所述機架上的傳輸裝置和清洗裝置，其特征在于，所述傳輸裝置包括傳入機構，設在清洗裝置的一側，用于向清洗裝置傳入待清洗工件；傳出機構，設在清洗裝置的另一側，用于傳出已清洗工件；吸盤移動機構，設在所述傳輸裝置的下方，用于提供工件向下的吸附力。
2、 如權利要求1所述的清洗機，其特征在于，所述傳入機構和傳出機構分別包括設在所述機架上表面的若干滾輪和用于驅動滾輪的電機，所述滾輪用于搭載工件。
3、 如權利要求2所述的清洗機，其特征在于，若干滾輪對稱分布在所述機架的寬度方向的兩側。
4、 如權利要求1所述的清洗機，其特征在于，所述吸盤移動機構包括吸盤，用于吸附工件的下表面；氣缸，設在移動座板上，與所述吸盤相連，控制吸盤上下移動；絲杠，橫向設置在所述機架上，所述移動座板通過伺服電極的驅動能夠在所述絲杠上往復移動。
5、 如權利要求l所述的清洗機，其特征在于，還包括導向滾輪，設在機架的上表面，用于對放置在滾輪上的工件進行導向。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種清洗機，包括機架和設在所述機架上的傳輸裝置和清洗裝置，所述傳輸裝置包括傳入機構，設在清洗裝置的一側，用于向清洗裝置傳入待清洗工件；傳出機構，設在清洗裝置的另一側，用于傳出已清洗工件；吸盤移動機構，設在所述傳輸裝置的下方，用于提供工件向下的吸附力。本發(fā)明可大幅度提高干式清洗工藝節(jié)拍，大幅度提高生產線產能，同時兼容不同尺寸工件清洗工藝；節(jié)約生產線投資成本，減少生產線占用空間，提高投資回報率。
文檔編號B08B13/00GK101628291SQ20091008869
公開日2010年1月20日 申請日期2009年7月6日 優(yōu)先權日2009年7月6日
發(fā)明者波 吳, 鵬 唐, 葛成重 申請人:北京清大天達光電科技有限公司