專利名稱：工業(yè)塵埃清洗方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及等離子顯示器領(lǐng)域，具體而言，涉及一種工業(yè)塵埃清洗方法及裝置。
背景技術(shù)：
液晶基板、等離子基板、薄膜及版面進(jìn)行油漆等生產(chǎn)過程中對(duì)塵埃的要求是非常 嚴(yán)格的，現(xiàn)有的工業(yè)塵埃清洗方法采用水洗或毛刷進(jìn)行清洗，這樣一是浪費(fèi)資源和空間、增 大成本，二是潔凈度不能保證，二次污染的可能性極大。
因此，有必要對(duì)現(xiàn)有的清洗方法進(jìn)行改進(jìn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的在于提供一種利用氣體進(jìn)行的工業(yè)塵埃清洗方法及裝置，以替代水洗 或毛刷進(jìn)行清潔。 為此，本發(fā)明提供的利用氣體進(jìn)行工業(yè)塵埃清洗的方法包括利用高壓氣體形成 的渦流吹掃工件表面，利用真空口將渦流吹掃起來的塵埃抽走。 其中，上述渦流自至少一渦流出口吹出，上述真空口環(huán)繞至少一渦流出口 。
其中，上述渦流自一槽中吹出，上述真空口在上述中心槽的兩側(cè)平行延伸。
其中，使上述工件在上述渦流下方水平移動(dòng)。
其中，使用于吹掃的渦流沿工件表面移動(dòng)。 其中，上述工件為待清洗的等離子或液晶基板、其它薄膜或薄板表面的除塵清洗等。 其中，上述渦流由高壓氣體進(jìn)入一圓形腔體中形成。 另外，本發(fā)明還提供一種利用氣體進(jìn)行工業(yè)塵埃清洗的裝置，包括渦流產(chǎn)生裝 置，具有至少一渦流出口 ；罩，設(shè)在渦流產(chǎn)生裝置的外圍，以形成環(huán)繞渦流產(chǎn)生裝置的真空 口 ；以及抽真空裝置，與真空口相連。 其中，上述渦流產(chǎn)生裝置包括高壓進(jìn)氣管、渦流腔、以及與渦流腔連通的至少一渦 流出口。 其中，上述渦流腔為球形腔體。 本發(fā)明利用高壓氣體形成的渦流吹掃工件表面，利用真空口將渦流吹掃起來的塵
埃抽走，不但將輕浮在工件表面的塵埃抽走，而且還將緊密附著在工件上的塵埃去除掉，節(jié)
約了資源和空間、降低了成本，清洗的潔凈度較好，二次污染的可能性極小。 除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)之外，本發(fā)明還有其它的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)。
下面將參照?qǐng)D，對(duì)本發(fā)明的其它的目的、特征和效果作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。


此處所說明的附圖用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分。圖中，
圖1示意性的示出了根據(jù)本發(fā)明的工業(yè)塵埃清洗的裝置的結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施例方式
下面將參考附圖并結(jié)合優(yōu)選實(shí)施例，來詳細(xì)說明本發(fā)明。 本發(fā)明的工業(yè)塵埃清洗方法是利用高壓氣體形成的渦流吹掃工件表面，再利用真 空口將所述渦流吹掃起來的塵埃抽走。從而達(dá)到清潔工件表面的目的。下面描述根據(jù)本發(fā) 明方法的裝置。 圖1示意性的示出了根據(jù)本發(fā)明的利用氣體進(jìn)行工業(yè)塵埃清洗的裝置的結(jié)構(gòu)。如 圖所示，根據(jù)本發(fā)明的利用氣體進(jìn)行的工業(yè)塵埃清洗裝置包括渦流產(chǎn)生裝置30，罩40，抽 真空裝置(圖中未示出)，以及用于輸送待清潔工件的傳送裝置10。 傳送裝置10，用于傳送工件20，該工件20為需清洗工業(yè)塵埃的等離子或液晶基 板、其它薄膜或薄板等部件；渦流產(chǎn)生裝置30，設(shè)置在傳送裝置10的上方，用于產(chǎn)生渦流， 渦流產(chǎn)生裝置30具有高壓進(jìn)氣管(圖中未示出)、形狀為球形腔體的渦流腔33、以及與渦 流腔連通的渦流出口 31 ;罩40，設(shè)在渦流產(chǎn)生裝置30的外圍，以形成環(huán)繞渦流產(chǎn)生裝置30 的真空口 32 ;抽真空裝置，與真空口 32相連，可以由真空泵、真空管道和真空閥門構(gòu)成。
清洗工件20的工業(yè)塵埃時(shí)，傳送裝置10將工件20傳送至渦流產(chǎn)生裝置30下面， 渦流腔33產(chǎn)生渦流，通過渦流出口 31，利用壓力為0. 5 0. 7Mpa的高壓氣體形成的渦流吹 掃工件20表面，兩邊的抽真空口 32把渦流旋掃起來的塵埃及從兩邊抽吸進(jìn)來的塵埃一起 抽走。隨著傳送裝置10將工件20從一端傳送至另一端，工件20表面上的工業(yè)塵埃就被清 洗干凈。本發(fā)明不但將輕浮在工件表面的塵埃抽走，而且還將緊密附著在工件20上的塵埃 去除掉，從而達(dá)到徹底清潔的目的。 在圖l所示的工業(yè)塵埃清洗裝置中，渦流腔33還可以為其他形狀，只要能產(chǎn)生渦 流即可。渦流出口根據(jù)情況可以設(shè)置多個(gè)。另外，渦流出口還可以呈槽狀，此時(shí)，用于抽真 空的真空口可設(shè)置在槽狀渦流出口的兩側(cè)。 本發(fā)明能替代以往的利用水洗、毛刷清洗等方法，節(jié)約資源和空間、降低成本，清 洗的潔凈度較好，二次污染的可能性極小。 以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人 員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、 等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
一種工業(yè)塵埃清洗方法，其特征在于，包括利用高壓氣體形成的渦流吹掃工件表面，利用真空口將所述渦流吹掃起來的塵埃抽走。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)塵埃清洗方法，其特征在于， 所述渦流自至少一渦流出口吹出，所述真空口環(huán)繞所述至少一渦流出口 。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)塵埃清洗方法，其特征在于， 所述渦流自 一槽中吹出，所述真空口在所述槽的兩側(cè)平行延伸。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)塵埃清洗方法，其特征在于， 使所述工件在所述渦流下方水平移動(dòng)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)塵埃清洗方法，其特征在于， 使用于吹掃的渦流沿所述工件表面移動(dòng)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)塵埃清洗方法，其特征在于， 所述工件為待清洗的等離子或液晶基板、薄膜或薄板表面。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的工業(yè)塵埃清洗方法，其特征在于，所述渦流由高 壓氣體進(jìn)入一圓形腔體中形成。
8. —種工業(yè)塵埃清洗裝置，其特征在于，包括 渦流產(chǎn)生裝置，具有至少一渦流出口 ；罩，設(shè)在所述渦流產(chǎn)生裝置的外圍，以形成環(huán)繞渦流產(chǎn)生裝置的真空口 ；以及抽真空裝 置，與所述真空口相連。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的工業(yè)塵埃清洗裝置，其特征在于，所述渦流產(chǎn)生裝置包括高 壓進(jìn)氣管、渦流腔、以及與所述渦流腔連通的至少一渦流出口 。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的工業(yè)塵埃清洗裝置，其特征在于，所述渦流腔為球形腔體。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種工業(yè)塵埃清洗方法，該方法包括利用高壓氣體形成的渦流吹掃工件表面，利用真空口將渦流吹掃起來的塵埃抽走。另外，本發(fā)明還提供一種工業(yè)塵埃清洗裝置，該裝置包括渦流產(chǎn)生裝置，具有至少一渦流出口；罩，設(shè)在渦流產(chǎn)生裝置的外圍，以形成環(huán)繞渦流產(chǎn)生裝置的真空口；以及抽真空裝置，與真空口相連。本發(fā)明能替代以往的利用水洗、毛刷清洗等方法，節(jié)約資源和空間、降低成本，清洗的潔凈度較好，二次污染的可能性極小。
文檔編號(hào)B08B15/00GK101716582SQ20081024752
公開日2010年6月2日 申請(qǐng)日期2008年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月30日
發(fā)明者呂娜, 柴立軍 申請(qǐng)人:四川虹歐顯示器件有限公司