專(zhuān)利名稱(chēng)：噴嘴清潔裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清潔裝置，特別是一種噴嘴清潔裝置。
技術(shù)背景于平面顯示設(shè)備制程或半導(dǎo)體設(shè)備制程中，須歷經(jīng)多道光微影技術(shù)(photolithography)以曝光定義區(qū)域以及對(duì)薄膜進(jìn)行蝕刻(etching)等步驟。 其中曝光定義區(qū)域的步驟，是將光致抗蝕劑(photoresist)等感光液涂布于 基板或晶圓上而形成感光薄膜。在涂布機(jī)(Coater)每一次涂布光致抗蝕劑時(shí)，都必須清除光致抗蝕劑 噴嘴(Nozzle)表面在前次涂布時(shí)所殘留的光致抗蝕劑，避免其影響到后續(xù) 光致抗蝕劑涂布的質(zhì)量，因此，涂布機(jī)進(jìn)行涂布完后即會(huì)以橡膠(Rubber) 清潔噴嘴。而現(xiàn)有的橡膠工具利用機(jī)臺(tái)參數(shù)進(jìn)行對(duì)位，但由于機(jī)械對(duì)位的精 度受限于機(jī)器設(shè)備的對(duì)位精度極限，并無(wú)法由機(jī)臺(tái)控制，于是在長(zhǎng)時(shí)間反復(fù) 動(dòng)作的情況下，橡膠與噴嘴的機(jī)械對(duì)位精度逐漸產(chǎn)生偏差，使得橡膠無(wú)法完 整清潔噴嘴，進(jìn)而于基板上產(chǎn)生膠體殘留而嚴(yán)重影響制程。雖可以加裝彈簧 的方式控制機(jī)械對(duì)位精度的偏差，但此種方式會(huì)造成橡膠的不當(dāng)磨損，不僅 會(huì)使得膜厚異常，且仍舊無(wú)法解決基板上產(chǎn)生膠體殘留的問(wèn)題。因此，如何提供一種噴嘴清潔裝置，使其不僅可抑制機(jī)械對(duì)位精度的偏 差的缺陷，進(jìn)而避免橡膠在清潔過(guò)程中發(fā)生不當(dāng)磨損，并解決基板上產(chǎn)生膠 體的問(wèn)題，是一個(gè)刻不容緩的待解決課題。發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種噴嘴清潔裝置，使其能夠避免橡 膠在清潔過(guò)程中發(fā)生不當(dāng)磨損，并解決基板上產(chǎn)生膠體的問(wèn)題。本發(fā)明的噴嘴清潔裝置包含具有至少一個(gè)傾斜面的噴嘴，噴嘴清潔裝置 包含基座、擦拭件及至少一個(gè)磁力件。擦拭件位于基座上，包含嵌置部及至少一個(gè)導(dǎo)斜面，導(dǎo)斜面位于嵌置部的周緣并對(duì)應(yīng)于傾斜面設(shè)置。磁力件位 于基座的側(cè)邊，用以產(chǎn)生磁力吸引噴嘴而使導(dǎo)斜面貼合傾斜面。本發(fā)明亦提出一種噴嘴清潔裝置，包含具有至少一個(gè)傾斜面的噴嘴，噴 嘴清潔裝置包含基座、擦拭件、至少一個(gè)輔助桿及至少一個(gè)磁力件。擦拭 件位于基座上，包含嵌置部及至少一個(gè)導(dǎo)斜面，導(dǎo)斜面位于嵌置部的周緣并 對(duì)應(yīng)于該傾斜面設(shè)置。輔助桿位于基座的側(cè)邊。磁力件位于輔助桿的一端， 用以產(chǎn)生磁力吸引噴嘴而使導(dǎo)斜面貼合傾斜面。本發(fā)明提出一種噴嘴清潔裝置，適用于涂布機(jī)，包含具有至少一個(gè)傾斜 面的噴嘴，噴嘴清潔裝置包含基座、擦拭件及至少一個(gè)磁力件。擦拭件位 于基座上，包含嵌置部及至少一個(gè)導(dǎo)斜面，導(dǎo)斜面位于嵌置部的一側(cè)并對(duì)應(yīng) 于傾斜面設(shè)置。磁力件位于基座的側(cè)邊，用以產(chǎn)生磁力吸引噴嘴而使導(dǎo)斜面 貼合傾斜面。本發(fā)明的有益技術(shù)效果在于，本發(fā)明以磁力吸附方式使噴嘴與擦拭件完 成自動(dòng)對(duì)位校正，不僅可避免現(xiàn)有技術(shù)中以機(jī)械對(duì)位方式造成噴嘴或擦拭件 磨損的問(wèn)題，并可提高本發(fā)明的噴嘴清潔裝置在位移時(shí)的穩(wěn)定性。有關(guān)本發(fā)明的較佳實(shí)施例及其功效，現(xiàn)配合


如后。

圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例的分解示意圖。圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例的動(dòng)作示意圖(一)。 圖3為本發(fā)明第一實(shí)施例的動(dòng)作示意圖(二)。 圖4為本發(fā)明第一實(shí)施例的動(dòng)作示意圖(三)。 圖5A為本發(fā)明第二實(shí)施例的動(dòng)作示意圖(一)。 圖5B為本發(fā)明第二實(shí)施例的動(dòng)作示意圖(二)。 圖6A為本發(fā)明第三實(shí)施例的動(dòng)作示意圖(一)。 圖6B為本發(fā)明第三實(shí)施例的動(dòng)作示意圖(二)。 其中，附圖標(biāo)記說(shuō)明如下 l噴嘴清潔裝置 10基座12容納部 14穿孔30擦拭件 31嵌置部311導(dǎo)斜面 40定位板 50輔助桿 50b第二端 60磁力件 9噴嘴8鎖固元件 91傾斜面32定位孔 41定位柱 50a第一端 51區(qū)段具體實(shí)施方式
圖1所示為本發(fā)明的第一實(shí)施例。第一實(shí)施例的噴嘴清潔裝置1適用于清潔涂布機(jī)，該清潔涂布機(jī)包含具 有傾斜面91的噴嘴9，其中噴嘴清潔裝置l包含基座IO、擦拭件30、磁 力件60?；鵌O于上半部設(shè)有凸部，而于凸部之間形成概呈凹陷狀的容納部12， 此外，容納部12的側(cè)邊可設(shè)有穿孔14。擦拭件30設(shè)置于基座10的容納部12內(nèi)，設(shè)有概呈凹陷狀的嵌置部31， 并于嵌置部31的一側(cè)設(shè)有導(dǎo)斜面311，其中，導(dǎo)斜面311較佳地可設(shè)置于嵌 置部31的周緣，并對(duì)應(yīng)于噴嘴9的傾斜面91設(shè)置，但并非以此為限，熟悉 此技術(shù)的人員可依實(shí)際需求來(lái)調(diào)整其結(jié)構(gòu)。此外，擦拭件30的材質(zhì)可為橡 膠或塑料，但本發(fā)明不限于此。本實(shí)施例的噴嘴清潔裝置另包含定位板40，其可為概呈矩形狀的片體， 其中，定位板40上設(shè)有定位柱41，擦拭件30設(shè)有與定位柱41相對(duì)應(yīng)的定 位孔32，當(dāng)鎖固元件8穿過(guò)定位板40而鎖固于基座10的穿孔14時(shí)，定位 板40的定位柱41嵌入擦拭件30的定位孔32，以此使定位板40定位擦拭件 30。于前述說(shuō)明中，定位板40上設(shè)有定位柱41、擦拭件30設(shè)有定位孔32 僅是舉例，但本發(fā)明不限于此，在其它實(shí)施例中，定位板40上可設(shè)有定位 孔，擦拭件30可設(shè)有與其相對(duì)應(yīng)的定位柱，以此使定位柱嵌入定位孔而結(jié) 合定位板40與擦拭件30，相關(guān)技術(shù)人員可依實(shí)際需求來(lái)調(diào)整其結(jié)構(gòu)。磁力件60設(shè)置于基座10的側(cè)邊，用以吸引噴嘴9而使基座10的導(dǎo)斜 面311貼合噴嘴9的傾斜面91，在本實(shí)施例中，磁力件60較佳地概呈圓環(huán)形，并可經(jīng)由鎖固元件8鎖固于定位板40上。此外，磁力件60的材質(zhì)可為 永久性磁鐵或電磁鐵，但本發(fā)明不限于此。如圖2、圖3及圖4所示，噴嘴9在開(kāi)始時(shí)與本發(fā)明的噴嘴清潔裝置1 的距離未在磁力件60的磁力感應(yīng)范圍內(nèi)，當(dāng)噴嘴9需清潔時(shí)，移動(dòng)本發(fā)明 的噴嘴清潔裝置1靠近噴嘴9。當(dāng)本發(fā)明的噴嘴清潔裝置1移動(dòng)至預(yù)設(shè)位置 處，使噴嘴9進(jìn)入磁力件60的磁力感應(yīng)范圍內(nèi)，即可經(jīng)由磁力件60吸附噴 嘴9，使噴嘴9對(duì)準(zhǔn)并嵌入嵌置部31，其中，嵌置部31的導(dǎo)斜面311會(huì)沿 著噴嘴9的傾斜面91位移，當(dāng)噴嘴9完全嵌入嵌置部31時(shí)，嵌置部31的 導(dǎo)斜面311貼合噴嘴9的傾斜面91 ，達(dá)到以磁力完成自動(dòng)對(duì)位校正的目的。本發(fā)明以磁力方式吸引噴嘴9，使噴嘴9嵌入嵌置部31，避免以機(jī)械對(duì) 位方式而造成噴嘴9或擦拭件30磨損的缺陷，并可提高本發(fā)明的噴嘴清潔 裝置1在位移時(shí)的穩(wěn)定性。于前述說(shuō)明中，移動(dòng)本發(fā)明的噴嘴清潔裝置1靠近噴嘴9僅是舉例，但 本發(fā)明不限于此，在其它實(shí)施例中，可移動(dòng)噴嘴9靠近本發(fā)明的噴嘴清潔裝 置l，相關(guān)技術(shù)的人員可依實(shí)際需求來(lái)調(diào)整其結(jié)構(gòu)。圖5A與圖5B所示為本發(fā)明的第二實(shí)施例。在本實(shí)施例中，噴嘴清潔裝置還包含輔助桿50，具有相對(duì)的第一端 50a與第二端50b，其中，輔助桿50的第一端50a樞接于基座10，第二端 50b用以連接磁力件60，使磁力件60可以第一端50a為固定端而相對(duì)基座 IO轉(zhuǎn)動(dòng)。以此可經(jīng)由改變輔助桿50的角度而調(diào)整磁力件60與噴嘴9產(chǎn)生磁力相 吸的距離，此外，當(dāng)使用者欲更換擦拭件30時(shí)，可先調(diào)整輔助桿50的角度， 使其可輕易地由基座10上拆除定位板40而更換擦拭件30，待更換完成后再 將輔助桿50的角度調(diào)整為更換前的角度，大幅提升更換擦拭件30的便利性。 再者，當(dāng)噴嘴9因操作不當(dāng)而發(fā)生晃動(dòng)、傾斜等現(xiàn)象，使用者可改變輔助桿 50的角度，以配合噴嘴9所產(chǎn)生的偏差。圖6A與圖6B所示為本發(fā)明的第三實(shí)施例。在本實(shí)施例中，輔助桿50區(qū)分為兩個(gè)區(qū)段51，其中，兩個(gè)區(qū)段51以螺 紋結(jié)構(gòu)相螺合而形成伸縮結(jié)構(gòu)，通過(guò)旋轉(zhuǎn)其中一區(qū)段51而達(dá)到伸縮的目的， 即可經(jīng)由伸縮方式調(diào)整第一端50a與第二端50b之間的距離而改變輔助桿50的長(zhǎng)度，以此調(diào)整磁力件60與噴嘴9產(chǎn)生磁力相吸的距離。于前述說(shuō)明中， 兩個(gè)區(qū)段51以螺紋結(jié)構(gòu)相螺合而形成伸縮結(jié)構(gòu)僅是舉例，但本發(fā)明不限于 此，相關(guān)技術(shù)的人員可依實(shí)際需求來(lái)調(diào)整或改變其伸縮結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明以磁力吸附方式使噴嘴與擦拭件完成自動(dòng)對(duì)位校正，不僅可避免 現(xiàn)有技術(shù)中以機(jī)械對(duì)位方式造成噴嘴或擦拭件磨損的問(wèn)題，并可提高本發(fā)明 的噴嘴清潔裝置在位移時(shí)的穩(wěn)定性，此外，本發(fā)明可經(jīng)由旋轉(zhuǎn)輔助桿，或輔 助桿以伸縮方式調(diào)整其長(zhǎng)度，達(dá)到調(diào)整磁力件與噴嘴產(chǎn)生磁力相吸的距離的 目的，使本發(fā)明在不改變?cè)Y(jié)構(gòu)、尺寸的情況下，能適用于清潔不同的噴 嘴，進(jìn)而提升使用者更換擦拭件的便利性。
雖然本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容已經(jīng)以較佳實(shí)施例披露如上，然而其并非用以限 定本發(fā)明，任何具有本領(lǐng)域的通常知識(shí)的人員，在不脫離本發(fā)明的精神下所 作的一些更動(dòng)與潤(rùn)飾，皆應(yīng)涵蓋于本發(fā)明的范疇內(nèi)，本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視 所附的權(quán)利要求書(shū)所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1. 一種噴嘴清潔裝置，包含具有至少一個(gè)傾斜面的一噴嘴，該噴嘴清潔裝置包含一基座；一擦拭件，位于該基座上，該擦拭件包含一嵌置部及至少一個(gè)導(dǎo)斜面，該導(dǎo)斜面位于該嵌置部的周緣并對(duì)應(yīng)于該傾斜面設(shè)置；及至少一個(gè)磁力件，位于該基座的側(cè)邊，用以產(chǎn)生磁力吸引該噴嘴而使該導(dǎo)斜面貼合該傾斜面。
2、 如權(quán)利要求1所述的噴嘴清潔裝置，其中該基座包含一容納部，該 容納部用以置放該擦拭件。
3、 如權(quán)利要求1所述的噴嘴清潔裝置，其中該噴嘴清潔裝置還包含-一定位板，用以放置該擦拭件，經(jīng)由該定位板與該基座相結(jié)合而定位該擦拭 件。
4、 如權(quán)利要求3所述的噴嘴清潔裝置，其中該定位板經(jīng)由一鎖固元件 鎖固于該基座。
5、 如權(quán)利要求4所述的噴嘴清潔裝置，其中該磁力件經(jīng)由該鎖固元件 鎖固于該定位板上。
6、 如權(quán)利要求3所述的噴嘴清潔裝置，其中該定位板包含至少一個(gè)定 位柱，該擦拭件還包含至少一個(gè)定位孔，該定位柱嵌入該定位孔而結(jié)合該定 位板與該擦拭件。
7、 如權(quán)利要求3所述的噴嘴清潔裝置，其中該定位板包含至少一個(gè)定 位孔，該擦拭件還包含至少一個(gè)定位柱，該定位柱嵌入該定位孔而結(jié)合該定 位板與該擦拭件。
8、 如權(quán)利要求1所述的噴嘴清潔裝置，其中該磁力件可為永久性磁鐵或電磁鐵。
9、 一種噴嘴清潔裝置，適用于涂布機(jī)，包含具有至少一個(gè)傾斜面的一 噴嘴，該噴嘴清潔裝置包含一基座；一擦拭件，位于該基座上，該擦拭件具有一嵌置部及至少一個(gè)導(dǎo)斜面，該導(dǎo)斜面位于該嵌置部的一側(cè)并對(duì)應(yīng)于該傾斜面設(shè)置；及至少一個(gè)磁力件，設(shè)置于該基座的側(cè)邊，用以產(chǎn)生磁力吸引該噴嘴而使 該導(dǎo)斜面貼合該傾斜面。
10、 如權(quán)利要求9所述的噴嘴清潔裝置，該噴嘴清潔裝置還包含 一輔 助桿，其中該輔助桿具有一第一端與一第二端，其中該第一端用以連接該基 座，第二端用以連接該磁力件。
11、 如權(quán)利要求10所述的噴嘴清潔裝置，其中該基座包含一容納部， 該容納部用以置放該擦拭件。
12、 如權(quán)利要求10所述的噴嘴清潔裝置，其中該噴嘴清潔裝置還包含: 一定位板，用以放置該擦拭件，經(jīng)由該定位板與該基座相結(jié)合而定位該擦拭 件。
13、 如權(quán)利要求12所述的噴嘴清潔裝置，其中該定位板經(jīng)由一鎖固元 件鎖固于該基座。
14、 如權(quán)利要求12所述的噴嘴清潔裝置，其中該定位板包含至少一個(gè) 定位柱，該擦拭件還包含至少一個(gè)定位孔，該定位柱嵌入該定位孔而結(jié)合該 定位板與該擦拭件。
15、 如權(quán)利要求12所述的噴嘴清潔裝置，其中該定位板包含至少一個(gè) 定位孔，該擦拭件還包含至少一定位柱，該定位柱嵌入該定位孔而結(jié)合該定 位板與該擦拭件。
16、 如權(quán)利要求10所述的噴嘴清潔裝置，其中該輔助桿能以伸縮方式調(diào)整長(zhǎng)度。
17、 如權(quán)利要求10所述的噴嘴清潔裝置，其中該輔助桿的一端樞接于 該基座，使該磁力件能相對(duì)該基座轉(zhuǎn)動(dòng)。
18、 如權(quán)利要求10所述的噴嘴清潔裝置，其中該磁力件可為永久性磁鐵或電磁鐵。
全文摘要
一種噴嘴清潔裝置，包含具有至少一個(gè)傾斜面的噴嘴，噴嘴清潔裝置包含基座；擦拭件，位于基座上，擦拭件包含嵌置部及至少一個(gè)導(dǎo)斜面，導(dǎo)斜面位于嵌置部的周緣并對(duì)應(yīng)于傾斜面設(shè)置；及至少一個(gè)磁力件，位于基座的側(cè)邊，用以產(chǎn)生磁力吸引噴嘴而使導(dǎo)斜面貼合傾斜面。本發(fā)明以磁力吸附方式使噴嘴與擦拭件完成自動(dòng)對(duì)位校正，不僅可避免現(xiàn)有技術(shù)中以機(jī)械對(duì)位方式造成噴嘴或擦拭件磨損的問(wèn)題，并可提高本發(fā)明的噴嘴清潔裝置在位移時(shí)的穩(wěn)定性。
文檔編號(hào)B08B13/00GK101271277SQ200810096239
公開(kāi)日2008年9月24日 申請(qǐng)日期2008年5月6日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月6日
發(fā)明者丁振原, 吳冠賢, 彭志強(qiáng), 林書(shū)漢, 陳信昌 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司