專利名稱:一種基片清洗裝置的制作方法
技術領域:
本實用新型涉及清洗裝置技術,具體地說是一種應用于平板顯示發(fā)光、太陽 能電池研究中的基片清洗裝置。
技術背景目前,公知的應用于平板顯示發(fā)光、太陽能電池研究中的基片清洗裝置較為 簡單,僅為大型石英杯與基片插槽的簡單組合, 一般情況下清洗裝置只能存放 少量基片,并且在放置基片的過程中,插槽在溶液中容易發(fā)生滑動,給操作增 加難度,穩(wěn)定性也較差,對于一般設置的清洗裝置雖然簡便,但是承載基片太 有限且功能較少,實用價值受到設計本身的限制無法得到充分發(fā)揮。 發(fā)明內容本實用新型的目的就是提供一種基片清洗裝置,該裝置主要由外層容器、 主體架和配套組件組成,整體采用"平臺化"設計思想,根據基片規(guī)格在主體 架上安裝配套組件。本實用新型的設計方案如下該基片清洗裝置主要包括基體、前后擋板、左右擋板、橫隔板、豎隔板、 石英杯、蓋子和水泵。基體由底面、立柱及提手組成基體底面上設有基片格及漏水口;立柱上 設有用于固定前后擋板、左右擋板和橫隔板的內置式固定插槽;對應立柱頂端 的連接體構成提手;前后擋板上設有立柱插槽臂,并設有與基體底面及橫隔板基片格分隔槽對 應的內槽;
左右擋板上設有立柱插槽臂,并設有與基體底面及橫隔板基片格槽對應的內槽;橫隔板上設有立柱插槽臂和基片格;豎隔板設有前后擋板插槽臂,其內槽與基體底面基片格、橫隔板基片格及 左右擋板內槽相對應;基體包容在石英杯內;石英杯底部設有觸腳裝置,石英杯蓋子和其底端的 水管接口分別與水泵的出口和入口連接。
本實用新型是一個專門為實驗室設計的基片清洗裝置,其有益效果是它可以 放置石英片、透明導電玻璃(IT0)基片、硅片等,尺寸從lcmXlcm、 3cmX4cm、 lOcmXlOcm均可,并可同時清洗lcmXlcm的基片150片。不同的襯底和隔層 都可以根據實際需要而配套拆裝,達到靈活多用的效果。"緊密節(jié)約"的設計理 念使得容器中最大容納基片數量得到大幅提高,減少容器內空間閑置,節(jié)省溶 液。外層容器裝置材料采用石英和四氟聚合物等抗酸堿材料,擴容了可使用清 洗溶液的范圍。它采用的上下開口,可以配套使用循環(huán)抽水機以提高效率,且 可以作為保存基片的裝置置于真空干燥器中。容器外部的觸腳設計能保證在接 受超聲清洗時減小與載物臺的接觸性共振,以保護基片不會因此損壞。
圖l是基片清洗裝置中基體的示意圖。圖2是組裝一層前后擋板后的清洗裝置示意圖。圖3是組裝一層左右擋板后的清洗裝置示意圖。圖4是組裝一個豎隔板后的清洗裝置示意圖。圖5是組裝橫隔板后的清洗裝置示意圖。圖6是組裝兩層前后擋板、左右擋板后的清洗裝置示意圖。圖7是組裝兩個豎隔板后的清洗裝置示意圖。
圖8是石英杯與水泵連接示意圖。
具體實施方式
基體1包括底面、立柱及提手三部分,立柱具有多層內置固定插槽,可拼 插多層前后擋板2、左右擋板3和橫隔板4,前后擋板2、左右擋板3、橫隔板4上分別設有用于與基體l固定的插槽臂,對應立柱頂端的連接體構成提手。 在前后擋板2之間可插入不同間距的豎隔板,以供存放不同寬度的基片。 可以在底面或一層橫隔板上同時插入多層前后擋板2和左右擋板3,用以保護較大基片,并可在相應位置插入豎隔板5以增加固定效果。下面結合實例附圖1—8對本實用新型進行具體說明圖l所示為清洗裝置的基體l,基體1底面分為6列,每列有15個基片格,底 面四邊挖有四個條形漏水口,基體1的四個立柱上設有20組與前后擋板2配合的 插槽,設有20組與左右擋板3配合的插槽,設有10組與橫隔板3配合的插槽。如圖2所示,將兩塊前后擋板2分別插入基體1的立柱中,前后擋板2的凹槽 和基體l底面列槽一一對應,前后擋板2與基體l底面有l(wèi)cm左右的距離。如圖3所示,將兩塊左右擋板3分別插入基體1的立柱中,左右擋板3的凹槽 和基體l底面基片格一一對應,左右擋板3與基本l底面有l(wèi)cm左右的距離。如圖4所示,本實施例可以將1-5片豎隔板5裝配到清洗裝置中,基體l底面 每一列為一個隔層單位,利用豎隔板5可以分出1-6個隔層,豎隔板5與前后擋板 2及基體1底面緊密配合,每一個隔層中可以放0-15片基片。如圖5所示,在基體1立柱中插入橫隔板4,橫隔板4與基體1底面構造相同。如圖6所示,可根據需要,在基體1或一層橫隔板上同時插入兩層前后擋板2 和兩層左右擋板3。如圖7所示,與圖4所示類似,可以裝配1-5片豎隔板5。
總之,可以根據實際需要,調整并裝配若干數量的前后擋板2、左右擋板3、 橫隔板4和豎隔板5,以供存放不同寬度的基片。
如圖8所示,將裝配好的清洗裝置放入石英杯6中,蓋上蓋子7,石英杯6— 側下端開有一個水管接口,經水管連接至水泵8入口上,水泵8出口經水管連接 到蓋子7正中的水管接口上。
具體安裝方法先將四周的前后擋板、左右擋板插入基體立柱固定插槽,完 成第一次裝配。以后每增加一層裝配,則多插入一層橫隔板即可。可根據基片 尺寸插入豎隔板以固定基片,由于現(xiàn)有基片寬度設計前后擋板插入豎隔板可將 其寬分為三種,用以存放三種不同大小的基片,大小可根據實際需要制作,基 片在前后擋板、左右擋板、橫隔板和豎隔板的插槽固定下達到穩(wěn)定。對于大基 片,可以增加前后擋板、左右擋板及豎隔板層數以滿足要求。
在整體裝配完畢后可加裝進水管、出水管及抗酸堿腐蝕的電機,根據對基片 清潔的要求可以將不同清潔溶液注入石英杯內并循環(huán)清洗,達到較高的清潔效 果,并且在不加裝進、出水管及電機的情況下,可將整體石英杯放于超聲清洗 儀器中進行超聲除塵。由于外層石英杯為整體結構并有分立觸腳,可保證基片 不會震蕩損壞。清洗完畢可將內部基體連帶若干插件一起拿出,在撤去插件及 基片的同時剩余溶液可從基體最下側的漏水口排出,從而保證不會殘留溶液腐 蝕器件。
權利要求1.一種基片清洗裝置,其特征在于該基片清洗裝置主要包括基體(1)、前后擋板(2)、左右擋板(3)、橫隔板(4)、豎隔板(5)、石英杯(6)、蓋子(7)和水泵(8);基體(1)由底面、立柱及提手組成基體(1)底面上設有基片格及漏水口;立柱上設有用于固定前后擋板(2)、左右擋板(3)和橫隔板(4)的內置式固定插槽;對應立柱頂端的連接體構成提手;前后擋板(2)上設有立柱插槽臂,并設有與基體(1)底面及橫隔板(4)基片格分隔槽對應的內槽;左右擋板(3)上設有立柱插槽臂,并設有與基體(1)底面及橫隔板(4)基片格槽對應的內槽;橫隔板(4)上設有立柱插槽臂和基片格;豎隔板(5)設有前后擋板(2)插槽臂,其內槽與基體(1)底面基片格、橫隔板(4)基片格及左右擋板(3)內槽相對應;基體(1)包容在石英杯(6)內;石英杯(6)底部設有觸腳裝置。石英杯蓋子(7)和其底端的水管接口分別與水泵(8)的出口和入口連接。
專利摘要一種基片清洗裝置,是一種專門為實驗室設計的基片清洗裝置,可以放置并清洗石英片、透明導電玻璃(ITO)基片、硅片等。尺寸從1cm×1cm、3cm×4cm、10cm×10cm均可,并可同時清洗1cm×1cm的基片150片??梢愿鶕嶋H需要,配套拆裝清洗裝置中的不同襯底和隔層,以供放置不同尺寸的基片,達到靈活多用的效果。本實用新型遵循“緊密節(jié)約”的設計理念,使得容器中最大容納基片數量得到大幅提高,減少容器內空間閑置,節(jié)省溶液。外層容器裝置材料采用石英和四氟聚合物等抗酸堿材料,擴容了可使用清洗溶液的范圍。上下開口,可以配套使用循環(huán)抽水機提高效率,使得本裝置可以作為保存基片的裝置置于真空干燥器中。
文檔編號B08B3/00GK201030364SQ20072014897
公開日2008年3月5日 申請日期2007年4月28日 優(yōu)先權日2007年4月28日
發(fā)明者心 信, 陽 孫, 宋晶路, 遠 李, 晶 王, 蕭新橋 申請人:北京交通大學