專利名稱：用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種可用于TFT-LCD或者半導(dǎo)體元件制造工藝中的化學(xué)清洗組合物，更具體地涉及一種用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物。其具有優(yōu)異的清洗能力，可防止金屬膜的腐蝕，不存在引火性、儲(chǔ)存性及環(huán)境方面的問題。尤其是，其可替代以往清洗工藝中所使用的醇類化合物。并且由于Cu層(copper layer)具有很強(qiáng)的有機(jī)異物吸附特性，其會(huì)產(chǎn)生在現(xiàn)有層(layer)上無(wú)法看到的異物，而本發(fā)明對(duì)其具有卓越的清洗效果。
背景技術(shù)：
一般通過(guò)光刻法(photolithography method)制造TFT-LCD或者半導(dǎo)體元件時(shí)，在玻璃(glass)、硅晶片(silicon wafer)等基板上，形成鋁(aluminum)、鋁合金(aluminum alloy)、銅(copper)等金屬膜或氧化膜等的絕緣膜后，在其表面上均勻涂敷抗蝕劑(resist)，之后對(duì)其進(jìn)行曝光及顯影處理，形成抗蝕劑圖案(resist pattern)后，再將所述抗蝕劑圖案作為掩模(mask)，有選擇地蝕刻(etching)下層薄膜，形成圖案。之后使用脫膜劑(stripper)從基板上完全去除不必要的抗蝕劑。
作為從上述基板去除抗蝕劑的脫膜劑已有公開的是，以烷基苯磺酸(alkylbenzene sulfonic acid)為主成分的有機(jī)磺酸類脫膜劑(organicsulfonic acid-based stripper)、以單乙醇胺(monoethanol amine)等有機(jī)胺為主成分的有機(jī)胺類脫膜劑(organic amine-based stripper)等。然而，由于有機(jī)磺酸類脫膜劑(organic sulfonic acid-based stripper)在操作時(shí)存在安全性問題，近年來(lái)主要使用以單乙醇胺等有機(jī)胺為主成分的有機(jī)胺類脫膜劑(organic amine-based stripper)。
如此使用有機(jī)胺類脫膜劑(organic amine-based stripper)去除抗蝕劑圖案層(resist pattern layer)之后，通常用純凈水清洗基板。然而，純凈水清洗工藝，難以在短時(shí)間內(nèi)完全清洗脫膜劑，而且如果清洗時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，金屬膜以及絕緣膜會(huì)發(fā)生腐蝕，因此，在用純凈水進(jìn)行清洗之前，用化學(xué)清洗組合物清洗脫膜劑。
以往，作為化學(xué)清洗組合物主要使用甲醇(methanol)、乙醇(ethanol)、異丙醇(isopropyl alochol)、丙酮(acetone)、二甲亞砜(dimethylsulfoxidc)等。而上述溶劑不具有充分的清洗能力，尤其是難以進(jìn)行微小電路部分的清洗。而且，上述醇類(alcohol series)溶劑，由于其在引火性或儲(chǔ)存性上具有一定的問題，在操作時(shí)應(yīng)特別注意，因此，作業(yè)效率降低。此外，其還具有工藝成本的上升及無(wú)法解決特定布線材料上的有機(jī)殘?jiān)热秉c(diǎn)。
另外，韓國(guó)專利公開第2004-0037463號(hào)公開了一種后剝離(post strip)清洗劑組合物，其包含0.01重量份～10重量份的鏈烷醇胺(alkanol amine)、0.01重量份～50重量份的亞烷基二醇烷基醚(alkylene glycol alkyl ether)、0.01重量份～10重量份的羥基苯類(hydroxybenzene series(phenolseries))及余量的脫離子水。然而，上述方法由于使用鏈胺(chain-typeamine)，在金屬布線上會(huì)出現(xiàn)金屬膜層的腐蝕現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述問題而作，其目的在于提供一種清洗之后不會(huì)腐蝕金屬膜層且清洗(rinse)效果優(yōu)異，并能替代以往所使用的醇類(alcohol series)化合物，從而解決引火性、儲(chǔ)存性及環(huán)境方面缺陷的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物。
為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其包含a)0.05重量份～10重量份的有機(jī)胺類化合物(organicamine-based compound)；b)0.05重量份～30重量份的有機(jī)溶劑(organicsolvent)；c)0.005重量份～5重量份的三唑類防腐劑(triazole-basedanti-corrosion agent)；d)0.005重量份～5重量份的選自羥基苯酚類(hydroxyphenol series)、沒食子酸烷酯類(alkyl gallate series)及還原劑類(reducing agent series)中的防腐劑；e)余量水。


圖1是利用本發(fā)明實(shí)施例(a)及比較例(b)的化學(xué)清洗組合物，清洗基板上的有機(jī)異物-強(qiáng)制污染脫模劑(stripper waste solution)廢液之前和之后的光學(xué)電子顯微鏡照片。
圖2是利用本發(fā)明實(shí)施例(a)及比較例(b)的化學(xué)清洗組合物，清洗基板上的無(wú)機(jī)異物-灰塵之前和之后的光學(xué)電子顯微鏡照片。
圖3是利用本發(fā)明實(shí)施例(a)及比較例(b)的化學(xué)清洗組合物，清洗基板上的有機(jī)異物-指紋之前和之后的光學(xué)電子顯微鏡照片。
具體實(shí)施例方式
下面，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
本發(fā)明涉及一種用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其主要目的在于清洗TFT-LCD或半導(dǎo)體元件的制造工藝中對(duì)抗蝕劑(resist)進(jìn)行最終去除之后所殘留的脫模劑溶液。
本發(fā)明的化學(xué)清洗組合物，具有優(yōu)異的清洗能力的同時(shí)還可防止金屬膜的腐蝕，并且不存在引火性、儲(chǔ)存性以及環(huán)境方面的問題。尤其，采用本發(fā)明，能夠替代以往清洗工藝中所使用的醇類化合物。并且由于Cu層(copperlayer)具有很強(qiáng)的有機(jī)異物吸附特性，其會(huì)產(chǎn)生在現(xiàn)有層(layer)上無(wú)法看到的異物，而本發(fā)明對(duì)其具有卓越的清洗效果。
本發(fā)明的化學(xué)清洗組合物包含，至少一種有機(jī)胺類(organic amineseries)、至少一種有機(jī)溶劑(organic solvent)、水(water)、至少一種三唑類防腐劑(triazole-based anti-corrosion agent)、以及至少一種選自羥基苯酚類(hydroxyphenol series)、沒食子酸烷酯(alkyl gallateseries)及還原劑類(reducing agent series)中的防腐劑。
上述有機(jī)胺類化合物最好使用環(huán)狀胺，而非使用一般的鏈胺。上述環(huán)狀胺和鏈胺相比，其對(duì)金屬膜層的腐蝕力較弱，因此清洗時(shí)對(duì)金屬膜層的腐蝕較小。上述環(huán)狀胺具體可使用選自1-(2-羥乙基)哌嗪(1-(2-hydroxyethyl)piperazine)、4-(3-氨丙基)嗎啉(4-(3-aminopropyl)morpholine)、1-(2-氨乙基)哌嗪(1-(2-aminoethyl)piperazine)、1-(2-羥乙基)-4-乙基哌嗪(1-(2-hydroxyethyl)-4-ethylpiperazine)、4-氨基-1-甲基哌嗪(4-amino-1-methyl piperazine)、1-甲基哌嗪(1-methylpiperazine)、2-甲基哌嗪(2-methylpiperazine)、1-芐基哌嗪(1-benzylpiperazine)、以及2-苯基哌嗪(2-phenylpiperazine)中的至少一種化合物?；诮M合物的總量?jī)?yōu)選使用0.05重量份～10重量份的上述有機(jī)胺類化合物。如果其含量低于0.05重量份，清洗能力就會(huì)降低，如果超過(guò)10重量份，則由于胺的腐蝕力將損傷金屬膜層。
本發(fā)明的化學(xué)清洗組合物中，上述有機(jī)溶劑(organic solvent)優(yōu)選使用選自乙二醇甲醚(ethyleneglycol methyl ether)、乙二醇乙醚(ethyleneglycol ethyl ether)、乙二醇丁醚(ethyleneglycol butylether)、二甘醇甲醚(diethyleneglycol methyl ether)、二甘醇乙醚(diethyleneglycol ethyl ether)、二甘醇丁醚(diethyleneglycol butylether)、以及二甘醇丙醚(diethyleneglycol propyl ether)中的至少一種乙二醇醚化合物(glycol ether compound)?；诮M合物的總量?jī)?yōu)選使用0.05重量份～30重量份的上述溶劑。如果其含量低于0.05重量份，就會(huì)降低對(duì)抗蝕劑以及有機(jī)胺類化合物的溶解力，如果超過(guò)30重量份，則難以處理廢液。
上述三唑類防腐劑，通過(guò)三唑(triazole)分子與金屬表面的強(qiáng)烈結(jié)合形成化學(xué)吸附(chemisorption)，從而阻止有機(jī)胺成分的滲透，產(chǎn)生防腐效果。上述三唑類防腐劑優(yōu)選使用選自由下述化學(xué)式1表示的化合物中的至少一種化合物。
上述化學(xué)式1中，R1為C1-C12的烷基(alkyl group)、C1-C12的烯丙基(allyl group)、羧基(carboxyl group)、羥基(hydroxyl group)、或者氨基(amino group)；R2為C1-C12的烷基(alkyl group)、羥基(hydroxyl group)、C1-C12的羥基烷基(hydroxylalkyl group)、C1-C12的二羥基烷基(dihydroxylalkyl group)、C1-C12的羧基烷基(carboxylalkyl group)、羧基(carboxyl group)、C1-C12的二羧基烷基(dicarboxylalkyl group)、氨基(amino group)、C1-C12的烷基氨基(alkylamino group)、或者C1-C12的二烷基氨基(dialkyl amino group)。
上述三唑類更優(yōu)選使用選自甲基苯并三唑(Tolyltriazole)、苯并三唑(Benzotriazole)、氨基三唑(aminotriazole)、羧基苯并三唑(carboxylbenzotriazole)、1-[雙(羥乙基)氨乙基]甲基苯并三唑(1-[bis(hydroxyethyl)aminoethyl]tolyltriazole)、1-羥基苯并三唑(1-hydroxybenzotriazole，HBT)、以及硝基苯并三唑(nitrobenzotriazole，NBT)中的至少一種化合物。
上述三唑類防腐劑在常溫下呈固體狀，而且難以溶于水，因此，在使用前最好將其溶解于有機(jī)溶劑中制備成液態(tài)溶劑。
基于組合物的總量?jī)?yōu)選使用0.005重量份～5重量份的上述三唑類防腐劑。如果上述三唑類防腐劑的含量低于0.005重量份，就會(huì)腐蝕金屬膜層，如果超過(guò)5重量份，則在清洗工藝中出現(xiàn)泡沫，工藝進(jìn)程將會(huì)面臨困難。
上述羥基苯酚類(hydroxyphenol series)或沒食子酸烷酯(alkylgallate series)防腐劑優(yōu)選使用選自由下述化學(xué)式2表示的化合物中的至少一種化合物。
上述化學(xué)式2中，R1～R3分別為，氫(hydrogen)、羥基(hydroxyl group)或者羧基(carboxyl group)；R4為C1-C12的烷酯基(alkyl ester group)、羧基(carboxyl group)或者氫(hydrogen)。
上述羥基苯酚類(hydroxyphenol series)或沒食子酸烷酯(alkylgallate series)防腐劑更優(yōu)選使用選自鄰苯二酚(catechol)、焦棓酚(pyrogallol)、沒食子酸甲酯(methyl gallate)、沒食子酸丙酯(propylgallate)、沒食子酸十二烷酯(dodecyl gallate)、沒食子酸辛酯(octylgallate)、以及沒食子酸(gallic acid)中的至少一種化合物。
所述還原劑類防腐劑選自L-抗壞血酸(L-ascorbic acid)、D-異抗壞血酸(D-isoascorbic acid)及其混合物中的至少一種。
上述選自羥基苯酚類、沒食子酸烷酯、以及還原劑類中的防腐劑，其基于組合物的總量?jī)?yōu)選使用0.005重量份～5重量份。此時(shí)，如果羥基苯酚類或者沒食子酸烷酯防腐劑的含量低于0.005重量份，就會(huì)腐蝕金屬膜層；如果超過(guò)5重量份，則清洗工藝中產(chǎn)生泡沫，工藝進(jìn)程將會(huì)面臨困難。另外，如果上述還原劑類防腐劑的含量低于0.005重量份，就會(huì)腐蝕金屬膜層；如果超過(guò)5重量份，則清洗液的堿度下降，將會(huì)降低清洗效果。
另外，本發(fā)明所涉及的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，作為必要成分還可包含余量水，且優(yōu)選包含50重量份～99重量份。如果上述水的含量低于50重量份，在處理廢液時(shí)就會(huì)出現(xiàn)問題，如果水的含量超過(guò)99重量份，將會(huì)降低清洗能力。
上述水優(yōu)選使用通過(guò)離子交換樹脂過(guò)濾的純凈水，更優(yōu)選使用電阻率為18MΩ以上的超純凈水。
另外，本發(fā)明的化學(xué)清洗組合物，基于組合物的總量還可包含0.005重量份～5重量份的至少一種硅系(silicon series)消泡劑。所述硅系消泡劑為，選自由分子量至少為740的疏水性聚硅氧烷(polysiloxane)或二甲基硅氧烷(demethylsiloxane)和分子量至少為300的親水性聚醚(polyether)共聚合而成的消泡劑中的至少一種。如果上述消泡劑的含量低于0.005重量份，則無(wú)法完全消除氣泡，如果超過(guò)5重量份，消泡劑則不能充分地溶解于溶液中，從而會(huì)出現(xiàn)白濁。
下面，參照實(shí)施例，更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。這些實(shí)施例只是用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明，而并不是用于限定本發(fā)明。
實(shí)施例1～8，以及比較例1～6根據(jù)下述表1及表2，制備化學(xué)清洗組合物。




注)上述表1及表2中，TMAH四甲基氫氧化銨(tetra-methyl ammonium hydroxide)AEP1-(2-氨乙基)哌嗪(1-(2-aminoethyl)piperazine)HEP1-(3-羥乙基)哌嗪(1-(3-hydroxyethyl)piperazine)EGME乙二醇甲醚(ethyleneglycol methyl ether)BT苯并三唑(benzotriazole)D-異抗壞血酸(D-isoascorbic acid)消泡劑分子量為900以上的聚硅氧烷(polysiloxane)和聚醚(polyether)的共聚合體
IPA異丙醇(isopropyl alcohol)MEA單乙醇胺(monoethanol amine)試驗(yàn)例1對(duì)有機(jī)異物(指紋、脫膜劑廢液)的清洗試驗(yàn)在用超純凈水清洗過(guò)的玻璃上，隨意按下指紋形成有機(jī)異物(指紋)后，將其在上述實(shí)施例及比較例的化學(xué)清洗組合物中浸漬5分鐘，之后用光學(xué)電子顯微鏡(LEICA會(huì)社，型號(hào)FTM-200)測(cè)定后將其結(jié)果表示在表3。
另外，在用超純凈水清洗過(guò)的玻璃上，沾上脫膜劑廢液后，用加熱器在90℃的溫度下干燥5個(gè)小時(shí)，之后在上述實(shí)施例及比較例的化學(xué)清洗組合物中浸漬5分鐘后，用光學(xué)電子顯微鏡(LEICA會(huì)社，型號(hào)FTM-200)進(jìn)行測(cè)定，之后將其結(jié)果表示在表3。
試驗(yàn)例2對(duì)無(wú)機(jī)異物的清洗試驗(yàn)在用超純凈水清洗過(guò)的玻璃上，隨意沾上灰塵形成無(wú)機(jī)異物(灰塵)后，在上述實(shí)施例及比較例的化學(xué)清洗組合物中浸漬5分鐘，之后用光學(xué)電子顯微鏡(LEICA會(huì)社，型號(hào)FTM-200)測(cè)定結(jié)果后，將其表示在表3。
觀察金屬膜層的損傷(damage)在室溫下，將用超純凈水清洗過(guò)的單鋁基板(momo-aluminiumsubstrate)，在上述實(shí)施例及比較例的化學(xué)清洗組合物中浸漬30分鐘，之后將上述試片用超純凈水清洗，用氮?dú)飧稍锖?，用掃描顯微鏡(SEM)檢查圖案中是否發(fā)生腐蝕，并將其結(jié)果表示在表3。
另外，將通過(guò)光學(xué)電子顯微鏡所拍照的，由本發(fā)明的實(shí)施例(a)及比較例(b)的化學(xué)清洗組合物，清洗基板上的有機(jī)異物-強(qiáng)制污染脫模劑廢液、灰塵及指紋之前和之后的照片分別表示在圖1～圖3。


上述表3中，[良好]表示異物的殘留面積不超過(guò)試片面積的2％，[不良]表示殘留面積超過(guò)50％以上。
本發(fā)明所涉及的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，具有優(yōu)異的清洗能力且能夠防止金屬膜的腐蝕，而且不存在引火性、儲(chǔ)存性及環(huán)境等方面的問題，并且可替代以往清洗工藝中所使用的異丙醇等醇類化學(xué)物質(zhì)，對(duì)于有機(jī)和無(wú)機(jī)異物的去除，具有卓越的效果。
權(quán)利要求
1.一種用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于，該組合物包含a)0.05重量份～10重量份的有機(jī)胺類化合物(organic amine-basedcompound)；b)0.05重量份～30重量份的有機(jī)溶劑(organic solvent)；c)0.005重量份～5重量份的三唑類防腐劑(triazole-basedanti-corrosion agent)；d)0.005重量份～5重量份的選自羥基苯酚類(hydroxyphenol serics)、沒食子酸烷酯類(alkyl gallate series)及還原劑類(reducing agentseries)中的防腐劑；e)余量水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于所述有機(jī)胺類化合物為選自1-(2-羥乙基)哌嗪(1-(2-hydroxyethyl)piperazine)、4-(3-氨丙基)嗎啉(4-(3-aminopropyl)morpholine)、1-(2-氨乙基)哌嗪(1-(2-aminoethyl)piperazine)、1-(2-羥乙基)-4-乙基哌嗪(1-(2-hydroxyethyl)-4-ethylpiperazine)、4-氨基-1-甲基哌嗪(4-amino-1-methyl piperazine)、1-甲基哌嗪(1-methylpiperazine)、2-甲基哌嗪(2-methylpiperazine)、1-芐基哌嗪(1-benzylpiperazine)以及2-苯基哌嗪(2-phenylpiperazine)中的至少一種環(huán)狀胺。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于所述有機(jī)溶劑(organic solvent)為選自乙二醇甲醚(ethyleneglycol methyl ether)、乙二醇乙醚(ethyleneglycol ethylether)、乙二醇丁醚(ethyleneglycol butyl ether)、二甘醇甲醚(diethyleneglycol methyl ether)、二甘醇乙醚(diethyleneglycol ethylether)、二甘醇丁醚(diethyleneglycol butyl ether)以及二甘醇丙醚(diethyleneglycol propyl ether)中的至少一種乙二醇醚化合物(glycolether compound)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于所述三唑類為選自由下述化學(xué)式1表示的化合物中的至少一種化合物，[化學(xué)式1] 上述化學(xué)式1中，R1為C1-C12的烷基(alkyl group)、C1-C12的烯丙基(allyl group)、羧基(carboxyl group)、羥基(hydroxyl group)、或者氨基(amino group)；R2為C1-C12的烷基(alkyl group)、羥基(hydroxylgroup)、C1-C12的羥基烷基(hydroxylalkyl group)、C1-C12的二羥基烷基(dihydroxylalkyl group)、C1-C12的羧基烷基(carboxylalkyl group)、羧基(carboxyl group)、C1-C12的二羧基烷基(dicarboxylalkyl group)、氨基(amino group)、C1-C12的烷基氨基(alkylamino group)或者C1-C12的二烷基氨基(dialkyl amino group)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于所述三唑類為選自甲基苯并三唑(Tolyl triazole)、苯并三唑(Benzotriazole)、氨基三唑(aminotriazole)、羧基苯并三唑(carboxylbenzotriazole)、1-[雙(羥乙基)氨乙基]甲基苯并三唑(1-[bis(hydroxyethyl)aminoethyl]tolyltriazole)、1-羥基苯并三唑(1-hydroxy benzotriazole，HBT)以及硝基苯并三唑(nitrobenzotriazole，NBT)中的至少一種化合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于所述羥基苯酚類(hydroxyphenol series)或沒食子酸烷酯(alkylgallate series)防腐劑為，選自由下述化學(xué)式2表示的化合物中的至少一種，[化學(xué)式2] 上述化學(xué)式2中，R1～R3分別為氫(hydrogen)、羥基(hydroxyl group)或羧基(carboxyl group)；R4為C1-C12的烷酯基(alkyl ester group)、羧基(carboxyl group)或者氫(hydrogen)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于所述羥基苯酚類(hydroxyphenol series)、沒食子酸烷酯(alkylgallate series)為，選自鄰苯二酚(catechol)、焦棓酚(pyrogallol)、沒食子酸甲酯(methyl gallate)、沒食子酸丙酯(propyl gallate)、沒食子酸十二烷酯(dodecyl gallate)、沒食子酸辛酯(octyl gallate)以及沒食子酸(gallic acid)中的至少一種化合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于所述還原劑類防腐劑是選自L-抗壞血酸(L-ascorbic acid)、D-異抗壞血酸(D-isoascorbic acid)及其混合物中的至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于該組合物還包括，0.005重量份～5重量份的至少一種硅系消泡劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，其特征在于所述硅系消泡劑為選自由分子量至少為740的疏水性聚硅氧烷(polysiloxane)或二甲基硅氧烷(demethylsiloxane)和分子量至少為300的親水性聚醚(polyether)共聚合而成的消泡劑中的至少一種。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，具體而言，本發(fā)明包含a)0.05重量份～10重量份的有機(jī)胺類化合物；b)0.05重量份～30重量份的有機(jī)溶劑；c)0.005重量份～5重量份的三唑類防腐劑；d)0.005重量份～5重量份的選自羥基苯酚類、沒食子酸烷酯及還原劑類中的防腐劑；e)余量水。本發(fā)明的用于清洗抗蝕劑脫膜劑的化學(xué)清洗組合物，具有優(yōu)異的清洗能力且能夠防止金屬膜層的腐蝕，并且可替代以往清洗工藝中所使用的甲醇、乙醇、異丙醇等引火性物質(zhì)即醇類化合物，能夠有效地清洗殘留在基板上的脫膜劑等有機(jī)異物及灰塵等無(wú)機(jī)異物。
文檔編號(hào)C11D7/22GK101042543SQ20071008662
公開日2007年9月26日 申請(qǐng)日期2007年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月23日
發(fā)明者金圣培, 樸熙珍, 尹錫壹, 金柄郁, 辛成健 申請(qǐng)人:株式會(huì)社東進(jìn)世美肯