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淋浴器圍板和基座的制作方法

文檔序號:1399424閱讀:213來源:國知局
專利名稱:淋浴器圍板和基座的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于淋浴器圍板(enclosure)的預(yù)成型淋浴器基座和一種淋浴器圍板。
背景技術(shù)
淋浴器圍板由例如門和轉(zhuǎn)延板(return panel)(一塊或者多塊)構(gòu)成,其安裝在浴室角落或者其他區(qū)域從而與房間已有的角落墻壁(襯有合適的防水襯里)一起形成淋浴隔間(不過無須為方形的底板形狀)。在通常安裝門和轉(zhuǎn)延板之前,要安裝預(yù)先制造或者預(yù)成型的淋浴器基座從而為人們提供在進行淋浴時站立用的淋浴器圍板的底板。該淋浴器基座包括排污孔,其中設(shè)有排污配件與在進行淋浴時帶走廢水的管道連接。
該淋浴器基座是這樣形成的,即淋浴器基座的上表面設(shè)有朝排污出口下降的淋浴器底板。通常預(yù)成型的淋浴器基座由薄的熱塑性材料熱成形。裸露的由熱塑性材料制成的淋浴器基座上表面可以構(gòu)成淋浴器底板的光制表面。作為選擇地,預(yù)成型的淋浴器基座可以由例如纖維玻璃或者不銹鋼制成。
再次作為選擇地,淋浴器底板可以鋪設(shè)陶瓷或者粘土磚。必須牢固支撐這些瓷磚否則它們將會破裂或者移位。這些瓷磚可以直接固定在房間的地面上或者在要安裝淋浴器圍板的區(qū)域中,例如被預(yù)成型為具有至排污出口落差的混凝土底板表面上。也已知將預(yù)制的要鋪設(shè)磚的淋浴器基座安裝在底板上,該淋浴器基座設(shè)有穩(wěn)固的表面,其具有至排污出口的落差或者朝排污出口下降,從而對瓷磚形成牢固的支撐。
美國專利6381773披露了一種預(yù)制的平面的淋浴器基座,其具有位于有輔助排水通道的淋浴器基座的入口側(cè)的排污口。
英國專利申請公開號2093342披露了一種預(yù)制的淋浴器基座,其具有中央方形底板和周邊排水通道將水送至位于角落的排污口。
歐洲專利0492147披露了一種預(yù)制的淋浴器基座其具有非中心排污口和周邊排水通道。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的在于提供一種改進的或者至少是可選類型的預(yù)成型淋浴器基座以及/或者淋浴器圍板,尤其適用于安裝或者提供要具有已鋪設(shè)磚的底板的淋浴器圍板。
廣義地說,本發(fā)明一方面包括用于在房間內(nèi)安裝淋浴器的預(yù)制淋浴器基座,該淋浴器基座具有朝著淋浴器基座一側(cè)下降的底板,而且該底板基本上包括單個平面,由此可以對淋浴器基座的底板進行鋪設(shè),而無須切削平的瓷磚以適應(yīng)淋浴器基座底板平面的變化,位于淋浴器基座所述側(cè)的排污出口,以及圍繞或者橫過淋浴器基座的前側(cè)延伸的排水通道,該排水通道被設(shè)置成朝排污出口排水,以及圍繞淋浴器基座前側(cè)的一部分的一個或者多個構(gòu)造,其用于將位于淋浴器圍板的門的一側(cè)或者兩側(cè)上的淋浴器圍板的轉(zhuǎn)延板(一個或者多個)安裝至淋浴器基座上。
廣義地說,本發(fā)明一方面包括淋浴器圍板以及淋浴器基座,該淋浴器基座具有朝淋浴器基座的一側(cè)下降的底板,位于淋浴器基座所述側(cè)的排污出口,至少圍板門的下面以及外部圍繞或者橫過淋浴器基座前側(cè)延伸的排水通道,該排水通道被設(shè)置成朝著排污出口排水。
在一個優(yōu)選類型中,淋浴器圍板包括門以及一個或者多個轉(zhuǎn)延板,且設(shè)有排水通道沿著或者靠近轉(zhuǎn)延板(一個或者多個)的底部延伸以及在淋浴器圍板門下面或者底部延伸至排污出口,該排污出口設(shè)置在優(yōu)選為淋浴器基座前側(cè)的一側(cè)上。淋浴器基座或者圍板可以為任何形狀(在平面中)。但是,作為可選地,可以用淋浴器圍板在三個側(cè)面上有實體墻壁的空間中形成淋浴器隔間,且除了基座外淋浴器圍板可以簡單地包括沒有帶轉(zhuǎn)延板的門(或者可選地帶有短轉(zhuǎn)延板),其在墻壁之間延伸以形成完整的隔間。再次作為可選地,淋浴器基座可以被設(shè)計成與獨立式淋浴器隔間一起使用。
許多的預(yù)成型淋浴器基座具有中心排污孔。在例如有中心排污孔的方形淋浴器基座中,為了形成從淋浴器基座的每一側(cè)到排污孔的落差,淋浴器用的底板表面包含在四個平面中的表面,這些表面沿著從淋浴器基座的每個拐角處至排污出口的線交叉。當(dāng)要鋪設(shè)淋浴器基座時,在沿著淋浴器基座的底板表面中的相鄰平面之間的各所述線交叉的地方需要切割許多塊瓷磚。這就使淋浴器基座的鋪設(shè)相對費時。在一個優(yōu)選類型中,本發(fā)明的淋浴器基座結(jié)合有輔助排水通道,且該淋浴器基座具有至淋浴器基座的一側(cè)排污出口,淋浴器基座的底板表面可以基本上為平面,即單個平面,這就在鋪設(shè)淋浴器基座時,由于淋浴器基座底板表面中平面的任何變化所需進行的瓷磚切割較少。
在本說明書和權(quán)利要求書中使用的術(shù)語‘包括’意味著‘至少部分由...組成’,也就是說當(dāng)斷續(xù)的獨立權(quán)利要求包含該術(shù)語時,在每項權(quán)利要求中需要具有通過該術(shù)語引導(dǎo)的特征,但是同樣也可以具有其它特征。


通過示例性而非限定性的方式,根據(jù)示出了本發(fā)明優(yōu)選類型的淋浴器基座和圍板的附圖進一步對本發(fā)明進行描述。在附圖中圖1是從前面看淋浴器圍板的透視圖,該淋浴器圍板包含了優(yōu)選類型的淋浴器基座;圖2是從前面看放大的淋浴器基座的視圖;圖3是類似于上述圖2的去除了排水通道蓋的視圖;圖4是從前面看與圍板分離的淋浴器基座(例如在淋浴器基座被安裝之前)的視圖,在該視圖中同樣地除去了排水通道蓋板和其他元件;并且圖5是沿著圖2中I-I線的尤其通過排污出口的淋浴器基座和圍板一部分的橫截面示意圖;具體實施方式
附圖中示出的優(yōu)選類型的淋浴器基座和淋浴器圍板用于在房間的角落提供淋浴器隔間,如圖所示,所述圍板具有彎曲的門1,在門的兩側(cè)具有轉(zhuǎn)延板2。通過在所述門一側(cè)上的鉸鏈3從轉(zhuǎn)延板支撐所述門并且所述門包含手柄4。然而,本發(fā)明的淋浴器基座和圍板可以具有方形的形狀,或者所需的其它任何形狀。
根據(jù)圖2,優(yōu)選類型的淋浴器基座5包括平面的底板6,該底板從淋浴器基座的后側(cè)的高點(在該情況下,從后角落7)下降或者傾斜至設(shè)在淋浴器基座前側(cè)的排污出口8。在該優(yōu)選類型中,排污出口孔8同樣凹陷入淋浴器基座中以位于比淋浴器基座的底板表面6低的水平面上,并設(shè)有覆蓋元件或者平板9,其坐落在所示的形成于淋浴器基座中排污孔8附近的壁架10上,以優(yōu)選地使蓋板可以隨意拆卸進行清洗。在豎柱18上的壁架10同樣支撐蓋板9。在優(yōu)選類型中排污出口孔8凹陷入由位于每一側(cè)上的壁架10和豎柱18限定出的通常為三角形的凹部中,壁架10和豎柱18一起支撐蓋板9,但是作為備選地該凹部可以為半圓方形或者其他任何合適的形狀,優(yōu)選地有相應(yīng)形狀的匹配的覆蓋元件。優(yōu)選地但并非必要地使排污出口孔8凹陷入淋浴器基座中以位于比淋浴器基座的底板表面低的水平面上并提供匹配的蓋板,從而使排污出口孔不會暴露在外而提供了更加美感悅目的光制的淋浴器座,但是通常地,在一個可選類型中排污出口孔8可以不設(shè)這樣的蓋板而暴露出來,而是根據(jù)本發(fā)明該排污出口孔位于淋浴器基座的一側(cè)。
排水通道11圍繞淋浴器基座的前端、至少在如圖所示的門1下面或者底部以及門的外部、且同樣優(yōu)選地沿著如圖所示的轉(zhuǎn)延板2的底部和外部延伸。圖4最為清楚地示出了整體地形成在淋浴器基座中的排水通道11。在安裝后并使用該淋浴器時,淋浴器基座的底板表面是朝著由門和轉(zhuǎn)延板限定出的淋浴器圍板的彎曲前側(cè)下降,該淋浴器基座的底板表面可以是已經(jīng)鋪設(shè)好磚的或者可選地形成為淋浴器基座的光制的端部表面,水在門1下面流動并進入排水通道11至排污出口8。典型地,無論淋浴器基座是要鋪設(shè)磚或者成型為單個的熱成型或模制產(chǎn)品,其可以可選地優(yōu)選地成型以便同時包括模制的切口17,這樣朝著淋浴器圍板的前部每一側(cè)下降的水將從該切口17下落至排水通道11。
優(yōu)選地出于審美原因,至少在靠近圍板的門的排水通道11上方設(shè)置覆蓋元件或者平板12,其在覆蓋排水管的同時允許水流向排水管并流至蓋板上以通過開孔的蓋板排水,如在具有溝槽16的優(yōu)選類型中所示。排水通道11可以簡單地延伸至門以外,也可以沿著一個或者多個轉(zhuǎn)延板的底部延伸??梢源蜷_在轉(zhuǎn)延板前部的排水通道但是在優(yōu)選類型中同樣可以所示地通過短蓋板17蓋住。通過對比圖2和圖3可以看出,沿著每一塊轉(zhuǎn)延板底部的軌道18固定在淋浴器每一側(cè)的排水通道附近,且蓋板18可以拆卸以進行清洗,其安裝在遮住排水通道的地方??梢栽O(shè)置模制的塑料元件19以終止否則會在暴露在外的每一側(cè)上軌道17(參見圖2)的端部。在排水通道上的蓋板12和18可以成型為擠壓件,或者可選地成型為模制元件,其優(yōu)選地具有向后朝著淋浴器基座的底板傾斜的表面,例如所示的凹入的上表面15(參見圖5)。
在門的底部邊緣和淋浴器基座之間有未密封的間隙,即在門的下邊緣沒有設(shè)置密封件等以對淋浴器基座進行密封,這樣,從淋浴器基座向下流向位于門外部的排水通道11的水可能在門下面流動并進入排水通道。同樣優(yōu)選地,不設(shè)置圍繞整個門的由擠壓成型的鋁制框架元件構(gòu)成的框架以及密封,這樣圍板基本上由玻璃板組成,并且在圍板的門的一側(cè)或者兩側(cè)與門一側(cè)或兩側(cè)上的轉(zhuǎn)延板之間形成間隙。這就為這樣的一種無框架淋浴器圍板提供了更加潔凈和更為美觀悅目的外形,并且當(dāng)水圍繞門經(jīng)過未密封的間隙時,從間隙滴下的水將進入排水通道11。
優(yōu)選地,本發(fā)明的淋浴器基座同樣包含圍繞或沿著淋浴器基座前側(cè)一部分的一個或者多個結(jié)構(gòu),其用于將轉(zhuǎn)延板(一個或者多個)安裝至淋浴器圍板門的一側(cè)或者兩側(cè)上的淋浴器基座上。在所示的優(yōu)選類型中臺階20形成在淋浴器基座底板的周圍邊緣處,底板與排水通道11在此結(jié)合,如圖3到圖5所示,從而容納在轉(zhuǎn)延板底部的軌道18。在轉(zhuǎn)延板底部的軌道18可通過例如硅黏合劑在臺階處粘合至淋浴器基座上,或者可選地在另外一個實施方案中可以不要軌道17,轉(zhuǎn)延板17的玻璃邊緣直接粘合到臺階20上。再次可選地,在淋浴器基座底板的邊緣與排水通道之間的結(jié)構(gòu)可以包含在淋浴器基座中的模制突起,這些模制突起將一個或者多個轉(zhuǎn)延板底部上的軌道18或類似物定位或者與其接合,或者這樣結(jié)構(gòu)可以以其它任何合適的類型形成在淋浴器基座中以配合定位一個或者多個轉(zhuǎn)延板的底部。
如圖所示,在排污出口8上方的蓋板9也可以包含通過蓋板的排水孔,或者再次可選地配有可拆卸的蓋板以及當(dāng)淋浴器基座安裝好就永久固定的蓋板,從而例如在給淋浴器基座鋪設(shè)磚時,瓷磚可以在蓋板9或者等效物上方延伸以便使排污出口不會視覺可見。但是,在大多數(shù)情況下,需要提供可拆卸的蓋板9從而可以對排污出口進行定期清洗。
如上所述,本發(fā)明的淋浴器基座具有在輔助排水通道的淋浴器基座一側(cè)的排污出口,淋浴器基座的底板表面可以基本上是平坦的,即單個平面,在要給淋浴器基座鋪設(shè)磚時,這就使由于淋浴器基座底板表面中的平面發(fā)生任何變化所需的瓷磚切割更少。
在所述的優(yōu)選類型中淋浴器基座底板表面是(單個)平面的,淋浴器基座也可能這樣形成,即淋浴器基座的底板表面包括交叉平面,在具有兩個平面的情況下,淋浴器基座會沿著從淋浴器基座的后角落7到排污出口8平分淋浴器基座的線交叉,為水在淋浴器基座的每個后側(cè)提供直接朝著排污出口8的落差。這是較次要優(yōu)選地,但是相比鋪設(shè)具有中央排污出口且淋浴器基座的底板表面被四個不同的平面分開的淋浴器基座,還是減少了對淋浴器基座的鋪設(shè)工作。
在所述的優(yōu)選類型中,在淋浴器基座前部中心設(shè)有排污出口8,但是在可選類型中排污出口可能設(shè)置在淋浴器基座的左前或右前角落,此時排水通道11的落差將在一側(cè)朝向排污出口而不是在前部圍板的任一側(cè)朝向中央排污出口。
上述內(nèi)容對包含優(yōu)選類型的發(fā)明進行了描述。本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的改變和改良被用于包括在所附權(quán)利要求書所定義的范圍中。
權(quán)利要求
1.一種淋浴器圍板,其包括至少一個位于圍板前側(cè)的門;以及淋浴器基座,其具有底板,該底板朝著淋浴器基座的一側(cè)下降;在淋浴器基座的所述側(cè)的排污出口;以及排水通道,該排水通道至少在圍板的門下面或者外部圍繞或者橫過淋浴器基座的前側(cè)延伸,且設(shè)置成朝著排污出口排水。
2.如權(quán)利要求1所述的淋浴器圍板,包含位于門的底部邊緣和淋浴器基座的前側(cè)之間的非密封間隙,水可以通過該間隙在門的下面流至排水通道。
3.如權(quán)利要求1或2所述的淋浴器圍板,包括在門的一側(cè)或者兩側(cè)的轉(zhuǎn)延板,并且其中排水通道也在轉(zhuǎn)延板外部沿著轉(zhuǎn)延板底部延伸。
4.如權(quán)利要求3所述的淋浴器圍板,其包含位于門的一側(cè)或者兩側(cè)邊緣與在門的一側(cè)或者兩側(cè)的轉(zhuǎn)延板之間的非密封間隙,水可以通過該間隙。
5.如權(quán)利要求1至4的任一項所述的淋浴器圍板,包含在排水通道上方縱向延伸的覆蓋元件。
6.如權(quán)利要求1至5的任一項所述的淋浴器圍板,其中排污出口設(shè)置在淋浴器基座的前側(cè)。
7.如權(quán)利要求1至6的任一項所述的淋浴器圍板,其中淋浴器基座的底板基本上是平坦的,從而可以鋪設(shè)淋浴器基座的底板而無須切割瓷磚以適應(yīng)淋浴器基座的底板平面的變化。
8.如權(quán)利要求1至7的任一項所述的淋浴器圍板,其中淋浴器基座的底板從淋浴器基座后側(cè)的高點下降至淋浴器基座的前側(cè)。
9.如權(quán)利要求1至8的任一項所述的淋浴器圍板,其中排污出口凹陷入淋浴器基座以位于比淋浴器基座的底板表面低的水平面上,且在排污出口上方設(shè)有覆蓋元件。
10.如權(quán)利要求9所述的淋浴器圍板,其中排污出口的覆蓋元件具有基本上平坦的頂表面,從而可以鋪設(shè)覆蓋元件的頂表面,并且其中覆蓋元件的頂表面基本上與淋浴器基座的底板相鄰接。
11.如權(quán)利要求1至10的任一項所述的淋浴器圍板,其中位于前側(cè)的淋浴器基座不高于鄰近圍板門的淋浴器基座的底板。
12.如權(quán)利要求1至10的任一項所述的淋浴器圍板,其中淋浴器基座包含豎柱,該豎柱圍繞除鄰近圍板門的淋浴器基座前側(cè)以外的淋浴器基座周邊。
13.一種用于在房間安裝淋浴器的預(yù)制的淋浴器基座,該淋浴器基座具有朝著淋浴器基座的一側(cè)下降的底板,該底板基本上包括單個平面,從而可以鋪設(shè)淋浴器基座的底板而無須切割平瓷磚以適應(yīng)淋浴器基座底板平面的變化;位于淋浴器基座的所述側(cè)的排污出口;以及排水通道,該排水通道圍繞或者橫過淋浴器基座的前側(cè)延伸,且用于朝排污出口排水;以及圍繞淋浴器基座的前側(cè)的一部分的一個或者多個結(jié)構(gòu),用于在淋浴器圍板的門的一側(cè)或者兩側(cè)將一塊或者多塊淋浴器圍板的轉(zhuǎn)延板安裝到淋浴器基座上。
14.如權(quán)利要求13所述的淋浴器基座,其中所述的位于淋浴器基座前側(cè)的用于安裝一個或者多個淋浴器圍板的轉(zhuǎn)延板的所述一個或者多個結(jié)構(gòu)位于淋浴器基座底板的周邊和排水通道之間。
15.如權(quán)利要求13和14中任一項所述的淋浴器基座,包含在排水通道上方縱向延伸的覆蓋元件。
16.如權(quán)利要求13至15中任一項所述的淋浴器基座,其中排污出口設(shè)置在淋浴器基座的前側(cè)。
17.如權(quán)利要求13至16中任一項所述的淋浴器基座,其中淋浴器基座的底板從淋浴器基座后側(cè)的高點下降至淋浴器基座的前側(cè)。
18.如權(quán)利要求13至17中任一項所述的淋浴器基座,其中排污出口凹陷入淋浴器基座從而位于比淋浴器基座的底板表面低的水平面上,并且在排水出口上方設(shè)置覆蓋元件。
19.如權(quán)利要求18所述的淋浴器基座,其中排污出口的覆蓋元件具有基本上平坦的頂表面,從而可以鋪設(shè)所述覆蓋元件的頂表面,并且其中所述覆蓋元件的頂表面基本上與淋浴器基座的底板鄰接。
20.如權(quán)利要求13至19的任一項所述的淋浴器基座,其中在前側(cè)的淋浴器基座不高于鄰近圍板的門的淋浴器基座的底板。
21.如權(quán)利要求13至19的任一項所述的淋浴器基座,其中淋浴器基座包含豎柱,該豎柱圍繞除了鄰近圍板的門的淋浴器基座前側(cè)以外的淋浴器基座的周邊。
22.一種淋浴器圍板,其包括門和位于所述門的一側(cè)或者兩側(cè)的轉(zhuǎn)延板;以及淋浴器基座,其具有朝著淋浴器基座一側(cè)下降的底板;位于淋浴器基座所述側(cè)的排污出口;以及在圍板的門的外部延伸的排水通道,該排水通道設(shè)置成朝排污出口排水,在所述門的底部邊緣與淋浴器基座前側(cè)之間有一未密封的間隙,水可以通過所述間隙在門的下面流動至排水通道,且其中排水通道也在轉(zhuǎn)延板的外部沿著轉(zhuǎn)延板的底部延伸,在門的一側(cè)或者兩側(cè)邊緣與在門的一側(cè)或者兩側(cè)的所述轉(zhuǎn)延板之間具有一未密封的間隙,水可以通過該間隙。
23.如權(quán)利要求22所述的淋浴器圍板,包含在排水通道上方縱向延伸的覆蓋元件。
24.如權(quán)利要求22和23中任一項所述的淋浴器圍板,其中排污口設(shè)置在淋浴器基座的前側(cè)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種淋浴器圍板,所述淋浴器圍板包括淋浴器基座(5),所述淋浴器基座具有朝著淋浴器基座(5)的一側(cè)下降的底板(6),位于淋浴器基座所述側(cè)的排污口,以及延伸至圍板門(1)外部的排水通道(11),該排水通道被設(shè)置成朝排污出口(8)排水。水可以在門(1)的下部流至排水通道(11)。優(yōu)選地排水通道(11)同樣沿著轉(zhuǎn)延板(2)的底部延伸。優(yōu)選地在排水通道(11)之上設(shè)置縱向延伸的覆蓋元件(9)并且排污出口可以設(shè)置在淋浴器基座(5)的前側(cè)。
文檔編號A47K3/40GK1972616SQ200580011194
公開日2007年5月30日 申請日期2005年2月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年2月13日
發(fā)明者約翰·哈特里克-史密斯 申請人:科勒新西蘭有限公司
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