專利名稱：蔭罩的洗凈方法和洗凈裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對(duì)陰極射線管用的蔭罩進(jìn)行超聲波洗凈的蔭罩的洗凈方法和蔭罩的洗凈裝置。
一般，彩色電視機(jī)等用的陰極射線管包括具有玻屏和玻錐的真空管殼，并在玻屏的內(nèi)表面上形成具有藍(lán)色(B)、綠色(G)，紅色(R)的三色熒光層和在這些熒光層的間隙中形成的黑色光吸收層的熒光面。此外，在玻屏的內(nèi)側(cè)上相對(duì)于熒光面設(shè)置蔭罩。
這種蔭罩包括蔭罩主體和蔭罩框架，蔭罩主體具有形成多個(gè)電子束穿通孔的大致矩形狀的蔭罩面及在蔭罩面周圍邊緣垂直設(shè)置的裙邊部分，蔭罩框架與蔭罩主體的裙邊部分焊接。將保持架焊接在蔭罩框架的四個(gè)角上。然后，將設(shè)置在玻屏內(nèi)壁上的玻屏銷(panel pin)嵌入這種保持架上形成的安裝孔內(nèi)，使蔭罩相對(duì)于玻屏的內(nèi)表面以規(guī)定的位置關(guān)系安裝在玻屏上。
在蔭罩的組裝工序中，對(duì)預(yù)先利用形成多個(gè)電子束穿通孔的毛坯板進(jìn)行壓力成型，通過這樣使蔭罩主體成型為規(guī)定的形狀。成型后的蔭罩主體洗凈后進(jìn)行黑化處理，由氧化膜組成的黑化膜覆蓋表面。這種黑化膜具有防銹和防止反射的效果。
此外，蔭罩框架在壓力成型后同樣進(jìn)行洗凈和黑化處理，并將保持架焊接在其四角和邊上。將這種蔭罩框架設(shè)置在蔭罩主體裙邊部分的外側(cè)，并在多個(gè)地方與裙邊部分焊接。通常，蔭罩框架使用鐵，蔭罩主體中使用鐵或殷鋼材料。并且，蔭罩主體和蔭罩框架的焊接是采用基于電阻焊的點(diǎn)焊。
這種點(diǎn)焊用的焊接裝置具有一對(duì)電極、即加壓側(cè)電極和底座(back)電極。在焊接時(shí)用規(guī)定的壓力，將蔭罩的裙邊部分與蔭罩框架的接合部分夾在加壓側(cè)電極和底座電極之間。在這種狀態(tài)下，借助于在這些電極之間進(jìn)行通電，對(duì)裙邊部分和蔭罩框架進(jìn)行電阻焊接。也就是說(shuō)，電流一流過加壓側(cè)電極和底座電極之間，就焊接蔭罩裙邊部分和蔭罩框架，并形成稱為熔核的焊接部分。
這里在焊接時(shí)，蔭罩主體和蔭罩框架的表面形成的導(dǎo)電性差的黑化膜夾在加壓側(cè)電極和底座電極之間。因此，在這種黑化膜被破壞時(shí)或金屬之間焊接時(shí)，發(fā)生濺射。這種濺射飛散到蔭罩面上，常常發(fā)生電子束穿通孔堵塞。
也就是說(shuō)，蔭罩主體的板厚是0.1～0.25mm。在蔭罩面的正反面分別穿通設(shè)置直徑為100～200μm研缽狀的多個(gè)圓形或者矩形的開孔。這些開孔相對(duì)于熒光面的表面?zhèn)仁谴罂祝鄬?duì)于電子槍的背面?zhèn)葹樾】?。利?組大孔和小孔形成電子束穿通孔。在焊接時(shí)，從焊接部分飛散到蔭罩面上的濺射容易進(jìn)入到小孔或者大孔中，成為孔堵塞的原因。
特別是因?yàn)楹附狱c(diǎn)在蔭罩的邊緣部分，所以在蔭罩主體的邊緣部分容易發(fā)生由于濺射而導(dǎo)致的孔堵塞。此外，濺射等的異物容易積留在蔭罩和蔭罩框架之間。
另一方面，在陰極射線管的制造工序中，蔭罩用來(lái)形成熒光面。也就是說(shuō)，利用通過與玻屏相對(duì)配置的蔭罩開孔的光，使藍(lán)色、綠色和紅色的三色熒光體曝光，形成熒光面。因此，如前所述，如果由于濺射和垃圾以及其它的異物堵塞蔭罩主體的開孔，則不能使熒光體曝光成所要的圖形，形成有缺陷的熒光面。
以往，在焊接后要對(duì)蔭罩進(jìn)行洗凈，并去除堵塞在開孔中的異物。這種洗凈是使用在水中的超聲波洗凈。
在這種超聲波洗凈處理中，使蔭罩在水中保持水平或者垂直，并對(duì)該蔭罩發(fā)射由超聲波振蕩器振蕩的超聲波，去除異物。例如，從蔭罩的蔭罩框架側(cè)、即蔭罩主體內(nèi)表面的小孔側(cè)發(fā)射超聲波，這時(shí)利用通過小孔的超聲波，去除堵塞在大孔中的異物。
但是，僅僅如前所述從超聲波振蕩器向著蔭罩發(fā)射振蕩的超聲波，就不能有效地利用通過蔭罩開孔的超聲波和通過蔭罩外側(cè)的超聲波。在蔭罩內(nèi)，對(duì)于超聲波不容易照射的部分，就難以有效地照射超聲波。因此，存在不能徹底洗凈蔭罩的問題。
特別是對(duì)蔭罩從蔭罩主體內(nèi)表面的小孔側(cè)照射超聲波時(shí)，由于蔭罩框架的阻礙，難于將超聲波照射到蔭罩主體的邊緣部分，不能徹底洗凈全部蔭罩主體。
本發(fā)明鑒于前述問題，其目的在于提供一種蔭罩的洗凈方法和洗凈裝置，這種蔭罩的洗凈方法和洗凈裝置能徹底洗凈蔭罩。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的蔭罩的洗凈方法，包括下述工序?qū)⒕哂行纬呻娮邮┩椎氖a罩主體和固定在蔭罩主體邊緣部分的蔭罩框架的蔭罩，配置在超聲波傳輸媒體內(nèi)，
從超聲波振蕩器向著所述蔭罩發(fā)射振蕩的超聲波，利用超聲波反射體使超聲波振蕩器振蕩的超聲波的至少一部分，向著所述蔭罩反射。
此外，本發(fā)明的蔭罩的洗凈裝置，包括將所述蔭罩保持在超聲波傳輸媒體內(nèi)的保持單元，向著所述蔭罩發(fā)射振蕩的超聲波的超聲波振蕩器，和使所述超聲波振蕩器振蕩的超聲波的至少一部分向著所述蔭罩反射的超聲波反射體。
采用前述洗凈方法和洗凈裝置，則從超聲波振蕩器向著蔭罩發(fā)射振蕩的超聲波，利用超聲波去除附著在蔭罩上的異物，并洗凈蔭罩。此外，利用超聲波反射體，使由超聲波振蕩器向著蔭罩發(fā)射振蕩的超聲波的一部分，向著蔭罩反射，能有效地利用超聲波，并能徹底洗凈蔭罩。
此外，采用本發(fā)明，則超聲波反射體使超聲波振蕩器振蕩的超聲波的一部分，向著蔭罩主體的邊緣部分反射，通過這樣，對(duì)于難于直接照射來(lái)自超聲波振蕩器的超聲波的蔭罩主體邊緣部分，也能充分地照射超聲波，并能徹底洗凈蔭罩。
此外，采用本發(fā)明，則超聲波反射體對(duì)通過蔭罩的電子束穿通孔的超聲波進(jìn)行反射，或者直接地對(duì)超聲波振蕩器振蕩的超聲波進(jìn)行反射，然后對(duì)蔭罩進(jìn)行照射，能有效地利用超聲波。
此外，采用本發(fā)明的洗凈方法和洗凈裝置，使蔭罩與超聲波反射體的位置發(fā)生相對(duì)變化，使超聲波反射體反射的超聲波對(duì)于蔭罩的照射位置發(fā)生變化。因此，能對(duì)蔭罩的寬大范圍照射超聲波，或者對(duì)于需要超聲波照射的的區(qū)域照射不同強(qiáng)弱的超聲波，能得到有效地洗凈效果。
因此，采用本發(fā)明，能提供徹底洗凈蔭罩的洗凈方法和洗凈裝置，同時(shí)能提供沒有堵塞的品質(zhì)優(yōu)良的蔭罩。
對(duì)于本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點(diǎn)將在后面進(jìn)一步加以描述。本發(fā)明的目的和優(yōu)點(diǎn)將通過后述的裝置及其組合實(shí)現(xiàn)。
下面，對(duì)附圖進(jìn)行說(shuō)明，這些附圖構(gòu)成說(shuō)明書的一部分，并用于說(shuō)明本發(fā)明較理想的實(shí)施例。附圖與前述的一般描述以及后述的較理想實(shí)施例的詳細(xì)描述，是用于理解本發(fā)明的精神。


圖1是表示包括蔭罩的陰極射線管的剖視圖。
圖2是表示上述蔭罩一部分的立體圖。
圖3是表示上述蔭罩一部分放大的剖視圖。
圖4是表示本發(fā)明實(shí)施例1的超聲波洗凈裝置的剖視圖。
圖5A-5C分別表示上述洗凈裝置用的超聲波的波形6是表示本發(fā)明實(shí)施例2的超聲波洗凈裝置的簡(jiǎn)化剖視圖。
圖7是實(shí)施例2的超聲波洗凈裝置的反射塊平面圖。
圖8是表示本發(fā)明實(shí)施例3的超聲波洗凈裝置的簡(jiǎn)化剖視圖。
圖9是表示上述實(shí)施例3的超聲波洗凈裝置一部分放大的剖視圖。
圖10是表示本發(fā)明實(shí)施例4的超聲波洗凈裝置的簡(jiǎn)化剖視圖。
圖11是表示本發(fā)明實(shí)施例5的超聲波洗凈裝置的簡(jiǎn)化剖視圖。
下面，參照附圖對(duì)實(shí)施本發(fā)明的最佳實(shí)施形態(tài)進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
實(shí)施例1首先對(duì)包括蔭罩的彩色陰極射線管進(jìn)行說(shuō)明。如圖1所示，彩色陰極射線管包括真空管殼10。這種真空管殼包括在邊緣具有裙邊部分2并且外表面為平坦的大致矩形的玻屏1、與玻屏的裙邊部分連接的玻錐4、與玻錐的小徑部分連接的圓筒狀的管頸3。
在玻屏1的內(nèi)表面上形成熒光面6，熒光面6由分別發(fā)光成紅、綠、藍(lán)色光的多個(gè)點(diǎn)狀熒光層及在這些熒光層間形成的黑色層。在從管頸3到玻錐4的外表面上，安裝了具有水平、垂直偏轉(zhuǎn)線圈的偏轉(zhuǎn)線圈7。此外，在管頸3內(nèi)向著熒光面6的熒光層，配置發(fā)射3束電子束8B、8G、8R的電子槍9。
在真空管殼10內(nèi)，相對(duì)于熒光面6配置蔭罩12。蔭罩12包括由鐵或殷鋼等構(gòu)成的矩形狀的蔭罩主體13安裝在蔭罩主體邊緣的蔭罩框架14。如圖1和圖2所示，蔭罩主體13包括與熒光面6相對(duì)的形成多個(gè)電子束穿通孔20的矩形蔭罩有效部分13a及將這種蔭罩有效部分13a的邊緣進(jìn)行彎折而形成的裙邊部分13b。另外，蔭罩框架例如由鐵形成，配置在蔭罩主體13的外側(cè)，并在多個(gè)焊點(diǎn)19處與初邊部分13b進(jìn)行焊接。
此外，將作為彈性支承體的保持架15焊接在蔭罩框架14的四個(gè)角上。在這種保持架15上形成安裝孔15a。并且，將突出在玻屏1的裙邊部分2內(nèi)表面上設(shè)置的螺柱腳16嵌入保持架15的安裝孔15a中，通過這樣將蔭罩12支承在相對(duì)于玻屏1內(nèi)表面的規(guī)定位置上，且裝拆方便。
在前述結(jié)構(gòu)的彩色陰極射線管中，利用安裝在玻錐4外側(cè)的偏轉(zhuǎn)線圈7，使電子槍9發(fā)射的3束電子束8B、8G、8R產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)，通過蔭罩12的電子束穿通孔20對(duì)熒光面6進(jìn)行水平、垂直掃描，通過這樣顯示彩色圖像。
下面，對(duì)蔭罩12的結(jié)構(gòu)進(jìn)一步詳細(xì)地進(jìn)行說(shuō)明。
如圖1到圖3所示，將蔭罩主體13的蔭罩有效部分13a有規(guī)則地形成多個(gè)電子束穿通孔20，并形成規(guī)定的曲率。蔭罩主體13的板厚是0.1～0.2mm，利用壓力成型，形成規(guī)定的形狀。此外，在蔭罩主體13的內(nèi)表面和外表面上形成黑化膜22。這種黑化膜具有在真空排氣前防銹和防止反射的效果。
各電子束穿通孔20具有直徑為100～200μm研缽狀的圓形或者矩形的開孔，并由位于玻屏1的熒光面6一側(cè)的大孔20a和位于電子槍9一側(cè)的小孔20b構(gòu)成。
此外，支承蔭罩主體13的蔭罩框架14的板厚是0.8～1.2mm，利用壓力成型形成大致矩形形狀，同時(shí)在其表面形成黑化膜。在多個(gè)焊接點(diǎn)19處將蔭罩框架14與蔭罩主體13的裙邊部分13b進(jìn)行焊接。這里，蔭罩主體13和蔭罩框架14的焊接，是采用電阻焊的點(diǎn)焊。
下面，對(duì)前述彩色陰極射線管使用的蔭罩的制造工序中洗凈蔭罩的超聲波洗凈方法和超聲波洗凈裝置進(jìn)行說(shuō)明。
如圖4所示，超聲波洗凈裝置包括處理槽41。在這種處理槽內(nèi)，裝有水等的液體42作為超聲波傳輸媒體。并且，在蔭罩主體13和蔭罩框架14焊接后，在液體42中進(jìn)行蔭罩12的超聲波洗凈處理。此外，除了水以外，可以使用其它的洗凈液作為超聲波傳輸媒體。
超聲波處理裝置包括輸送裝置43。這種輸送裝置43把持蔭罩12的蔭罩框架14，支承蔭罩處于幾乎垂直下垂的狀態(tài)，并根據(jù)批(batch)處理要求輸送進(jìn)行多處工序。并且，在超聲波洗凈處理工序中，輸送機(jī)構(gòu)43使蔭罩12從處理槽41的外部浸漬在處理槽41的液體42中，保持在規(guī)定的超聲波洗凈處理位置上，同時(shí)在處理后從處理槽41提升到外部，輸送到下一個(gè)處理工序。此外，輸送機(jī)構(gòu)43以下垂?fàn)顟B(tài)支承的蔭罩12的上端側(cè)為基準(zhǔn)，支承并輸送大小不同的各種蔭罩，如圖4所示，給出了用實(shí)線表示的蔭罩12和比這種蔭罩小的雙點(diǎn)劃線表示的其它蔭罩。
此外，超聲波處理裝置包括配置在處理槽41內(nèi)的超聲波振蕩器31和反射板52。超聲波振蕩器31設(shè)置在處理槽41內(nèi)的一側(cè)，并通過支承單元33支承在處理槽的內(nèi)表面上。超聲波振蕩器31大致垂直延伸，并具有比蔭罩12的外形大的振蕩面34，從這種振蕩面向著蔭罩發(fā)出振蕩超聲波32。
作為超聲波32的種類，可利用圖5A所示的單一頻率的超聲波32a、圖5B所示的高頻和低頻交替變化的超聲波32b或圖5C所示的輸出大小變化的超聲波32c等。
此外，將具有反射體功能的反射板52設(shè)置在處理槽41內(nèi)的另一側(cè)，通過支承單元53支承在處理槽的內(nèi)表面上。因此，反射板52位于與超聲波振蕩器31的振蕩面34互相相對(duì)的位置。這種反射板52具有例如由不銹鋼形成的多個(gè)反射面54，整體上與下垂支承在輸送機(jī)構(gòu)43上的蔭罩12的外形大致相似。此外，將反射面54的至少一部分設(shè)置成與超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32的傳輸方向傾斜狀態(tài)。
構(gòu)成的反射板52，能利用多個(gè)反射面54，將通過蔭罩12的電子束穿通孔20的超聲波32和通過蔭罩12外側(cè)的超聲波32向著蔭罩12的邊緣部分12a反射。這時(shí)，借助于利用反射板52向著與超聲波32入射方向不同的方向反射，能防止由超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32與反射的超聲波32相互抵消而衰減。
在利用前述結(jié)構(gòu)的超聲波處理裝置進(jìn)行蔭罩12的超聲波洗凈時(shí)，首先，由輸送機(jī)構(gòu)43將蔭罩12浸漬在處理槽41的液體42內(nèi)，并配置在超聲波振蕩器31與反射板52間的規(guī)定位置上。這時(shí)，蔭罩12這樣配置，使得例如蔭罩12的內(nèi)表面、即小孔20b開口側(cè)與超聲波振蕩器31的振蕩面34相對(duì)。
在這種狀態(tài)下，從超聲波振蕩器31向著蔭罩12發(fā)射振蕩的超聲波32。振蕩的超聲波32以液體42為媒體，直接照射蔭罩12的內(nèi)表面，并通過各電子束穿通孔20的小孔20b和大孔20a。這時(shí)，在異物堵塞大孔20a的情況下，這種異物利用超聲波32從大孔22a排除到外部。
通過蔭罩12的電子束穿通孔20的超聲波32和通過蔭罩外側(cè)的超聲波32入射到反射板52，并由反射面54向著蔭罩12的邊緣部分12a反射。然后，反射的超聲波32通過各電子束穿通孔20的大孔20a和小孔20b。這時(shí)，在小孔中堵塞異物的情況下，這種異物利用超聲波32從小孔20b排除到外部。這時(shí)，利用超聲波也能去除蔭罩主體13的邊緣部分和蔭罩框架14之間等的位于蔭罩主體邊緣部分的異物。
此外，由反射面54反射的超聲波32，維持與入射到反射面的超聲波大致相同的輸出，具有與從超聲波振蕩器31直接照射到蔭罩12上的超聲波32相同的洗凈效果。
此外，雖然下垂支承在輸送機(jī)構(gòu)43上的蔭罩12的下端位置隨蔭罩大小而變，但利用反射板52向著超聲波振蕩器31的中間附近使超聲波32反射，能對(duì)各種大小蔭罩的邊緣部分12a充分地照射超聲波32。
此外，也可以在前述洗凈處理結(jié)束后，利用輸送機(jī)構(gòu)43從處理槽41提升蔭罩12，將蔭罩的方向改變180度后，再次將蔭罩配置在處理槽41內(nèi)的在超聲波振蕩器31和反射板52之間，進(jìn)行第2次洗凈處理。
或者，也可以與前述處理槽41并排設(shè)置超聲波振蕩器與反射板的設(shè)置位置與前述相反的第2處理槽，將輸送機(jī)構(gòu)43從處理槽41提升的蔭罩12，不改變方向而配置在第2處理槽內(nèi)的超聲波振蕩器和反射板之間，進(jìn)行第2次洗凈處理。
在前述的任何一種情況下，蔭罩12的內(nèi)表面處于與反射板52相對(duì)的位置，其外表面處于與超聲波振蕩器31相對(duì)的位置。然后，在這種狀態(tài)下從超聲波振蕩器31向著蔭罩12發(fā)射超聲波32。振蕩的超聲波32直接地照射在蔭罩12的外表面?zhèn)?、即各電子束穿通?0的大孔20a側(cè)，并依次地通過大孔20a、小孔20b。這時(shí)，在異物堵塞小孔20b的情況下，能利用超聲波32將異物從小孔20b去除到外部。
此外，通過蔭罩12的電子束穿通孔20的超聲波32和通過蔭罩12外側(cè)的超聲波32，利用反射板52向著蔭罩的邊緣部分12a反射，并依次通過各電子束穿通孔20的小孔20b、大孔20a。這時(shí)，在異物堵塞大孔20a的情況下，能利用超聲波32從大孔20a去除異物。而且，能去除蔭罩框架14與蔭罩主體13之間的蔭罩12邊緣部分12a中的異物。
采用前述結(jié)構(gòu)的超聲波洗凈方法和超聲波洗凈裝置，則能夠?qū)⒊暡ㄕ袷幤?1向著蔭罩12發(fā)射的超聲波32的一部分，向著蔭罩12的邊緣部分12a反射，從而能有效地利用超聲波32對(duì)蔭罩進(jìn)行洗凈。例如，對(duì)于因?yàn)橛惺a罩框架14而來(lái)自超聲波振蕩器31的超聲波32難于直接照射的蔭罩12的邊緣部分12a，也能充分地照射超聲波32，并能很容易去除附著在這種蔭罩邊緣部分上的異物。因此，能徹底洗凈蔭罩12，防止電子束穿通孔的堵塞，提高蔭罩的成品率。
此外，因能將通過蔭罩12的電子束穿通孔的超聲波和通過蔭罩外側(cè)的超聲波加以反射，并再次用于進(jìn)行蔭罩的洗凈，所以能提高洗凈效率，縮短洗凈處理的時(shí)間，并且在降低超聲波輸出的情況下，也能徹底進(jìn)行洗凈。
此外，在使用頻率變化的超聲波32b或者輸出變化的超聲波32c作為超聲波32時(shí)，也能改善洗凈效果，并能使蔭罩孔堵塞情況改善6％左右。
實(shí)施例2下面，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例2的超聲波洗凈方法和超聲波洗凈裝置進(jìn)行說(shuō)明。
如圖6和圖7所示，采用實(shí)施例2，則在處理槽41內(nèi)，將超聲波振蕩器31配置在蔭罩12的外表面、即與大孔20a相對(duì)，將具有反射體功能的反射塊61配置在蔭罩的內(nèi)表面、即與小孔20b相對(duì)。利用例如不銹鋼將反射塊61形成為與蔭罩12的外形相似的四棱錐。這種四棱錐周圍的各個(gè)外表面，形成向著蔭罩主體13的部分13c的內(nèi)表面反射超聲波32的反射面62。此外，反射塊61這樣配置，使得位于其頂部的反射面62與超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32的傳輸方向垂直，而且周圍的反射面62位于與超聲波32的傳輸方向傾斜的位置。
其它的結(jié)構(gòu)與前述的實(shí)施例1相同，所以對(duì)于相同的部分賦以相同的標(biāo)號(hào)并省略其說(shuō)明。
采用實(shí)施例2，則由超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32以液體42作為媒體，直接地照射到蔭罩12的外表面?zhèn)?，依次通過各電子束穿通孔的20的大孔20a和小孔20b。這時(shí)，在異物堵塞小孔20b的情況下，能利用超聲波32將異物從小孔去除到外部。
通過蔭罩12的電子束穿通孔20的超聲波32，其一部分由反射塊61的反射面62向著蔭罩主體13的邊緣部分13c的內(nèi)表面反射，依次地通過電子束穿通孔的小孔20b和大孔20a。這時(shí)，在異物堵塞大孔20a的情況下，能利用超聲波從大孔20a去除異物。此外，還能去除蔭罩框架14與蔭罩主體13的間隙等蔭罩邊緣部分的內(nèi)表面上的異物。此外，因?yàn)閷?duì)于蔭罩12的邊緣部分12a的內(nèi)表面大致垂直地照射從反射塊61反射的超聲波32的一部分，所以容易去除異物。因此，能徹底洗凈蔭罩13。
實(shí)施例3采用圖8和圖9所示的實(shí)施例3，則在處理槽41內(nèi)，配置超聲波振蕩器31，使其與蔭罩12的內(nèi)表面?zhèn)认鄬?duì)，此外，在蔭罩與超聲波振蕩器31間配置反射塊61。利用例如不銹鋼，將反射塊61形成具有底部和頂部開口的通孔63的中空四棱錐形狀。此外，反射塊61的各外表面形成向著蔭罩主體13的邊緣部分13c的內(nèi)表面反射超聲波32的反射面62。
反射塊61這樣設(shè)置，使得其中心軸0與超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32的傳輸方向大致平行，而且通過振蕩面34的大致中心。由此，反射塊61的反射面62位于與超聲波32的傳輸方向傾斜的位置。此外，利用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)72的支承桿70，支承反射塊61，并利用這種驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能沿著與中心軸0與平行的箭頭A的方向，往返移動(dòng)。
其它的結(jié)構(gòu)與前述的實(shí)施例1相同，所以對(duì)于相同的部分賦以相同的標(biāo)號(hào)并省略其說(shuō)明。
采用上述結(jié)構(gòu)的實(shí)施例3，則由超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32，直接地照射到蔭罩12的內(nèi)表面?zhèn)?，依次通過各電子束穿通孔的20的小孔20b和大孔20a。這時(shí)，在異物堵塞大孔20a的情況下，能利用超聲波32從大孔20a去除異物。此外，由超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32的一部分，利用反射塊61的反射面62，向著蔭罩框架14的陰影部分即蔭罩12的邊緣部分12a的內(nèi)表面反射，在蔭罩主體13的邊緣部分13c，依次通過電子束穿通孔20的小孔20b和大孔20a。這時(shí)，在異物堵塞大孔20a的情況下，能利用超聲波從大孔20a去除異物。此外，同時(shí)還能去除蔭罩主體13與蔭罩框架14間的蔭罩主體13的邊緣部分13c的內(nèi)表面上的異物。這時(shí)，因?yàn)閷?duì)于蔭罩12的邊緣部分內(nèi)表面大致垂直照射用反射塊61反射的超聲波32的一部分，所以容易去除異物。
此外，在蔭罩3與超聲波振蕩器31之間使反射塊61在蔭罩12的管軸方向(箭頭A方向)往返移動(dòng)。因此，能用往返移動(dòng)的反射塊61的反射面62，反射由超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32，能大范圍照射蔭罩框架14的陰影部分即蔭罩主體13的邊緣部分13c的內(nèi)表面。特別是借助于將超聲波32照射到蔭罩主體13的裙邊部分13b，能徹底去除在堵塞蔭罩主體13與蔭罩框架14之間的濺射的異物。
此外，在實(shí)施例3中，是移動(dòng)反射塊61，但也可以固定反射塊61，移動(dòng)蔭罩12，或者反射塊61及蔭罩12兩者都移動(dòng)，也能得到同樣的效果。
此外，也可以以蔭罩12的管軸方向?qū)?yīng)的中心軸0作為中心，旋轉(zhuǎn)反射塊61，改變反射塊61的各反射面62與裙邊部分13b的距離。這種情況下，能利用各反射面62，對(duì)改變超聲波強(qiáng)弱進(jìn)行照射，能改善洗凈效果。
這樣，借助于改變蔭罩12與反射塊61的相對(duì)位置，改變用反射塊61反射的超聲波32相對(duì)于蔭罩的照射位置，能對(duì)蔭罩12在大范圍照射超聲波32，并改變超聲波32照射的強(qiáng)弱，改善洗凈效果。
此外，在圖6所示的實(shí)施例2中，也能改變反射塊61和蔭罩12的相對(duì)位置，這種情況下，能得到與實(shí)施例3相同的效果。
實(shí)施例4下面，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例4的超聲波洗凈方法和超聲波洗凈裝置進(jìn)行說(shuō)明。
如圖10所示，在處理槽41內(nèi)，配置超聲波振蕩器31，使得與蔭罩12的內(nèi)表面?zhèn)认鄬?duì)，此外，配置反射板52，使得與蔭罩12的外表面?zhèn)认鄬?duì)，并由支承單元53支承。利用例如不銹鋼，將反射板52形成矩形框架形狀，此外，尺寸比蔭罩12的蔭罩框架14的尺寸要小。反射板52的反射面62對(duì)于反射板的中心軸向外側(cè)傾斜，并與蔭罩主體13的邊緣部分13c相對(duì)。
在前述結(jié)構(gòu)中，由超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32直接地照射到蔭罩12的內(nèi)表面?zhèn)?，依次通過各電子束穿通孔20的小孔20b和大孔20a。這時(shí)，在異物堵塞大孔20a的情況，能利用超聲波32從大孔20a去除異物。利用反射板52的反射面62，向著蔭罩框架14的陰影部分即蔭罩主體13的邊緣部分13c，反射通過蔭罩12的電子束穿通孔20的超聲波32的一部分，依次通過位于蔭罩主體13的邊緣部分的電子束穿通孔20的大孔20a和小孔20b。這時(shí)，在異物堵塞小孔20b的情況下，能利用超聲波32將異物從小孔去除到外部。同時(shí)，還能去除蔭罩主體13與蔭罩框架14間的蔭罩主體13的邊緣部分13c的異物。
實(shí)施例5此外，采用圖11所示的實(shí)施例5，則利用支承單元53，將與蔭罩12的外表面?zhèn)认鄬?duì)設(shè)置的反射板52支承在處理槽41中。利用例如不銹鋼，將反射板52形成矩形框架形狀，此外，尺寸比蔭罩12的蔭罩框架14的尺寸要大。反射板52的反射面62對(duì)于反射板的中心軸向內(nèi)側(cè)傾斜，并與蔭罩主體13的邊緣部分13c相對(duì)。其它結(jié)構(gòu)與前述實(shí)施例4相同。
在這種結(jié)構(gòu)的實(shí)施例5中，也能利用由超聲波振蕩器31振蕩的超聲波32從電子束穿通孔20的大孔20a去除異物。此外，利用反射板52的反射面62，向著蔭罩框架14的陰影部分即蔭罩主體13的邊緣部分13c，反射通過蔭罩12外側(cè)的超聲波32的一部分，依次通過位于蔭罩主體13的邊緣部分的電子束穿通孔20的大孔20a和小孔20b。這時(shí)，在異物堵塞小孔20b的情況下，能利用超聲波32將異物從小孔去除到外部。同時(shí)，還能去除蔭罩主體13與蔭罩框架14間等蔭罩主體13的邊緣部分13c的異物。
此外，在實(shí)施例4和實(shí)施例5中，其它結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1相同，所以省略其詳細(xì)說(shuō)明。
此外，組合前述各實(shí)施例中所示的超聲波洗凈處理，能進(jìn)一步提高蔭罩12的洗凈效果。例如組合反射塊61和反射板52，能進(jìn)一步提高蔭罩12的洗凈效果。
并且，采用前述的實(shí)施例，則能有效地利用超聲波徹底洗凈蔭罩，能提供孔不會(huì)堵塞的品質(zhì)優(yōu)良的蔭罩。而且，借助于使用這種蔭罩12構(gòu)成陰極射線管，就能提供品質(zhì)優(yōu)良的陰極射線管。
此外，本發(fā)明不限于上述實(shí)施例，可以在本發(fā)明的范圍內(nèi)進(jìn)行種種變形。例如，處理槽41的超聲波傳輸媒體不限于水等的液體，也可以采用空氣等的氣體。在空氣中進(jìn)行超聲波洗凈處理時(shí)，也能以空氣作為媒體將超聲波充分地照射在蔭罩上，得到與前述相同的作用效果。此外，反射體的形狀，也不限于前述實(shí)施例，可以根據(jù)需要進(jìn)行種種變化。
很明顯，對(duì)本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，還可以有其它的優(yōu)點(diǎn)和修改。因此，本發(fā)明不限于前述特別的細(xì)節(jié)以及相應(yīng)的實(shí)施例，只要在本發(fā)明的精神以及本發(fā)明的權(quán)利要求的范圍內(nèi)，當(dāng)然可以進(jìn)行種種變化。
權(quán)利要求
1．一種蔭罩的洗凈方法，其特征在于，所述洗凈方法包括下述工序?qū)⒕哂行纬呻娮邮┩椎氖a罩主體和固定在蔭罩主體邊緣部分的蔭罩框架的蔭罩，配置在超聲波傳輸媒體內(nèi)，從超聲波振蕩器向著所述蔭罩發(fā)射振蕩的超聲波，利用超聲波反射體使超聲波振蕩器振蕩的超聲波的至少一部分，向著所述蔭罩反射。
2．如權(quán)利要求1所述的蔭罩的洗凈方法，其特征在于，所述反射超聲波的工序，包含利用所述超聲波反射體使所述超聲波振蕩器振蕩的超聲波的一部分向著所述蔭罩的邊緣部分反射的工序。
3．如權(quán)利要求1所述的蔭罩的洗凈方法，其特征在于，所述反射超聲波的工序，包含利用所述超聲波反射體使通過所述蔭罩的電子束穿通孔的超聲波反射的工序。
4．如權(quán)利要求1所述的蔭罩的洗凈方法，其特征在于，所述反射超聲波的工序，包含利用所述超聲波反射體使所述超聲波振蕩器振蕩的超聲波的一部分直接向著所述蔭罩反射的工序。
5．如權(quán)利要求1所述的蔭罩的洗凈方法，其特征在于，所述反射超聲波的工序，包含使所述超聲波反射體與蔭罩相對(duì)移動(dòng)、同時(shí)利用所述超聲波反射體向著所述蔭罩反射超聲波使超聲波對(duì)蔭罩的照射位置變化的工序。
6．一種蔭罩的洗凈裝置，對(duì)具有形成電子束穿通孔的蔭罩主體和固定在蔭罩主體邊緣部分的蔭罩框架的蔭罩進(jìn)行洗凈，其特征在于，包括將所述蔭罩保持在超聲波傳輸媒體內(nèi)的保持單元，向著所述蔭罩發(fā)射振蕩的超聲波的超聲波振蕩器，和使所述超聲波振蕩器振蕩的超聲波的至少一部分向著所述蔭罩反射的超聲波反射體。
7．如權(quán)利要求6所述的蔭罩的洗凈裝置，其特征在于，所述超聲波反射體，具有使由所述超聲波振蕩器振蕩的超聲波的至少一部分向著所述蔭罩的邊緣部分反射的反射面。
8．如權(quán)利要求7所述的蔭罩的洗凈裝置，其特征在于，所述反射面，相對(duì)于所述超聲波振蕩器振蕩的超聲波的傳輸方向傾斜。
9．如權(quán)利要求6所述的蔭罩的洗凈裝置，其特征在于，所述超聲波反射體，配置在所述超聲波振蕩器的相對(duì)側(cè)，將所述蔭罩放在當(dāng)中，同時(shí)具有使通過所述蔭罩的電子束穿通孔的超聲波向著所述蔭罩反射的反射面。
10．如權(quán)利要求6所述的蔭罩的洗凈裝置，其特征在于，所述超聲波反射體，配置在所述蔭罩與所述超聲波振蕩器之間，同時(shí)具有使所述超聲波振蕩器振蕩的超聲波向著所述蔭罩反射的反射面。
11．如權(quán)利要求6所述的蔭罩的洗凈裝置，其特征在于，還包括驅(qū)動(dòng)單元，所述驅(qū)動(dòng)單元使所述超聲波反射體與蔭罩相對(duì)移動(dòng)，使所述超聲波反射體反射的超聲波相對(duì)于所述蔭罩的照射位置變化。
12．如權(quán)利要求6所述的蔭罩的洗凈裝置，其特征在于，還包括裝有所述超聲波傳輸媒體、同時(shí)配置所述超聲波振蕩器和超聲波反射體的處理槽，所述保持單元具有相對(duì)于所述處理槽將蔭罩裝入和取出的輸送機(jī)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明揭示一種蔭罩的洗凈方法和洗凈裝置,從超聲波振蕩器向著蔭罩發(fā)射振蕩的超聲波,利用超聲波去除附著在蔭罩上的異物,洗凈蔭罩。利用超聲波反射體,使超聲波振蕩器向著蔭罩振蕩的超聲波的一部分,向著蔭罩反射,對(duì)蔭罩進(jìn)行照射。
文檔編號(hào)B08B3/12GK1318859SQ01116680
公開日2001年10月24日 申請(qǐng)日期2001年4月18日 優(yōu)先權(quán)日2000年4月18日
發(fā)明者澤田義昭, 平山和成 申請(qǐng)人:東芝株式會(huì)社