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大面積塑身施加器的制造方法

文檔序號(hào):8546981閱讀:269來源:國(guó)知局
大面積塑身施加器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于大面積塑身的施加器以及操作所述施加器的方法。這樣的設(shè)備涉及非侵入性美容處理的儀器領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]皮膚按摩為皮膚的淺層和深層以及皮下組織層的一種操作。按摩涉及利用壓力在皮膚上作用與操作。皮膚可被手工或利用機(jī)械輔助地操作、通常為揉捏。無論按摩是手工還是利用機(jī)械輔助地進(jìn)行,它均是施加在皮膚或組織的由護(hù)理者的手部或機(jī)械輔助裝置的尺寸所限定的區(qū)段內(nèi)。皮膚的剩余區(qū)段則通過在更大的皮膚區(qū)段內(nèi)移動(dòng)手部或再定位機(jī)械輔助裝置而得以處理。目標(biāo)組織可包括肌肉、肌腱、脂肪組織以及皮膚和身體的其它區(qū)段。由于在處理過程中需要向皮膚施加壓力并且然后重新定位壓力源(即將治療師的手部或機(jī)械輔助裝置移動(dòng)至身體的不同區(qū)域),按摩關(guān)聯(lián)有護(hù)理者不得不付出的顯著量的努力和注意力。
[0003]脂肪組織經(jīng)常被耦合至皮膚的不同的能量予以非侵入性處理??砂l(fā)現(xiàn)用于皮膚處理的常規(guī)類型的能量包括超聲(us)能、射頻(RF)能、或光源或熱源發(fā)出的輻射能。皮膚處理能量通過施加器或皮膚處理單元耦合至皮膚。施加器的尺寸在一定程度上限定皮膚或組織的被皮膚處理能量所傳遞至的區(qū)段。為了處理其它皮膚區(qū)段,施加器在大皮膚區(qū)段內(nèi)被重新定位并且被啟動(dòng)以將處理能量耦合至皮膚的這一區(qū)段。
[0004]不同類型的能量被經(jīng)常用于體圍減少、脂肪組織移除、以及其它美容程序,其中皮膚處理能量的施加將帶來期待的有益處理效果。
[0005]皮膚處理系統(tǒng)往往包括構(gòu)造為按摩包括皮下組織在內(nèi)的皮膚的不同的單元或施加器。存在將諸如超聲(US)能、射頻(RF)能、或由光源或熱源發(fā)出的輻射能的不同能量耦合至皮膚的單元或施加器。一般而言,在現(xiàn)有已知的處理系統(tǒng)和裝置的操作中,皮膚處理單元或施加器的尺寸限定皮膚或組織的可施加處理的區(qū)段的尺寸。例如,皮膚處理單元的尺寸可為20 X 40mm或40 X 80mm。為了處理其它的或額外的皮膚區(qū)段,皮膚處理單元要在皮膚的大區(qū)段內(nèi)重新定位并且被啟動(dòng)以將皮膚處理能量耦合至這一附加的區(qū)段。
[0006]對(duì)皮膚處理單元的重新定位需要護(hù)理者這一方可觀的付出。這使得他或她的工作復(fù)雜化并且由于向皮膚施加處理療程提供按摩和/或提供其它能量的服務(wù)會(huì)近似花費(fèi)約30至90分鐘,因此重新定位皮膚處理單元所使用的時(shí)間降低了處理的質(zhì)量和效率。
[0007]大皮膚區(qū)段內(nèi)的皮膚處理也變得非常不均衡,這是因?yàn)樽o(hù)理者難以在大皮膚區(qū)段上保持皮膚處理單元或施加器的精確且一致的重新定位運(yùn)動(dòng)以及處理時(shí)間。
[0008]皮膚處理單元的重新定位需要一定的時(shí)間并且該時(shí)間取決于護(hù)理者的技術(shù)。更快的施加器重新定位在一定程度上可以改善皮膚處理結(jié)果的均質(zhì)性并且減少處理的低效性,但是護(hù)理者手動(dòng)重新定位施加器的速度會(huì)不足以實(shí)現(xiàn)合適的皮膚處理均質(zhì)性。除此之外,護(hù)理者效率和準(zhǔn)確性在白班或輪班期間改變并且導(dǎo)致附加的處理現(xiàn)象的出現(xiàn)。由此,一些皮膚區(qū)段因而被與其它皮膚區(qū)段不同地處理。
[0009]因此,存在提供一種適于大皮膚區(qū)段的皮膚處理設(shè)備的需求,其改善或至少部分改善皮膚處理均質(zhì)性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]本發(fā)明描述一種設(shè)備和方法,以及所述設(shè)備和方法的變形的特征和方面,從而有效利用真空壓力來按摩一定體積的皮膚并且有效利用耦合至被按摩的體積的一個(gè)或一個(gè)以上類型的皮膚處理能量來處理皮膚和皮下脂肪組織并且產(chǎn)生期待的處理效果。
[0011]根據(jù)第一方面,一種用于大面積塑身的設(shè)備被描述。該設(shè)備包括將被施加至皮膚區(qū)段的單獨(dú)受控的皮膚處理單元的陣列。每個(gè)皮膚處理單元包括限定與真空壓力源流體連通的腔室的殼體,殼體的內(nèi)側(cè)由邊緣終止從而當(dāng)皮膚處理單元被施加至皮膚時(shí)利于腔室的密封,受限定的腔室的大小足以容置通過真空壓力源吸入受限定的腔室的一定體積的皮膚區(qū)段從而形成皮膚突起,并且其中,真空壓力向皮膚處理單元的施加和釋放產(chǎn)生一定體積的皮膚的至少一部分對(duì)抗邊緣的往復(fù)按摩運(yùn)動(dòng)并且其中陣列的每個(gè)皮膚處理單元相對(duì)于相鄰皮膚處理單元具有至少兩度的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),從而使得陣列能夠遵循皮膚區(qū)段的表面結(jié)構(gòu)。
[0012]根據(jù)這一方面,真空壓力以期待的順序施加至皮膚處理單元的腔室。由真空壓力產(chǎn)生的抽吸將一定體積的皮膚吸入腔室,并且隨后,通過使腔室與大氣或空氣通氣而從腔室釋放該皮膚體積。進(jìn)一步而言,根據(jù)這一方面,并且由于陣列的每個(gè)皮膚處理單元相對(duì)于相鄰皮膚處理單元具有至少兩度的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)這一事實(shí),陣列可遵循受處理的皮膚區(qū)段通常不平坦的表面結(jié)構(gòu)。
[0013]無論如何需要被理解的是,真空被形成以將一定體積的皮膚吸入腔室的方式以及隨后腔室與環(huán)境空氣(或任何其它空氣傳遞源)通氣從而從腔室釋放一定體積的皮膚與以下事實(shí)獨(dú)立:皮膚處理單元(并且由此它的腔室)組在一起從而形成陣列,該陣列中,皮膚處理單元相對(duì)于相鄰皮膚處理單元具有至少兩度的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。
[0014]在一些實(shí)施例中,閥能夠在真空和大氣或空氣壓力源之間切換,從而利于從腔室排空空氣從而向腔室吸入一定體積的皮膚并且利于空氣進(jìn)入腔室從而使該皮膚體積被釋放。被抽吸和釋放的皮膚體積小于陣列所施加至的受處理的皮膚區(qū)段。施加真空壓力并且然后釋放或減小真空壓力的順序產(chǎn)生抵靠皮膚處理單元的外擴(kuò)邊緣的皮膚區(qū)段組織的往復(fù)按摩運(yùn)動(dòng)。在腔室中施加真空壓力和釋放或減少真空壓力連同皮膚處理能量對(duì)皮膚體積的施加的操作順序可形成不同形式的皮膚處理和皮下運(yùn)動(dòng)。
[0015]在一些實(shí)施例中,所述設(shè)備和方法是基于耦接作為皮膚處理單元的組件的一個(gè)陣列或多個(gè)陣列,每個(gè)皮膚處理單元包括中空腔室和多個(gè)不同的向皮膚施加能量的元件,所述向皮膚施加能量的元件構(gòu)造為從這樣的能量源接收皮膚處理能量并且將接收的能量施加至皮膚的受處理的區(qū)段。
[0016]在這些實(shí)施例的一些中,所述設(shè)備和方法在按摩處理過程中將皮膚處理能量與真空壓力的施加/釋放耦合。由此,所述設(shè)備和方法的實(shí)施例操作以提供皮膚區(qū)段單獨(dú)的、或與皮膚處理能量的施加結(jié)合的自動(dòng)按摩。皮膚處理能量可選自包括但不一定局限于光、RF、超聲、電泳(electrolipophoresis)、離子導(dǎo)入和微波的一組能量類型。這些能量的每個(gè)及其組合并且在一些示例中可甚至為附加的和/或替代的能量類型并且可通過向皮膚施加能量的元件傳遞至皮膚。所述向皮膚施加能量的元件可位于包括腔室內(nèi)側(cè)、腔室的外擴(kuò)邊緣、結(jié)合真空壓力設(shè)備使用的單獨(dú)單元、或其任意組合在內(nèi)的一個(gè)或一個(gè)以上位置上。
[0017]在一些實(shí)施例中,陣列的每個(gè)皮膚處理單元可相對(duì)于相鄰單元具有至少兩度的平移運(yùn)動(dòng)并且皮膚處理單元連接聯(lián)接件可允許陣列的延展和張緊。例如,聯(lián)接件可允將兩個(gè)皮膚處理單元連接至彼此的元件的運(yùn)動(dòng),和/或連接元件可由能夠被延展的材料、如具有一定水平的柔性或具有彈性類似特性的材料構(gòu)成。
[0018]在一些實(shí)施例中,陣列自身可具有固定或可變的長(zhǎng)度。在一些實(shí)施例中,陣列可包括具有可變長(zhǎng)度的安裝部,安裝部的大小和形狀可設(shè)置為將陣列耦接和固定至受處理的皮膚區(qū)段。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,皮膚處理單元可具有下述運(yùn)動(dòng)能力及其組合的任意運(yùn)動(dòng)能力:兩個(gè)方向上的旋轉(zhuǎn)、三個(gè)方向上的旋轉(zhuǎn),豎直運(yùn)動(dòng)(上下伸縮運(yùn)動(dòng))等。此外,在一些實(shí)施例中,皮膚處理單元可安裝在柔性襯底上,由此允許外擴(kuò)邊緣安置在皮膚處理區(qū)域的非均勻表面上。
[0019]在一些實(shí)施例中,皮膚處理單元可由導(dǎo)熱材料制成,并且可與按摩動(dòng)作一起操作以在大受處理的皮膚區(qū)段上減少或消除熱點(diǎn)并且使皮膚處理能量分布均質(zhì)。控制單元可控制不同類型的皮膚處理能量的傳遞,所述皮膚處理能量會(huì)根據(jù)皮膚處理協(xié)議以脈沖或連續(xù)模式傳遞??刂茊卧赏狡つw處理能量與真空壓力的施加,從而形成由交替真空導(dǎo)致的按摩皮膚運(yùn)動(dòng)??刂茊卧刹僮饕钥刂普婵找约翱諝鈮毫ο蚱つw處理單元的腔室的施加的交替順序,在一些實(shí)施例中,所述空氣壓力可被施加以釋放吸入腔室的皮膚。
[0020]向大皮膚區(qū)段提供期待皮膚處理協(xié)議的可能性可利于大皮膚區(qū)段上的均質(zhì)皮膚處理能量分布。能量可為機(jī)械的如按摩或皮膚激勵(lì)、或熱能。不同的皮膚按摩和皮膚處理能量施加形式可利于大皮膚區(qū)段的選擇性處理。它們還能夠使護(hù)理者從與皮膚處理設(shè)備在受處理的皮膚區(qū)段上移位、追蹤之前的皮膚處理設(shè)備位置并且確定它的下一位置相關(guān)的精力付出中解脫。
[0021]另一方面提供一種用于操作大致如前述那樣的設(shè)備的方法。
[0022]本發(fā)明設(shè)備的實(shí)施例的額外的目的、優(yōu)點(diǎn)和特征將基于本說明書的查閱對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員變得顯而易見,或可從本發(fā)明的實(shí)踐中學(xué)習(xí)。
[0023]術(shù)語說明
[0024]本發(fā)明中所使用的術(shù)語“皮膚”包括諸如角質(zhì)層、真皮、表皮的外皮層和諸如脂肪組織的更深的皮下層。
[0025]本發(fā)明中所使用的術(shù)語“皮膚處理能量”意味著利于實(shí)現(xiàn)期待的皮膚處理效果的能量的任意一種。這樣的能量可為機(jī)械能、熱能和它們的組合。
[0026]本發(fā)明中所使用的術(shù)語“向皮膚施加能量的元件”意味著可操作以從能量源接收皮膚處理能量并且將接收的能量耦合或施加至受處理的皮膚區(qū)段的元件。向皮膚施加RF能量的電極、超聲換能器、機(jī)械元件、光源可為這樣的元件。
【附圖說明】
[0027]本發(fā)明的具體實(shí)施例將在下文中、通過非限制性示例、參考附圖予以描述。所述附圖為:
[0028]圖1A展示了根據(jù)實(shí)施例的設(shè)備的簡(jiǎn)化塊圖;
[0029]圖1B展示了根據(jù)實(shí)施例的皮膚處理單元的陣列的側(cè)視圖;
[0030]圖2為根據(jù)實(shí)施例的皮膚處理單元的陣列簡(jiǎn)化平面圖;
[0031]圖3A-3G,一并稱之為圖3,展示了皮膚處理單元的陣列向受處理的目標(biāo)皮膚輪廓的適應(yīng)的非限制性示例;
[0032]圖3A為示出根據(jù)實(shí)施例的皮膚處理單元的延展運(yùn)動(dòng)的透視圖;
[0033]圖3B和3C為根據(jù)實(shí)施例皮膚處理單元的陣列分別施加至皮膚的內(nèi)凹區(qū)段和外凸區(qū)段的簡(jiǎn)化圖;
[0034]圖3D和3E為根據(jù)實(shí)施例皮膚處理單元的陣列施加至不平坦的皮膚區(qū)段的簡(jiǎn)化圖;
[0035]圖3F和3G為根據(jù)實(shí)施例皮膚處理單元的陣列施加至不平坦皮膚區(qū)段的簡(jiǎn)化圖;
[0036]圖4為根據(jù)實(shí)施例皮膚處理單元的簡(jiǎn)化側(cè)視圖;
[0037]圖5為根據(jù)實(shí)施例的皮膚處理單元的簡(jiǎn)化圖,示出了單元腔室;
[0038]圖6為圖4的皮膚處理單元的簡(jiǎn)化剖視圖;
[0039]圖7為根據(jù)實(shí)施例皮膚處理單元的簡(jiǎn)化圖,示出了單元腔室;
[0040]圖8為根據(jù)實(shí)施例皮膚處理單元的簡(jiǎn)化圖,示出了單元腔室;
[0041]圖9A和9B,一并稱之為圖9,為根據(jù)實(shí)施例RF電極連接和操作的簡(jiǎn)化圖;
[0042]圖10為穿戴根據(jù)實(shí)施例的陣列的客體的示意圖;
[0043]圖11為穿戴多個(gè)根據(jù)實(shí)施例的陣列的客體的示意圖;
[0044]圖12為根據(jù)實(shí)施例的陣列的按摩動(dòng)作的示意圖;以及
[0045]圖13為根據(jù)實(shí)施例陣列的按摩動(dòng)作結(jié)合皮膚處理能量的施加的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0046]現(xiàn)在參見圖1A,該圖展示了根據(jù)實(shí)施例的設(shè)備的簡(jiǎn)化平面圖。設(shè)備100包括控制單元104、單獨(dú)受控的皮膚處理單元112的陣列108、以及在陣列108和控制單元104之間連接的互連臍帶纜116,其中,所述皮膚處理單元112之間通過聯(lián)接件114連接,所述聯(lián)接件114利于一個(gè)皮膚處理單元相對(duì)于相鄰單元的相對(duì)移位和旋轉(zhuǎn)。應(yīng)當(dāng)被理解的是,控制單元104可為如所述那樣附連至陣列108的處理單元,或者可作為處理單元、硬件設(shè)備等并入陣列108本身??刂茊卧?04可并入一個(gè)或一個(gè)以上諸如真空泵120的真空源、以及選擇性地一個(gè)或一個(gè)以上諸如空氣壓力泵124的空氣壓力源、及其一個(gè)或一個(gè)以上皮膚處理能量源128、和處理器或處理單元132。皮膚處理能量源128可例如為RF功
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