線延伸的一第一平均距離小于所述絕緣元件從所述內(nèi)表面朝向所述軸線延伸 的一第二平均距離。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述殼體被成形為使得所述接觸面從所述內(nèi)表面 朝向所述軸線延伸的一第一平均距離為至少〇. 6毫米。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的裝置，其中當(dāng)所述殼體處于所述打開(kāi)位置且當(dāng) 所述殼體處于所述閉合位置時(shí)，所述電極被成形為部分環(huán)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的裝置，其中兩個(gè)所述絕緣元件設(shè)置于所述管狀 殼體的分別的縱向端部。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的裝置，其中所述環(huán)的所述整個(gè)長(zhǎng)度介于1至40 毫米之間。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述環(huán)的所述整個(gè)長(zhǎng)度介于5至20毫米之間。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的裝置，其中至少一所述電極固定于所述腔室之 一的所述內(nèi)表面內(nèi)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的裝置，其中所述環(huán)帶被成形為可被放置在具有 長(zhǎng)軸介于1至8毫米之間和短軸介于0. 5和6毫米之間的橢圓柱體的周圍，并且當(dāng)放置時(shí) 可呈現(xiàn)所述閉合位置。
12. -種裝置，包括一電極組件，其包括： 一環(huán)帶，其包括一電絕緣材料，且其被成形為用以定義出一管狀殼體，定義出沿自身的 一縱向軸線，所述殼體被成形為用以定義出兩個(gè)邊緣和所述兩個(gè)邊緣之間的縫隙，所述縫 隙和邊緣沿所述環(huán)帶的整個(gè)長(zhǎng)度延伸，其中所述殼體被配置為呈現(xiàn)（a)打開(kāi)位置，其中所 述兩個(gè)邊緣不相互接觸，和（b)閉合位置，其中（i)所述兩個(gè)邊緣的各自的接觸面彼此接 觸，且（ii)所述殼體定義出面向并圍繞所述軸線的一內(nèi)表面；以及 一個(gè)或多個(gè)電極，其中的至少之一個(gè)包括具有兩個(gè)端部和所述端部之間的中央部的金 屬箔條帶， 其中所述中央部設(shè)置成抵靠所述殼體的所述內(nèi)表面，使得當(dāng)所述殼體處于所述閉合位 置時(shí)，所述中央部形成圍繞所述軸線的一部分環(huán)，其定義出所述中央部的一暴露表面，所述 暴露表面面向所述軸線，以及 其中至少一所述端部被成形為用以定義出一彎曲部，其嵌入并完全被所述絕緣材料包 圍，從而固定所述端部至所述絕緣材料，所述彎曲部具有一平均曲率半徑，其小于所述中央 部繞著所述軸線周圍測(cè)得的長(zhǎng)度的10%。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其中所述彎曲部的所述平均曲率半徑小于所述中央 部繞著所述軸線周圍測(cè)得的長(zhǎng)度的5%。
14. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其中所述殼體被成形為使得所述縫隙和所述邊緣平 行所述軸線沿所述環(huán)帶的所述整個(gè)長(zhǎng)度延伸。
15. 根據(jù)權(quán)利要求12至14中任一項(xiàng)所述的裝置，其中所述彎曲部的所述平均曲率半徑 小于1. 5毫米。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置，其中所述彎曲部的所述平均曲率半徑小于0. 5毫米。
17. 根據(jù)權(quán)利要求12至14中任一項(xiàng)所述的裝置，其中所述金屬箔條帶被成形為使得所 述彎曲部的曲率方向相反于所述中央部的大體曲率方向。
18. 根據(jù)權(quán)利要求12至14中任一項(xiàng)所述的裝置，其中所述彎曲部被成形為用以定義出 對(duì)著至少90度的角度的圓弧。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置，其中所述角度為至少180度。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置，其中所述角度為至少270度。
21. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的裝置，其中所述角度為至少360度。
22. 根據(jù)權(quán)利要求12至14中任一項(xiàng)所述的裝置，其中所述彎曲部若被拉直，將有在垂 直所述軸線的方向上測(cè)得的至少為1. 5毫米的長(zhǎng)度。
23. 根據(jù)權(quán)利要求12至14中任一項(xiàng)所述的裝置，其中所述彎曲部若被拉直，將有所述 金屬箔條帶被拉直且在垂直所述軸線的方向上測(cè)得的整個(gè)長(zhǎng)度的至少5%的長(zhǎng)度。
24. 根據(jù)權(quán)利要求12至14中任一項(xiàng)所述的裝置，其中所述至少一所述端部為所述兩個(gè) 端部的第一個(gè)，且其中所述彎曲部為一第一彎曲部，且 其中所述兩個(gè)端部的第二個(gè)被成形為用以定義出一第二彎曲部，其嵌入并完全被所述 絕緣材料包圍，從而固定所述第二端部于所述絕緣材料，所述第二彎曲部具有一平均曲率 半徑，其小于所述中央部繞著所述軸線周圍測(cè)得的所述長(zhǎng)度的10%。
25. -種方法，包括： 提供一電極組件其包括（1) 一個(gè)或多個(gè)電極，以及（2)環(huán)帶，其包括一電絕緣材料，且 其被成形為用以定義出（A) -管狀殼體，定義出沿自身的一縱向軸線，所述殼體被成形為 用以定義出兩個(gè)邊緣和所述兩個(gè)邊緣之間的縫隙，所述縫隙和邊緣沿所述環(huán)帶的整個(gè)長(zhǎng)度 延伸，其中所述殼體被配置為呈現(xiàn)（a)打開(kāi)位置，其中所述兩個(gè)邊緣不相互接觸，和（b)閉 合位置，其中（i)所述兩個(gè)邊緣的各自的接觸面彼此接觸，且（ii)所述殼體定義出面向并 圍繞所述軸線的一內(nèi)表面，且所述電極固定于所述內(nèi)表面，以及（B)三個(gè)或更多環(huán)形絕緣 元件，其沿所述殼體在分別的縱向位置從所述殼體的所述內(nèi)表面朝向所述軸線延伸，使得 當(dāng)所述殼體處于所述閉合位置時(shí)，則所述殼體的所述內(nèi)表面及成對(duì)的所述絕緣元件被成形 為用以定義出，沿所述殼體在分別的縱向位置上，朝向所述軸線開(kāi)放的個(gè)別的腔室，其中所 述殼體被成形為使得所述兩個(gè)邊緣的所述接觸面朝向所述軸線延伸并伸入所述腔室中； 當(dāng)所述殼體處于所述打開(kāi)位置時(shí)，將所述環(huán)帶圍繞受試者的管狀體組織；以及 通過(guò)造成所述殼體呈現(xiàn)所述閉合位置，耦合所述環(huán)帶到所述管狀體組織。
26. -種方法，包括： 提供一電極組件其包括（1)環(huán)帶，其包括一電絕緣材料，且其被成形為用以定義出一 管狀殼體，定義出沿自身的一縱向軸線，所述殼體被成形為用以定義出兩個(gè)邊緣和所述兩 個(gè)邊緣之間的縫隙，所述縫隙和邊緣沿所述環(huán)帶的整個(gè)長(zhǎng)度延伸，其中所述殼體被配置為 呈現(xiàn)（a)打開(kāi)位置，其中所述兩個(gè)邊緣不相互接觸，和（b)閉合位置，其中（i)所述兩個(gè)邊 緣的各自的接觸面彼此接觸，且（ii)所述殼體定義出面向并圍繞所述軸線的一內(nèi)表面，以 及（2) -個(gè)或多個(gè)電極，其中的至少之一個(gè)包括具有兩個(gè)端部和所述端部之間的中央部的 金屬箔條帶，其中所述中央部設(shè)置成抵靠所述殼體的所述內(nèi)表面，使得當(dāng)所述殼體處于所 述閉合位置時(shí)，所述中央部形成圍繞所述軸線的一部分環(huán)，其定義出所述中央部的一暴露 表面，所述暴露表面面向所述軸線，以及其中至少一所述端部被成形為用以定義出一彎曲 部，其嵌入并完全被所述絕緣材料包圍，從而固定所述端部至所述絕緣材料，所述彎曲部具 有一平均曲率半徑，其小于所述中央部繞著所述軸線周圍測(cè)得的所述長(zhǎng)度的10% ; 當(dāng)所述殼體處于所述打開(kāi)位置時(shí)，將所述環(huán)帶圍繞受試者的管狀體組織；以及 通過(guò)造成所述殼體呈現(xiàn)所述閉合位置，耦合所述環(huán)帶到所述管狀體組織。
【專利摘要】一種電極組件(20)包括電極(22)及環(huán)帶(24)，被成形為用以定義出一管狀殼體(28)，其定義出沿自身的一縱向軸線(40)、兩個(gè)邊緣(30A,30B)、和所述兩個(gè)邊緣(30A,30B)之間的縫隙(42)。當(dāng)所述殼體(28)關(guān)閉時(shí)，所述兩個(gè)邊緣(30A,30B)的各自的接觸面(32A,32B)彼此接觸，且所述殼體(28)定義出面向并圍繞所述軸線(40)的一內(nèi)表面(34)，且所述電極(22)固定于所述內(nèi)表面(34)。所述環(huán)帶(24)更定義出三個(gè)或更多環(huán)形絕緣元件(50)，其沿所述殼體(28)在分別的縱向位置從所述殼體(28)的所述內(nèi)表面(34)朝向所述軸線(40)延伸，使得所述殼體(28)的所述內(nèi)表面(34)及成對(duì)的所述絕緣元件(50)定義出，沿所述殼體(28)在分別的縱向位置上，朝向所述軸線(40)開(kāi)放的個(gè)別的腔室。所述殼體(28)被成形為使得所述兩個(gè)邊緣(30A,30B)的所述接觸面(32A,32B)朝向所述軸線(40)延伸并伸入所述腔室(52)中。
【IPC分類】A61N1-05
【公開(kāi)號(hào)】CN104582787
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201380028300
【發(fā)明人】塔米爾·本-大衛(wèi), 諾姆·賈維什, 薩奇·恰奇克斯
【申請(qǐng)人】生物控制醫(yī)療(Bcm)有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2013年3月21日
【公告號(hào)】EP2833961A1, WO2013150524A1