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遺體解凍消毒裝置的制作方法

文檔序號:11642428閱讀:441來源:國知局
遺體解凍消毒裝置的制造方法

本實用新型涉及遺體處理裝置領(lǐng)域,特別涉及一種遺體解凍消毒裝置。



背景技術(shù):

目前,在殯葬場所或醫(yī)院對于暫時不能進行火化處理的遺體需要進行冷凍保存,由于不同的死亡原因?qū)е逻z體可能造成微生物病菌等傳播性污染,如果在殯儀、遺體處理過程中污染物散播將對環(huán)境和工作人員的健康造成極大的威脅。

同時,在需要對遺體進行醫(yī)學鑒定或者分解火化處理時,先要對其解凍,目前,尚無專業(yè)的解凍設備,操作比較困難,一般都是采用室溫自然解凍、溫水浸泡解凍等方法,而清洗方法一般采用自來水清洗、消毒藥水清洗等方法,消毒方法一般采用紫外線照射消毒、消毒劑噴灑消毒等方法。

目前雖然有中國專利授權(quán)公告號CN204335639U(授權(quán)公告日2015.05.20)公開了一種全自動微波遺體消毒解凍機,但是該全自動微波遺體消毒解凍機利用微波管、超聲波發(fā)生器、紫外線燈、紅外線燈、臭氧發(fā)生裝置等進行解凍和消毒,不僅存在解凍速度慢、解凍造成損傷、解凍效果不均勻的問題,而且容易在解凍過程中容易造成遺體的水分丟失,降低了遺體的養(yǎng)護效果,影響下一步遺體美容。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本實用新型的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的上述不足和缺陷,提供一種能夠克服上述問題的遺體解凍消毒裝置。

本實用新型所解決的技術(shù)問題可以采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn):

遺體解凍消毒裝置,包括:

工作平臺;

設置在所述工作平臺上的解凍箱體;

設置在所述解凍箱體內(nèi)用以存放遺體的存放架;

其特征在于,還包括:

設置在所述解凍箱體內(nèi)的超高頻輻射加熱裝置;

設置在所述解凍箱體內(nèi)的溫度探測裝置;

設置在所述解凍箱體內(nèi)的超聲霧化消毒裝置;

設置在所述解凍箱體內(nèi)的空氣凈化裝置;

設置在所述解凍箱體內(nèi)的清洗噴淋裝置;

設置在所述解凍箱體內(nèi)的廢水過濾回收裝置;

控制所述工作平臺、超高頻輻射加熱裝置、溫度探測裝置、超聲霧化消毒裝置、清洗噴淋裝置工作的控制裝置。

在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中,所述超聲霧化消毒裝置包括超聲濕霧消毒裝置和干霧熏蒸消毒裝置,使用時,所述超聲濕霧消毒裝置和干霧熏蒸消毒裝置交替工作。

在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中,所述超高頻輻射加熱裝置包括若干設置在所述解凍箱體內(nèi)的超高頻輻射管。

在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中,所述溫度探測裝置包括若干設置在所述解凍箱體內(nèi)不同位置的紅外線傳感器。

在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中,所述工作平臺為可升降且旋轉(zhuǎn)的活動平臺。

在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中,所述控制裝置為PLC控制裝置。

在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中,所述解凍箱體由金屬制成或者所述解凍箱體內(nèi)壁設置有屏蔽層。

由于采用了如上的技術(shù)方案,本實用新型利用超高頻輻射加熱裝置進行解凍,且超高頻輻射加熱裝置與溫度探測裝置相互配合,溫度探測裝置可以感知遺體(或腔體內(nèi)側(cè))的溫度。超高頻輻射加熱裝置到一定時間,溫度探測裝置感知到溫度產(chǎn)生偏差時,加熱暫停,進入自身熱傳遞的過程;當溫度探測裝置檢測到遺體溫度(或時控設定)產(chǎn)生一定溫度偏差時,使得超高頻輻射加熱裝置繼續(xù)加熱。這樣周而復始,使其遺體均勻受熱,提高解凍的工作效率,達到完全解凍目的,這個解凍過程耗時30—50分鐘,提高了解凍速度。再者,超高頻輻射加熱裝置利用超高頻分子摩擦加熱技術(shù)進行加熱,利用極性分子振動產(chǎn)生與周圍分子的彈性碰撞、摩擦升溫,其升溫方式是從遺體內(nèi)部產(chǎn)生的,加熱均勻好,不會出現(xiàn)外熱內(nèi)冷的現(xiàn)象,也不會對遺體造成損傷。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本實用新型一種實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本實用新型一種實施例的原理示意圖。

具體實施方式

為了使本實用新型實現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達成目的與功效易于明白了解,下面進一步闡述本實用新型。

參見圖1和圖2所示的遺體解凍消毒裝置,包括工作平臺100和設置在工作平臺100上的解凍箱體200,解凍箱體200由金屬制成,也可以在解凍箱體200內(nèi)壁設置有屏蔽層。在解凍箱體200內(nèi)設置有用以存放遺體1的存放架300。工作平臺100為可升降和旋轉(zhuǎn)的活動平臺,通過液壓缸和連桿機構(gòu)設置,方便工作人員的操作,降低工作強度。

在解凍箱體200內(nèi)設置有超高頻輻射加熱裝置400,本實施例中的超高頻輻射加熱裝置400為分布在解凍箱體200內(nèi)壁上部的2-4對超高頻輻射管,根據(jù)遺體質(zhì)量(按50kg—120kg范圍)選定超高頻輻射管的功率。

在解凍箱體200內(nèi)設置有溫度探測裝置500,本實施例中的溫度探測裝置400包括若干設置在解凍箱體200內(nèi)不同位置的紅外線傳感器。

在解凍箱體200內(nèi)設置有超聲霧化消毒裝置600,超聲霧化消毒裝置600與現(xiàn)有技術(shù)的紫外線燈、紅外線燈等消毒裝置相比,具有消毒全面的優(yōu)點,而且在解凍過程中不會造成遺體的水分丟失,完全滿足GB19053-2003要求。本實施例中的超聲霧化消毒裝置600包括超聲濕霧消毒裝置610和干霧熏蒸消毒裝置620,使用時,超聲濕霧消毒裝置610和干霧熏蒸消毒裝置620交替工作,超聲濕霧消毒裝置610的工作時間比干霧熏蒸消毒裝置620的工作時間長,本實施例中的超聲濕霧消毒裝置610工作時間占超聲霧化消毒裝置600工作時間的75%。超聲濕霧消毒裝置610可用高效低毒二溴海因消毒劑,干霧熏蒸消毒裝置620采用過氧化氫消毒劑。在已知病菌的情況下要使用針對病原體的消毒劑,按需更換藥劑,如二氧化氯、過氧乙酸等。

在解凍箱體200內(nèi)設置有空氣凈化裝置700,空氣凈化裝置700使遺體處理工作人員在操作工作時不會呼吸吸進異味空氣,空氣凈化裝置700采用高密過濾網(wǎng)和活性炭吸附裝置完成,經(jīng)凈化后排出的氣體達到空氣排放標準,保證周圍環(huán)境的安全。遺體消毒解凍過程中同時開啟空氣凈化裝置700,凈化在整個過程中的廢氣,使排放出的氣體達到排放標準。而污染的一次性超濾膜則可集中做焚燒處理。

在解凍箱體200內(nèi)設置有清洗噴淋裝置800和廢水過濾回收裝置900,廢水過濾回收裝置900可對清洗噴淋裝置800工作時產(chǎn)生的大量廢水進行凈化處理和回收排放。

工作平臺100、超高頻輻射加熱裝置400、溫度探測裝置500、超聲霧化消毒裝置600、清洗噴淋裝置800與PLC控制裝置1000連接,由PLC控制裝置1000控制其工作。

本實用新型的工作原理如下:

解凍前遺體里外溫度為-18~-15℃,利用超高頻輻射加熱裝置400進行解凍,超高頻輻射加熱裝置400與溫度探測裝置500相互配合,溫度探測裝置500可以感知遺體(或腔體內(nèi)側(cè))的溫度。超高頻輻射加熱裝置400到一定時間,溫度探測裝置500感知到溫度產(chǎn)生偏差時,加熱暫停,進入自身熱傳遞的過程;當溫度探測裝置5500檢測到遺體溫度(或時控設定)產(chǎn)生一定溫度偏差時,使得超高頻輻射加熱裝置400繼續(xù)加熱。這樣周而復始,使其遺體均勻受熱,提高解凍的工作效率,達到完全解凍目的,這個解凍過程耗時30—50分鐘,提高了解凍速度,解凍后的遺體里外溫度為養(yǎng)護溫度0~5℃。再者,超高頻輻射加熱裝置400利用超高頻分子摩擦加熱技術(shù)進行加熱,利用極性分子振動產(chǎn)生與周圍分子的彈性碰撞、摩擦升溫,其升溫方式是從遺體內(nèi)部產(chǎn)生的,加熱均勻好,不會出現(xiàn)外熱內(nèi)冷的現(xiàn)象,也不會對遺體造成損傷。

解凍后的遺體利用超聲霧化消毒裝置600進行消毒,超聲濕霧消毒裝置610和干霧熏蒸消毒裝置620交替工作,其霧化氣溶膠顆??蛇_納米和微米級之間,全方位覆蓋消毒空間和遺體表面,使整個設備內(nèi)腔被彌漫,霧化完成后,選定不同的消毒藥劑和藥劑濃度比例來設定消毒作用時間完成消毒滅菌的目的。超聲霧化消毒裝置600確保遺體外表殺菌達到《殯儀場所致病菌安全限值》的要求,同時霧化補充了遺體解凍時的水分丟失,從而到達了遺體養(yǎng)護功能,為下一步遺體美容提供了必備條件。實驗數(shù)據(jù)見下表1:

實驗室做的實驗報告和殯儀館病菌安全限值對比表(撞擊法采樣)

表1

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應該了解,本實用新型不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理,在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下,本實用新型還會有各種變化和改進,這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內(nèi)。本實用新型要求保護范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。

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