本發(fā)明大體涉及領(lǐng)域信號(hào)處理技術(shù)，尤其涉及一種用于計(jì)算機(jī)斷層掃描中的散射校正的信號(hào)處理方法及成像系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

非侵入式成像技術(shù)，例如計(jì)算機(jī)斷層掃描(computedtomography，ct)，允許物體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的圖像在無(wú)需對(duì)物體執(zhí)行侵入式過(guò)程的情況下即可得到。在ct成像系統(tǒng)中，x射線測(cè)量值中的散射信號(hào)可能會(huì)導(dǎo)致陰影偽影，降低圖像解析度以及其他劣化圖像質(zhì)量的偽影。同時(shí)，來(lái)自物體的散射信號(hào)是來(lái)自ct成像系統(tǒng)的重構(gòu)圖像中的定量測(cè)量值的偏移的主要來(lái)源之一。

因此，有必要降低或消除來(lái)自待測(cè)量物體的散射的影響。所以，一種改進(jìn)的散射校正方法將能夠改善ct圖像質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一個(gè)方面在于提供一種信號(hào)處理方法。所述方法包括：探測(cè)穿過(guò)包括多種材料的物體的x射線的總強(qiáng)度；獲得所述多種材料的基礎(chǔ)材料信息以及所述物體的光電吸收基礎(chǔ)成分和康普頓散射基礎(chǔ)成分的基礎(chǔ)成分信息中的至少一組基礎(chǔ)信息；根據(jù)所述至少一組基礎(chǔ)信息和所述探測(cè)到的總強(qiáng)度來(lái)估算所述探測(cè)到的x射線的散射強(qiáng)度分量；及根據(jù)所述探測(cè)到的總強(qiáng)度和所述估算出的散射強(qiáng)度分量來(lái)獲得入射到探測(cè)器上的初級(jí)x射線的強(qiáng)度估算值。

本發(fā)明的另一個(gè)方面在于提供一種成像系統(tǒng)。所述成像系統(tǒng)包括探測(cè)器 和計(jì)算機(jī)。所述探測(cè)器用于探測(cè)穿過(guò)包括多種材料的物體的x射線的總強(qiáng)度。所述計(jì)算機(jī)用于其用于獲得所述多種材料的基礎(chǔ)材料信息以及所述物體的光電吸收基礎(chǔ)成分和康普頓散射基礎(chǔ)成分的基礎(chǔ)成分信息中的至少一組基礎(chǔ)信息，根據(jù)所述至少一組基礎(chǔ)信息和所述探測(cè)到的總強(qiáng)度來(lái)估算所述探測(cè)到的x射線的散射強(qiáng)度分量，并且，根據(jù)所述探測(cè)到的總強(qiáng)度和所述估算出的散射強(qiáng)度分量來(lái)獲得入射到所述探測(cè)器上的初級(jí)x射線的強(qiáng)度估算值。

附圖說(shuō)明

當(dāng)參照附圖閱讀以下詳細(xì)描述時(shí)，本發(fā)明的這些和其它特征、方面及優(yōu)點(diǎn)將變得更好理解，在附圖中，相同的元件標(biāo)號(hào)在全部附圖中用于表示相同的部件，其中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式的示意性ct成像系統(tǒng)的示意框圖；

圖2是在圖1的計(jì)算機(jī)中執(zhí)行的模塊的一個(gè)具體實(shí)施方式的示意框圖；

圖3是在圖1的計(jì)算機(jī)中執(zhí)行的模塊的另一個(gè)具體實(shí)施方式的示意框圖；

圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式的示意性信號(hào)處理方法的流程圖；

圖5示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式的如何獲得至少一組基礎(chǔ)信息的步驟；以及

圖6示出根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)具體實(shí)施方式的如何獲得至少一組基礎(chǔ)信息的步驟。

具體實(shí)施方式

為幫助本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠確切地理解本發(fā)明所要求保護(hù)的主題，下面結(jié)合附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的具體實(shí)施方式。在以下對(duì)這些具體實(shí)施方式的詳細(xì)描述中，本說(shuō)明書(shū)對(duì)一些公知的功能或構(gòu)造不做詳細(xì)描述以避免不必要的細(xì)節(jié)而影響到本發(fā)明的披露。

除非另作定義，本權(quán)利要求書(shū)和說(shuō)明書(shū)中所使用的技術(shù)術(shù)語(yǔ)或者科學(xué)術(shù) 語(yǔ)應(yīng)當(dāng)為本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本說(shuō)明書(shū)以及權(quán)利要求書(shū)中所使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語(yǔ)并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來(lái)區(qū)分不同的組成部分。“一個(gè)”或者“一”等類似詞語(yǔ)并不表示數(shù)量限制，而是表示存在至少一個(gè)?！鞍ā被蛘摺熬哂小钡阮愃频脑~語(yǔ)意指出現(xiàn)在“包括”或者“具有”前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在“包括”或者“具有”后面列舉的元件或者物件及其等同元件，并不排除其他元件或者物件。“連接”或者“相連”等類似的詞語(yǔ)并非限定于物理的或者機(jī)械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。

圖1示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式的示意性成像系統(tǒng)的示意框圖。如圖1所示，示意性成像系統(tǒng)100，例如ct成像系統(tǒng)，可以包括機(jī)架1。機(jī)架1具有輻射源12，輻射源12將x射線的x射線束14投向位于機(jī)架1相對(duì)側(cè)的探測(cè)器陣列2。

探測(cè)器陣列2可以由多個(gè)探測(cè)器20形成，多個(gè)探測(cè)器20一起感測(cè)穿過(guò)包括多種材料的物體200，例如患者的投影束14。每一個(gè)探測(cè)器20可以產(chǎn)生代表穿過(guò)物體200的x射線的每一個(gè)投影束14的總強(qiáng)度的電信號(hào)。探測(cè)器陣列2可以探測(cè)穿過(guò)物體200的單能x射線的總強(qiáng)度，并且，也可以探測(cè)多能x射線，例如雙能x射線中的每種能量x射線的總強(qiáng)度，其也可以稱之為多能x射線的強(qiáng)度系列。

在用于獲得與探測(cè)到的x射線有關(guān)的投影數(shù)據(jù)的掃描過(guò)程中，機(jī)架1及其安裝在其上的元件可以繞旋轉(zhuǎn)中心10旋轉(zhuǎn)。

機(jī)架1的旋轉(zhuǎn)和輻射源12的操作可以由ct成像系統(tǒng)100的控制機(jī)構(gòu)3來(lái)管理。控制機(jī)構(gòu)3可以包括輻射控制器31和機(jī)架馬達(dá)控制器32，輻射控制器31將電源和定時(shí)信號(hào)提供給輻射源12，機(jī)架馬達(dá)控制器32對(duì)機(jī)架1的轉(zhuǎn)速和位置進(jìn)行控制。在控制機(jī)構(gòu)3中的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)(dataacquisitionsystem，das)33可以對(duì)來(lái)自多個(gè)探測(cè)器20的模擬信號(hào)進(jìn)行采樣，并且，將 模擬信號(hào)轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào)用于后續(xù)的處理。

計(jì)算機(jī)4也可以通過(guò)操作員控制臺(tái)6接收來(lái)自操作員的命令和掃描參數(shù)。操作員提供的命令和參數(shù)由計(jì)算機(jī)4使用，從而將控制信號(hào)和信息提供給das33，輻射控制器31以及機(jī)架馬達(dá)控制器32。此外，計(jì)算機(jī)4可以對(duì)載臺(tái)馬達(dá)控制器52進(jìn)行操作，載臺(tái)馬達(dá)控制器52對(duì)電動(dòng)載臺(tái)51進(jìn)行控制，從而將物體200定位在機(jī)架1中。電動(dòng)載臺(tái)51可以通過(guò)機(jī)架1的開(kāi)口(未標(biāo)號(hào))來(lái)移動(dòng)物體200的一部分。

計(jì)算機(jī)4可以接收來(lái)自das33的采樣的且數(shù)字化的輻射數(shù)據(jù)，并且執(zhí)行相應(yīng)的處理來(lái)重構(gòu)x射線圖像體積。相關(guān)的顯示器7可以讓操作員觀察到來(lái)自計(jì)算機(jī)4的重構(gòu)的圖像img和其他數(shù)據(jù)。計(jì)算機(jī)4可以將重構(gòu)的圖像img保存在存儲(chǔ)裝置8中。

本發(fā)明的具體實(shí)施方式的計(jì)算機(jī)4可以根據(jù)探測(cè)到的x射線的總強(qiáng)度it來(lái)獲得多種材料的基礎(chǔ)材料信息。獲得多種材料的基礎(chǔ)材料信息可以包括獲得對(duì)于x射線的每一個(gè)投影束14的每種材料的路徑長(zhǎng)度、線性衰減系數(shù)的積分和密度分布的積分中的至少一個(gè)的投影數(shù)據(jù)。

替代地，本發(fā)明的具體實(shí)施方式的計(jì)算機(jī)4可以根據(jù)探測(cè)到的x射線的總強(qiáng)度it來(lái)獲得物體200的光電吸收基礎(chǔ)成分和康普頓散射基礎(chǔ)成分的基礎(chǔ)成分信息。物體200的光電吸收基礎(chǔ)成分和康普頓散射基礎(chǔ)成分的基礎(chǔ)成分信息可以從材料分解中獲得。

本發(fā)明所述的探測(cè)到的x射線的總強(qiáng)度it應(yīng)該意在包括探測(cè)到的單能x射線的總強(qiáng)度或者探測(cè)到的多能x射線中的每種能量x射線的總強(qiáng)度(即多能x射線的強(qiáng)度系列)。

以下，將結(jié)合圖5-6詳細(xì)描述計(jì)算機(jī)4是如何根據(jù)探測(cè)到的x射線的總強(qiáng)度it來(lái)獲得基礎(chǔ)材料信息和基礎(chǔ)成分信息中的至少一組基礎(chǔ)信息的。

圖5示出獲得至少一組基礎(chǔ)信息的一個(gè)具體實(shí)施方式。在圖5的步驟b51中，可以由探測(cè)器20探測(cè)穿過(guò)包括多種材料的物體200的多能x射線中的 每種能量x射線的總強(qiáng)度。作為一個(gè)示例，探測(cè)到的多能x射線的多個(gè)總強(qiáng)度(也稱為強(qiáng)度系列)可以包括雙能x射線測(cè)量值，雙能x射線測(cè)量值包括低能x射線測(cè)量值和高能x射線測(cè)量值。具體地，探測(cè)器20可以探測(cè)穿過(guò)包括多種材料的物體200的低能x射線的總強(qiáng)度，以及探測(cè)穿過(guò)包括多種材料的物體200的高能x射線的總強(qiáng)度。

在可選的步驟b52中，可以對(duì)探測(cè)到的多能x射線的各自總強(qiáng)度執(zhí)行必要的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換和校正。例如，可以對(duì)低能x射線的總強(qiáng)度執(zhí)行數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換和校正，并且，可以對(duì)高能x射線的總強(qiáng)度執(zhí)行數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換和校正。

在步驟b53中，可以根據(jù)探測(cè)到的多能x射線的各自總強(qiáng)度執(zhí)行材料分解。例如，可以根據(jù)探測(cè)到的低能x射線的總強(qiáng)度和探測(cè)到的高能x射線的總強(qiáng)度來(lái)執(zhí)行材料分解。在包括步驟b52的具體實(shí)施方式中，可以根據(jù)校正后的低能x射線的總強(qiáng)度和校正后的高能x射線的總強(qiáng)度來(lái)執(zhí)行材料分解。

在步驟b54中，在步驟b53的材料分解之后，可以獲得多種材料的基礎(chǔ)材料信息或者物體200的基礎(chǔ)成分信息。

圖6示出獲得多種材料的基礎(chǔ)材料信息的另一個(gè)具體實(shí)施方式。在圖6的步驟b61中，可以根據(jù)探測(cè)到的總強(qiáng)度it來(lái)執(zhí)行臨時(shí)圖像重構(gòu)。

在步驟b62中，可以根據(jù)臨時(shí)圖像重構(gòu)來(lái)對(duì)多種材料進(jìn)行分割。

在步驟b63中，可以將分割后的多種材料的圖像再投影，從而來(lái)獲得多種材料的投影數(shù)據(jù)、路徑長(zhǎng)度或者路徑長(zhǎng)度序列。多種材料的投影數(shù)據(jù)、路徑長(zhǎng)度或者路徑長(zhǎng)度序列可以代表多種材料的基礎(chǔ)材料信息。

多種材料的基礎(chǔ)材料信息可以包括對(duì)于x射線的每一個(gè)投影束14的多種材料中的每種材料的投影數(shù)據(jù)、路徑長(zhǎng)度或者路徑長(zhǎng)度序列。在又一個(gè)具體實(shí)施方式中，對(duì)于x射線的每一個(gè)投影束14的每種材料的投影數(shù)據(jù)、路徑長(zhǎng)度或者路徑長(zhǎng)度序列也可以從探測(cè)到的總強(qiáng)度it的投影數(shù)據(jù)的直接分割中來(lái)獲得。

計(jì)算機(jī)4在獲得多種材料的基礎(chǔ)材料信息或者光電吸收基礎(chǔ)成分和康普 頓散射基礎(chǔ)成分的基礎(chǔ)成分信息之后，可以使用基礎(chǔ)材料信息或者基礎(chǔ)成分信息執(zhí)行散射校正。通過(guò)使用基礎(chǔ)成分信息來(lái)執(zhí)行的散射校正與通過(guò)使用基礎(chǔ)材料信息來(lái)執(zhí)行的散射校正類似。

以下，將結(jié)合圖2-3詳細(xì)描述計(jì)算機(jī)4是如何使用多種材料的基礎(chǔ)材料信息或者物體200的基礎(chǔ)成分信息來(lái)執(zhí)行散射校正。

圖2示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式的在計(jì)算機(jī)4中執(zhí)行的模塊的示意框圖。如圖2所示，計(jì)算機(jī)4可以包括散射模型41和散射強(qiáng)度估算模塊44。在一個(gè)具體實(shí)施方式中，散射模型41可以與多種材料的基礎(chǔ)材料信息相關(guān)聯(lián)。在本具體實(shí)施方式中，多種材料可以具有低有效原子序數(shù)材料和高有效原子序數(shù)材料的特征。低有效原子序數(shù)材料可以包括例如軟組織。高有效原子序數(shù)材料可以包括例如骨頭、金屬和諸如碘的造影劑中的至少一種。替代地，在使用基礎(chǔ)成分信息的具體實(shí)施方式中，散射模型41與物體200的光電吸收基礎(chǔ)成分和康普頓散射基礎(chǔ)成分的基礎(chǔ)成分信息相關(guān)聯(lián)。

散射強(qiáng)度估算模塊44可以使用散射模型41并且根據(jù)獲得的多種材料的基礎(chǔ)材料信息和探測(cè)到的x射線的總強(qiáng)度it來(lái)估算散射強(qiáng)度分量isc。多種材料的基礎(chǔ)材料信息可以包括沿x射線的每一個(gè)投影束14的用來(lái)表征多種材料的基礎(chǔ)材料信息的投影數(shù)據(jù)。替代地，在使用基礎(chǔ)成分信息的具體實(shí)施方式中，散射強(qiáng)度估算模塊44可以使用散射模型41并且根據(jù)獲得的物體200的光電吸收基礎(chǔ)成分和康普頓散射基礎(chǔ)成分的基礎(chǔ)成分信息和探測(cè)到的x射線的總強(qiáng)度it來(lái)估算散射強(qiáng)度分量isc。

散射模型41可以根據(jù)探測(cè)到的總強(qiáng)度it和獲得的沿每一個(gè)投影束14的每種材料的基礎(chǔ)材料信息的投影數(shù)據(jù)來(lái)建立。

例如，在一個(gè)具體實(shí)施方式中，散射模型41可以包括如下公式：

其中，isc代表估算出的散射強(qiáng)度分量，it代表在物體200的掃描下探測(cè) 到的x射線的總強(qiáng)度，i0代表在沒(méi)有物體200的空氣掃描下探測(cè)到的x射線的總強(qiáng)度，pl代表低有效原子序數(shù)材料的投影數(shù)據(jù)，ph代表高有效原子序數(shù)材料的投影數(shù)據(jù)，f1和f2代表pl和ph的函數(shù)，k代表常數(shù)比例因數(shù)，并且，pl和ph可以表征低有效原子序數(shù)材料和高有效原子序數(shù)材料的基礎(chǔ)材料信息。

因此，散射強(qiáng)度估算模塊44可以使用探測(cè)到的總強(qiáng)度it，沒(méi)有物體200情況下探測(cè)到的總強(qiáng)度i0，以及低有效原子序數(shù)材料和高有效原子序數(shù)材料的投影數(shù)據(jù)pl和ph從散射模型41中來(lái)估算散射強(qiáng)度分量isc。

在另一個(gè)具體實(shí)施方式中，散射模型41可以包括如下的公式：

其中，k、a1、a2、b1和b2是分別用于低有效原子序數(shù)材料和高有效原子序數(shù)材料的調(diào)試參數(shù)。

在又一個(gè)具體實(shí)施方式中，散射模型可以包括如下的公式：

其中，kl、al、bl、kh、ah和bh是分別用于低有效原子序數(shù)材料和高有效原子序數(shù)材料的調(diào)試參數(shù)。

以上的公式(1)-(3)僅是散射模型41的示意性示例。然而，本發(fā)明的散射模型41并不應(yīng)局限于此。但凡加入了材料信息的散射模型41將均涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

計(jì)算機(jī)4可以包括校正模塊45。校正模塊45可以接收估算出的散射強(qiáng)度分量isc和探測(cè)到的總強(qiáng)度it，并且根據(jù)估算出的散射強(qiáng)度分量isc和探測(cè)到的總強(qiáng)度it來(lái)獲得入射到探測(cè)器20上的初級(jí)x射線的強(qiáng)度估算值ic。作為一個(gè)示例，可以從探測(cè)到的總強(qiáng)度it中減去估算出的散射強(qiáng)度分量isc，從而來(lái)獲得初級(jí)x射線的強(qiáng)度估算值ic。

計(jì)算機(jī)4可以包括圖像重構(gòu)單元47。圖像重構(gòu)單元47可以接收由校正模塊45輸出的初級(jí)x射線的強(qiáng)度估算值ic，并且，可以使用獲得的初級(jí)x射 線的強(qiáng)度估算值ic來(lái)重構(gòu)x射線圖像img。

可以再次執(zhí)行更為精確的材料分解過(guò)程，從而提供每種材料的基礎(chǔ)材料信息的投影數(shù)據(jù)用于圖像重構(gòu)。

圖3示出根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)具體實(shí)施方式的在計(jì)算機(jī)4中執(zhí)行的模塊的示意框圖。如圖3所示，計(jì)算機(jī)4可以包括權(quán)重模型42、單材料散射模型43以及散射強(qiáng)度估算模塊44。

散射強(qiáng)度估算模塊44可以使用權(quán)重模型42去對(duì)多種材料的基礎(chǔ)材料信息(例如獲得的每種材料的投影數(shù)據(jù))進(jìn)行權(quán)重，根據(jù)每種材料的各自單材料散射模型43來(lái)確定每種材料的散射強(qiáng)度分量isc,i，用權(quán)重后的每種材料的投影數(shù)據(jù)來(lái)對(duì)由單材料散射模型43確定出的每種材料的散射強(qiáng)度分量isc,i進(jìn)行權(quán)重，并且，根據(jù)權(quán)重后的每種材料的散射強(qiáng)度分量來(lái)估算探測(cè)到的x射線的散射強(qiáng)度分量isc。

在一個(gè)具體實(shí)施方式中，權(quán)重模型42可以包括如下公式：

p′i＝pi×σe(se×f(εsc，i，e，εi，e))(5)

其中，wi代表由公式(4)確定出的每種材料的權(quán)重因數(shù)、i代表材料的索引，pi′代表由公式(5)確定出的權(quán)重后的每種材料的投影數(shù)據(jù)、pi代表在材料分解過(guò)程中獲得的每種材料的投影數(shù)據(jù)、se代表在x射線的能量e下能譜的x射線強(qiáng)度、εsc,i,e代表在能量e下每種材料的康普頓散射和瑞利散射的截面總和、εi,e代表在能量e下每種材料的x射線相互作用的總截面、以及f代表εsc,i,e和εi,e的函數(shù)。

每種材料的各自單材料散射模型43可以包括如下公式：

其中，isc,i代表由每種材料的各自單材料散射模型43獲得的每種材料的散射強(qiáng)度分量、it代表在物體200的掃描下探測(cè)到的x射線的總強(qiáng)度、i0代表在沒(méi)有物體200的空氣掃描下探測(cè)到的x射線的總強(qiáng)度、以及ki、mi和ni是用于單材料散射模型43的調(diào)試參數(shù)。

散射強(qiáng)度估算模型44可以接收探測(cè)到的總強(qiáng)度it、獲得的多種材料的基礎(chǔ)材料信息、每種材料的權(quán)重因數(shù)wi、以及由每種材料的各自單材料散射模型43獲得的每種材料的散射強(qiáng)度分量isc,i，并且，根據(jù)如下的公式估算散射強(qiáng)度分量isc：

isc＝∑i(isc,i×wi)(7)

由于基礎(chǔ)成分信息和基礎(chǔ)材料信息之間可以通過(guò)使用一些簡(jiǎn)單的傳遞函數(shù)來(lái)相互轉(zhuǎn)換，因此，在圖3的模塊中所執(zhí)行的方法能夠類似地適用于基礎(chǔ)成分信息。

本發(fā)明的具體實(shí)施方式的系統(tǒng)100可以使用多種材料的基礎(chǔ)材料信息或物體200的基礎(chǔ)成分信息來(lái)執(zhí)行散射校正，并且，解決了快速散射估算和校正中的多種材料問(wèn)題。因此，本發(fā)明的具體實(shí)施方式的系統(tǒng)100可以大大降低或者甚至消除由散射所引起的偽影，并且，提高了圖像質(zhì)量以及重構(gòu)圖像的亨斯菲爾德單位(hounsfieldunits，hu)的定量測(cè)量值。

本發(fā)明還可以提供一種信號(hào)處理方法。圖4示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式的示意性信號(hào)處理方法的流程圖。

如圖4所示，在步驟b41中，可以在單能或多能下用單次或多次掃描來(lái)探測(cè)穿過(guò)包括多種材料的物體200的x射線的總強(qiáng)度或強(qiáng)度系列it。

在步驟b42中，可以獲得多種材料的基礎(chǔ)材料信息以及物體200的光電吸收基礎(chǔ)成分和康普頓散射基礎(chǔ)成分的基礎(chǔ)成分信息中的至少一組基礎(chǔ)信息。多種材料的基礎(chǔ)材料信息例如可以參照?qǐng)D5-6中示出的方法來(lái)獲得。多種材料的基礎(chǔ)材料信息可以包括對(duì)于x射線的每一個(gè)投影束14的每種材料的路徑長(zhǎng)度、線性衰減系數(shù)的積分和密度分布的積分中的至少一個(gè)的投影數(shù)據(jù)。 物體200的光電吸收基礎(chǔ)成分和康普頓散射基礎(chǔ)成分的基礎(chǔ)成分信息可以從材料分解中獲得。

在步驟b43中，可以根據(jù)至少一組基礎(chǔ)信息和探測(cè)到的總強(qiáng)度it來(lái)估算探測(cè)到的x射線的散射強(qiáng)度分量isc。

在步驟b44中，可以根據(jù)探測(cè)到的總強(qiáng)度it和估算出的散射強(qiáng)度分量isc來(lái)獲得入射到探測(cè)器20上的初級(jí)x射線的強(qiáng)度估算值ic。初級(jí)x射線的強(qiáng)度估算值ic可以通過(guò)從探測(cè)到的總強(qiáng)度it中減去估算出的散射強(qiáng)度分量isc來(lái)獲得。

在步驟b45中，可以使用獲得的初級(jí)x射線的強(qiáng)度估算值ic重構(gòu)x射線圖像img。

本發(fā)明的具體實(shí)施方式的方法可以使用多種材料的基礎(chǔ)材料信息或物體200的基礎(chǔ)成分信息來(lái)執(zhí)行散射校正，并且，解決了快速散射估算和校正中的多種材料問(wèn)題。因此，本發(fā)明的具體實(shí)施方式的方法可以大大降低或者甚至消除由散射所引起的偽影，并且，提高了圖像質(zhì)量以及重構(gòu)圖像的亨斯菲爾德單位的定量測(cè)量值。

盡管根據(jù)本發(fā)明的具體實(shí)施方式的信號(hào)處理方法的動(dòng)作被示出為功能塊，但是，在圖4-6所示的各個(gè)功能塊的順序和各個(gè)功能塊之間的動(dòng)作的分離并不意圖是限制性的。例如，可以以不同的順序來(lái)執(zhí)行各個(gè)功能塊，并且，與一個(gè)功能塊相關(guān)聯(lián)的動(dòng)作可以與一個(gè)或者多個(gè)其它功能塊相結(jié)合或者可以被細(xì)分成多個(gè)功能塊。

雖然結(jié)合特定的具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，但本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以理解，對(duì)本發(fā)明可以作出許多修改和變型。因此，要認(rèn)識(shí)到，權(quán)利要求書(shū)的意圖在于覆蓋在本發(fā)明真正構(gòu)思和范圍內(nèi)的所有這些修改和變型。