專利名稱：一種估計(jì)成像劑量的方法和系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本申請(qǐng)涉及一種估計(jì)成像劑量的方法和系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
計(jì)算機(jī)斷層成像(CT)是通過(guò)無(wú)損方式獲取物體內(nèi)部結(jié)構(gòu)信息的一種重要成像手段，它擁有高分辨率、高靈敏度以及多層次等眾多優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于各個(gè)醫(yī)療臨床檢查領(lǐng)域。隨著CT檢查的大量應(yīng)用，CT輻射劑量正日益受到人們的關(guān)注，相對(duì)于常規(guī)的放射檢查，雖然CT檢查量只占整個(gè)X光檢查的一小部分，但CT的劑量水平卻是相當(dāng)高，其集體有效劑量的貢獻(xiàn)份額也是相當(dāng)高。現(xiàn)有估計(jì)成像劑量的方法較為復(fù)雜，而且不是解析方法，難于實(shí)際應(yīng)用。

發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種簡(jiǎn)單實(shí)用的估計(jì)成像劑量的方法。本申請(qǐng)要解決的另一技術(shù)問(wèn)題是提供一種估計(jì)成像劑量的系統(tǒng)。本申請(qǐng)要解決的技術(shù)問(wèn)題通過(guò)以下技術(shù)方案加以解決:—種估計(jì)成像劑量的方法，包括通過(guò)計(jì)算物體在成像探測(cè)器上的投影范圍來(lái)預(yù)估成像劑量的過(guò)程。所述過(guò)程包括:`設(shè)置掃描物體的外接矩形區(qū)域P1P2P3P4 ；根據(jù)光源從起始位置運(yùn)動(dòng)到終止位置，計(jì)算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和；通過(guò)所述像素?cái)?shù)的和預(yù)估成像劑量。所述根據(jù)光源從起始位置運(yùn)動(dòng)到終止位置，計(jì)算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和包括:分別計(jì)算P” P2、P3、P4在成像探測(cè)器上的投影點(diǎn)坐標(biāo)upl、up2、up3、up4,根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關(guān)系，基于所述投影點(diǎn)坐標(biāo)upl、Up2> UP3、Up4計(jì)算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和。所述分別計(jì)算P1、P2、P3、P4在成像探測(cè)器上的投影點(diǎn)坐標(biāo)Upl、Up2、Up3、Up4可通過(guò)下式計(jì)算:
P rsin(冷一/ )Up = Λ X--.，其中，P為任意點(diǎn)，其相應(yīng)的投影點(diǎn)坐標(biāo)為Up，S為光源到
K-rcos{0- ρ)p
探測(cè)器的距離，R為光源到旋轉(zhuǎn)軸的距離，Φ為過(guò)P點(diǎn)矢量與X軸的夾角，β為光源在探測(cè)器上垂直投影與X軸的夾角，r為P點(diǎn)到坐標(biāo)原點(diǎn)的距離。所述根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關(guān)系，基于所述投影點(diǎn)坐標(biāo)Upl、Up2、Up3、Up4計(jì)算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和包括:
光源從起始點(diǎn)開(kāi)始每I度做一次投影，基于所述投影點(diǎn)坐標(biāo)upl、up2、up3、up4計(jì)算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)；直到光源的終止點(diǎn)，將所有的像素?cái)?shù)累加起來(lái)。一種估計(jì)成像劑量的系統(tǒng)，包括投影范圍計(jì)算模塊，用于計(jì)算物體在成像探測(cè)器上的投影范圍來(lái)預(yù)估成像劑量。所述投影范圍計(jì)算模塊還用于設(shè)置掃描物體的外接矩形區(qū)域P1P2P3P4，根據(jù)光源從起始位置運(yùn)動(dòng)到終止位置，計(jì)算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和，通過(guò)所述像素?cái)?shù)的和預(yù)估成像劑量。所述投影范圍計(jì)算模塊還用于分別計(jì)算Pp P2, P3、P4在成像探測(cè)器上的投影點(diǎn)坐標(biāo)Upl、Up2、Up3、Up4，根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關(guān)系，基于所述投影點(diǎn)坐標(biāo)Upl、Up2、Up3、Up4計(jì)算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和。所述投影范圍計(jì)算模塊還用于通過(guò)下式計(jì)算分別計(jì)算P” P2, P3、P4在成像探測(cè)器上的投影點(diǎn)坐標(biāo)Upl、Up2、Up3、Up4:
權(quán)利要求
1.一種估計(jì)成像劑量的方法，其特征在于，包括通過(guò)計(jì)算物體在成像探測(cè)器上的投影范圍來(lái)預(yù)估成像劑量的過(guò)程。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述過(guò)程包括: 設(shè)置掃描物體的外接矩形區(qū)域P1P2P3P4 ； 根據(jù)光源從起始位置運(yùn)動(dòng)到終止位置，計(jì)算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和； 通過(guò)所述像素?cái)?shù)的和預(yù)估成像劑量。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)光源從起始位置運(yùn)動(dòng)到終止位置，計(jì)算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和包括: 分別計(jì)算Pp P2> P3> P4在成像探測(cè)器上的投影點(diǎn)坐標(biāo)Upl、Up2> Up3> Up4, 根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關(guān)系，基于所述投影點(diǎn)坐標(biāo)upl、up2、up3、Up4計(jì)算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述分別計(jì)算PpP2、P3、P4在成像探測(cè)器上的投影點(diǎn)坐標(biāo)upl、Up2> Up3> Up4可通過(guò)下式計(jì)算:
5.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關(guān)系，基于所述投影點(diǎn)坐標(biāo)Upl、up2、up3、up4計(jì)算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和包括: 光源從起始點(diǎn)開(kāi)始每I度做一次投影，基于所述投影點(diǎn)坐標(biāo)Upl、up2、up3、up4計(jì)算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)； 直到光源的終止點(diǎn)，將所有的像素?cái)?shù)累加起來(lái)。
6.一種估計(jì)成像劑量的系統(tǒng)，其特征在于，包括投影范圍計(jì)算模塊，用于計(jì)算物體在成像探測(cè)器上的投影范圍來(lái)預(yù)估成像劑量。
7.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述投影范圍計(jì)算模塊還用于設(shè)置掃描物體的外接矩形區(qū)域P1P2P3P4,根據(jù)光源從起始位置運(yùn)動(dòng)到終止位置，計(jì)算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和，通過(guò)所述像素?cái)?shù)的和預(yù)估成像劑量。
8.如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述投影范圍計(jì)算模塊還用于分別計(jì)算PpP2、P3、P4在成像探測(cè)器上的投影點(diǎn)坐標(biāo)upl、up2、up3、up4，根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關(guān)系，基于所述投影點(diǎn)坐標(biāo)upl、up2、up3、up4計(jì)算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)的和。
9.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述投影范圍計(jì)算模塊還用于通過(guò)下式計(jì)算分別計(jì)算Pp p2、P3> P4在成像探測(cè)器上的投影點(diǎn)坐標(biāo)upl、up2、Up3> Up4:
10.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述投影范圍計(jì)算模塊還用于光源從起始點(diǎn)開(kāi)始每I度做一次投影，基于所述投影點(diǎn)坐標(biāo)Upl、up2、up3、up4計(jì)算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素?cái)?shù)，直到光源的終 止點(diǎn)，將所有的像素?cái)?shù)累加起來(lái)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種估計(jì)成像劑量的方法，包括通過(guò)計(jì)算物體在成像探測(cè)器上的投影范圍來(lái)預(yù)估成像劑量的過(guò)程。本發(fā)明還公開(kāi)了一種估計(jì)成像劑量的系統(tǒng)。在本發(fā)明的具體實(shí)施方式
中，由于采用計(jì)算掃描物體在探測(cè)器上的投影范圍來(lái)預(yù)估成像劑量，可在射線源的電流、電壓、曝光時(shí)間、錐束范圍等條件固定的情況下，根據(jù)投影范圍估計(jì)輻射劑量，可不用考慮具體的劑量建成、散射等復(fù)雜因素，方便實(shí)用地獲得估計(jì)結(jié)果。
文檔編號(hào)A61B6/03GK103110423SQ20131003878
公開(kāi)日2013年5月22日 申請(qǐng)日期2013年1月31日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月31日
發(fā)明者胡戰(zhàn)利, 陳垚, 桂建保, 鄭海榮 申請(qǐng)人:深圳先進(jìn)技術(shù)研究院