用于產(chǎn)生x射線輻射的裝置和方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于產(chǎn)生X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生X射線輻射場的裝置（10）以及方法，該裝置（10）包括用于產(chǎn)生電子束（12）的電子源（11）和用于通過入射到靶子（13）上的電子產(chǎn)生X射線輻射、特別是X射線輻射場的靶子（13）。本發(fā)明的特征在于，裝置（10）被設(shè)計為用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射場，并且，裝置（10）具有為了影響X射線輻射、特別是X射線輻射場改變電子束源（11）和/或電子束（12）的至少一個參數(shù)的變動器具（15）。
【專利說明】用于產(chǎn)生X射線輻射的裝置和方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]根據(jù)權(quán)利要求1的引導(dǎo)部分，本發(fā)明涉及用于產(chǎn)生X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生X射線輻射場的裝置。并且，根據(jù)權(quán)利要求10的引導(dǎo)部分，本發(fā)明還涉及用于產(chǎn)生X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生X射線輻射場的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]這種裝置和方法例如經(jīng)由照射裝置被用于照射治療的領(lǐng)域中。當(dāng)前，常通過當(dāng)代的照射裝置實施術(shù)中照射，這允許立即將輻射引至照射位置，例如，引入腫瘤或腫瘤床中。
[0003]當(dāng)前，通過術(shù)中照射裝置，使用不同類型的施加器，例如，球形施加器和針形施加器，以對病人進(jìn)行治療。這些施加器被設(shè)想為從各施加器表面或X射線輻射的產(chǎn)生位置的等中心產(chǎn)生各向同性和均勻的X射線輻射場。各向同性輻射尤其是這種類型的沿所有方向均勻發(fā)射或放出的輻射。
[0004]通過所述類型的施加器的術(shù)中照射，特別設(shè)想，分別在腫瘤床的相鄰組織或腫瘤自身中，從施加器表面，沿所有的方向，存在至少大致相同深度劑量速率曲線，使得在一定的治療時間之后，沿各向在相應(yīng)的相同深度上施加了相同的劑量。在這種情況下，等劑量區(qū)域分別最佳地為球形，中心處于施加器的中心或等中心。
[0005]通常在X射線輻射源中或通過其產(chǎn)生各照射所需要的X射線輻射或相應(yīng)的X射線輻射場。特別地，X射線輻射源是照射裝置的部件。例如用于術(shù)中照射的已知X射線輻射源的操作原理特別地基于這樣一種事實，即，電子在電子束源中產(chǎn)生并且作為電子束被發(fā)射。電子束通過具體為高電壓的加速電壓在加速段中被加速。由此產(chǎn)生并加速的電子束被引入可以例如由金制成的靶子上。靶子可以例如位于上述的施加器的尖端。在電子束入射到靶子上時，產(chǎn)生X射線輻射， 然后以得到的X射線輻射場的形狀從靶子發(fā)射該X射線輻射。例如，在W02009/132799A2中描述了這種照射裝置。
[0006]在電子會入射到靶子上的單個位置上的直線引導(dǎo)電子束的情況下，得到的X射線輻射場通常不是球形。X射線輻射場的形狀依賴于使用的材料、施加器的尖端上的材料分布、靶子的形狀和/或厚度、加速電壓和電流等因素。
[0007]在實際中，常常希望球形X射線輻射場。具體而言，球形X射線輻射場是球形或大致球形輻射場。如果電子束不被引向靶子的一個點而是偏轉(zhuǎn)，那么可以例如實現(xiàn)球形X射線輻射場。出于這種目的，從上述的根據(jù)W02009/132799A2的方案可以獲知，電子束可穿過磁場，其中，磁場是通過偏轉(zhuǎn)線圈產(chǎn)生的。通過磁場，電子束可偏轉(zhuǎn)，由此可改變電子在靶子上的入射位置。
[0008]例如，如果電子束不被引向靶子的單個點而是通過偏轉(zhuǎn)線圈大致以圓形的方式在靶子的表面上被引導(dǎo)，那么可關(guān)于球形X射線輻射場實現(xiàn)良好的結(jié)果。當(dāng)前，為了實現(xiàn)這種球形輻射場，電子束不直接沿向前的方向被引至靶子上，而是通過例如為X線圈、y線圈的偏轉(zhuǎn)線圈被磁性偏轉(zhuǎn)，使得電子束在靶子上繪制多邊形(十六邊形)。這意味著，電子器件通過線圈連續(xù)地將電子束引至16個點，其中，電子束從一個點變?yōu)橄乱稽c所需要的時間明顯比電子束保持于這些點中的一個上的時間短。因此，在通過短時間曝光用X射線照相機(jī)拍攝的圖片上，也不能識別多邊形，而只能識別16個角。這意味著，與在角上產(chǎn)生的強度相t匕，在連接線上產(chǎn)生的輻射的強度是可忽略不計的。
[0009]并且，當(dāng)前，在整個照射中保持相同的加速電壓，使得沿所有的方向產(chǎn)生大致相同深度劑量曲線。
[0010]在理想情況下，十六邊形是圓形的近似。這意味著，16個角點到圓的中心均具有相同的距離。但是，該圓的半徑被固定。通過測量輻射，電子束被控制到十六邊形的各點，使得觀察到確定的半徑。
[0011]為了獲得各向同性X射線輻射場的證據(jù)，對不同的距離和角度通過離子化室在水體模中測量、特別是關(guān)于縱軸測量或者沿+-X方向、+-y方向、+-Z方向在各治療之前測量X射線輻射源。
[0012]各向同性明顯受諸如金、Ni+CrN或單純CrN的不同的內(nèi)外涂層的厚度和各安裝X射線輻射源、特別是X射線輻射源的Be尖端(鈹尖端)的尺寸其從理想形狀的偏離影響。但是，不能用上述的當(dāng)前使用的方法校正這一點。這意味著，例如，必須消除或者丟棄不符合水體模測量中的各向同性的需要的規(guī)范的那些X射線輻射源。
[0013]如果需要輻 射不具有各向同性的非球形輻射場，例如，為了沿某個方向保護(hù)更深的器官，當(dāng)前，例如，必須沿相應(yīng)的方向在球形施加器上放置屏蔽，例如，所謂的“球形屏蔽”，但是，該屏蔽由此吸收該立體角的幾乎所有輻射，該立體角在后面也被稱為空間角，并且，立體角另外通過屏蔽的尺寸被固定。
[0014]如果需要非球形輻射場，例如，需要平坦的場，那么沒有證明當(dāng)前使用的方法非常有用，原因是必須從各向同性輻射場通過復(fù)雜形狀的吸收體形成平坦輻射場。其中，只使用球形輻射場的較窄的空間角度。為了不損害病人和/或環(huán)境，必須通過施加器外殼吸收很大的剩余部分。必須進(jìn)一步通過在以產(chǎn)生希望的平坦輻射場的程度使用的吸收體弱化在使用的空間角上存在的輻射。例如表面施加器所需要的施加器的劑量速率低，因此，治療時間相應(yīng)地長。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0015]從上述的現(xiàn)有技術(shù)的狀態(tài)出發(fā)，本發(fā)明基于該問題，以進(jìn)一步開發(fā)首先提出的裝置和首先提出的方法，使得可避免上述的問題。
[0016]根據(jù)本發(fā)明，通過具有根據(jù)獨立權(quán)利要求1的特征的裝置以及通過具有獨立權(quán)利要求10的特征的方法，解決該問題。可從從屬權(quán)利要求、說明書以及從附圖導(dǎo)出本發(fā)明的其它特征和細(xì)節(jié)。其中，關(guān)于根據(jù)本發(fā)明的裝置描述的特征和細(xì)節(jié)關(guān)于其全部的公開也適用于根據(jù)本發(fā)明的方法，使得關(guān)于裝置進(jìn)行的陳述也完全適用于方法，反之亦然。
[0017]本發(fā)明的根本概念在于，可通過改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)，影響產(chǎn)生的X射線輻射，特別是產(chǎn)生的X射線輻射場。
[0018]根據(jù)本發(fā)明，產(chǎn)生X射線輻射場，其中，通過所有的產(chǎn)生的X射線輻射形成X射線輻射場?，F(xiàn)在，通過調(diào)整或設(shè)置產(chǎn)生得到的X射線輻射場的電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)，可特別地調(diào)整得到的X射線輻射場的形狀和/或尺寸或者可使得其適于規(guī)范。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供用于產(chǎn)生X射線輻射特別是用于產(chǎn)生X射線輻射場的裝置，該裝置包括用于產(chǎn)生電子束的電子源和用于通過入射到靶子上的電子束的電子產(chǎn)生X射線輻射特別是X射線輻射場的靶子。根據(jù)本發(fā)明的裝置的特征在于，它被設(shè)計為用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射場，并且，裝置具有為了影響X射線輻射特別是X射線輻射場改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)的變動器具。
[0020]根據(jù)本發(fā)明，提供用于產(chǎn)生X射線輻射特別是用于產(chǎn)生X射線輻射場的裝置。其中，本發(fā)明優(yōu)選涉及產(chǎn)生低能量和/或軟X射線輻射。裝置優(yōu)選是照射裝置的一部分。
[0021]裝置具有電子源。通過電子源，產(chǎn)生電子，這些電子特別地作為電子束被發(fā)射。電子源由此特別地用于產(chǎn)生電子束。另外，裝置具有靶子，其中，靶子可以例如由金制成。靶子用于實際產(chǎn)生X射線輻射和/或X射線輻射場。通過電子源產(chǎn)生的電子作為電子束入射到靶子上。通過入射到靶子上的電子束的電子產(chǎn)生分別從靶子發(fā)射的X射線輻射或X射線輻射場。 [0022]根據(jù)本發(fā)明，現(xiàn)在假定裝置被設(shè)計為用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射場。這意味著，可通過裝置自由或任意調(diào)整和/或改變X射線輻射和/或X射線輻射場。
[0023]出于這種目的，根據(jù)本發(fā)明，假定裝置具有變動器具。變動器具也可被稱為變動裝置或變動單元。由于該變動器具，變得能夠影響X射線輻射特別是X射線輻射場。根據(jù)本發(fā)明，進(jìn)一步假定變動裝置被設(shè)計為用于改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)。
[0024]特別地，電子束源和/或電子束的參數(shù)是可影響電子或電子束的產(chǎn)生和/或產(chǎn)生的電子和/或電子束的性能和/或產(chǎn)生的電子和/或電子束的路徑的特性值。本發(fā)明不限于某些參數(shù)。將進(jìn)一步更詳細(xì)地描述這些參數(shù)的優(yōu)選但非限制性的例子。
[0025]本發(fā)明也不限于變動器具的某些實施例。變動器具可以例如為適當(dāng)?shù)难b置，例如，控制裝置。但是，變動器具也可能是計算裝置。在不同的實施例中，可假定變動器具是軟件或計算機(jī)程序產(chǎn)品等。
[0026]在任何情況下，變動器具的基本功能是，變動器具被設(shè)計使得它可影響電子束源和/或電子束的某些參數(shù)。
[0027]后面描述的根據(jù)本發(fā)明的裝置以及根據(jù)本發(fā)明的方法可特別地用于術(shù)中照射的領(lǐng)域。其中，使用X射線輻射特別是短距離的X射線輻射，該X射線輻射被直接引至照射位置，例如，腫瘤或腫瘤床。在使用的X射線輻射源中，在電子源中產(chǎn)生電子。電子作為電子束通過加速電壓向著例如由金制成的靶子被加速。這是特別地產(chǎn)生低能量X射線輻射的位置，該低能量X射線輻射特別地各向同性地被發(fā)射并進(jìn)入要被照射的組織中。
[0028]具有由鈹制成的尖端的X射線探頭常被用于這種照射治療。鈹是幾乎對X射線輻射透明的材料。X射線探頭優(yōu)選被設(shè)計為真空的電子束管。在該電子束管中，通過電子源產(chǎn)生電子束，該電子束然后通過加速電壓被加速。電子束被引向靶子。在靶子上，電子突然減慢，并且，產(chǎn)生X射線輻射。
[0029]根據(jù)本發(fā)明的裝置可因此優(yōu)選具有含真空管以及配置于其中的靶子的X射線探頭以及電子源。另外，可設(shè)置用于通過加速電壓加速電子的加速器具，該加速器具也可被稱為電子加速器。加速器具或加速器也可被稱為加速單元或加速裝置。特別地通過在加速器具上施加的高電壓實現(xiàn)電子的加速。將在后面的描述中更詳細(xì)地描述這種加速器具。[0030]并且，可以設(shè)置用于偏轉(zhuǎn)通往靶子的路徑上的電子束的偏轉(zhuǎn)器具。這種偏轉(zhuǎn)器具也可被稱為偏轉(zhuǎn)裝置或偏轉(zhuǎn)單元，并且將在后面的描述中被更詳細(xì)地描述。
[0031]變動器具特別地被設(shè)計為用于調(diào)整和/或改變從靶子發(fā)射的X射線輻射特別是從靶子發(fā)射的X射線輻射場的發(fā)射特性。通過變動器具，現(xiàn)在能夠改變發(fā)射特性。通過改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)，改變從靶子產(chǎn)生和發(fā)射的X射線輻射場。因此，改變電子束以便影響得到的X射線輻射場。
[0032]優(yōu)選地，變動器具被設(shè)計為用于影響X射線輻射的各向同性、特別是用于影響X射線輻射場的各向同性。如上所述，各向同性輻射是沿所有方向均等地發(fā)射并且/或者沿所有方向均等地射出的輻射。通過本發(fā)明，現(xiàn)在能夠使X射線輻射場的各向同性適于例如改變的條件和某些規(guī)范等。規(guī)范也可被稱為預(yù)設(shè)置。特別地，可通過通過變動器具控制電子束電流實現(xiàn)得到的發(fā)射的X射線輻射場的各向同性適應(yīng)。
[0033]優(yōu)選地，變動器具可具有用于控制電子束源和/或電子束的控制器具。由此在變動器具中實現(xiàn)電子束的控制器具?？刂破骶咭部杀环Q為控制裝置或控制單元。通過控制器具，可優(yōu)選以使得產(chǎn)生具有任何希望的分布的X射線輻射場的方式控制電子束?？刂破骶呖梢允擒浖陀嬎銠C(jī)程序產(chǎn)品等?？蓛?yōu)選通過使用適當(dāng)?shù)目刂扑惴▽嵤┻@種控制。也稱為智能控制算法的這種控制算法可以例如確定、計算和修改電子源和/或電子束的各單獨參數(shù)。
[0034]優(yōu)選地，變動器具被設(shè)計為用于關(guān)于X射線輻射特別是X射線輻射場的空間影響來改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)。這意味著，在空間上實現(xiàn)影響。
[0035]在另一實施例中，變動器具被設(shè)計為用于調(diào)整和/或改變從靶子發(fā)射的X射線輻射特別是從靶子發(fā)射的X射線輻射場的發(fā)射特性。在這種情況下，特別假定，變動器具被設(shè)計為用于在電子束入射到靶子上時、特別是在電子束處于靶子上的過程中改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)。電子束處于靶子上的過程也可稱為循環(huán)。由此，通過本發(fā)明，還變得能夠在裝置或具有裝置的照射器具的動作中例如以實時或接近實時的方式影響產(chǎn)生的X射線輻射特別是產(chǎn)生的X射線輻射場。
[0036]通過根據(jù)本發(fā)明的裝置，特別地，也可通過在電子束入射于靶子的表面上的過程中特別是在電子束處于靶子的表面上的過程中改變電子束源和/或電子束的參數(shù)，來改變從靶子發(fā)射的X射線輻射的發(fā)射特性。
[0037]在這一方面，本發(fā)明不限于某些參數(shù)。在后面更詳細(xì)地描述其一些有利但非限制性的示例性。
[0038]優(yōu)選地，假定裝置具有用于偏轉(zhuǎn)電子束的偏轉(zhuǎn)器具。偏轉(zhuǎn)器具可以例如是磁偏轉(zhuǎn)線圈。為了偏轉(zhuǎn)向靶子加速的電子束的電子，可通過磁偏轉(zhuǎn)線圈可產(chǎn)生磁場。這允許設(shè)置電子入射到靶子上的位置。由此，特別地，可調(diào)整產(chǎn)生和發(fā)射的X射線輻射的空間輻射分布。通過偏轉(zhuǎn)器具，例如，通過偏轉(zhuǎn)線圈，電子束可在靶子上移動。
[0039] 變動器具被特別地設(shè)計為用于操作偏轉(zhuǎn)器具。這意味著，例如，變動器具被設(shè)計為操作磁偏轉(zhuǎn)線圈，使得通過它們產(chǎn)生希望的磁場。其中，優(yōu)選實現(xiàn)通過變動器具對偏轉(zhuǎn)器具的操作，使得，通過驅(qū)動偏轉(zhuǎn)器具，特別是在電子束處于靶子上的過程中，電子束的、特別是電子束在靶子上的坐標(biāo)和/或電子束在靶子上的入射位置和/或電子束在靶子上的入射路徑和/或電子束在靶子上的路線的半徑和/或電子束在靶子的某個點上的駐留時間中的至少一個參數(shù)被改變和/或可改變。
[0040]通過該優(yōu)選實施例，特別地，變得能夠偏離電子束在靶子上的半徑和/或例如為多邊形的形狀和/或路徑和/或入射位置的固定規(guī)范。特別地，變得可特別實時地在靶子表面上改變電子束的坐標(biāo)。
[0041]并且，可改變在電子束引向靶子上的下一點之前電子束處于靶子的一個點上的駐留時間。因此，通過描述的優(yōu)選實施例，還變得能夠偏離電子束在靶子上的入射點的固定時間持續(xù)期，使得可對于不同的方向產(chǎn)生例如不同的深度劑量曲線。
[0042]在另一實施例中，裝置優(yōu)選具有用于通過施加的加速電壓加速電子的加速器具。加速器具優(yōu)選是提供可加速電子束的電子的加速電壓特別是高電壓的電子加速器。
[0043]優(yōu)選地，變動器具被設(shè)計為用于驅(qū)動和/或操作加速器具。這意味著，例如，變動器具被設(shè)計為用于操作加速器具，使得通過加速器具提供希望的加速電壓。優(yōu)選實現(xiàn)經(jīng)由變動器具的加速器具的驅(qū)動，使得，通過驅(qū)動加速器具，特別是在電子束處于靶子上的過程中，改變或可改變用于加速入射到靶子上的電子束的加速電壓。
[0044]通過該優(yōu)選實施例，特別地，變得能夠偏離電子束在靶子上的所有入射點的固定加速電壓，使得可對于不同的方向產(chǎn)生例如不同的深度劑量曲線。這意味著，變動器具優(yōu)選被設(shè)計為驅(qū)動加速器具，使得，通過該加速器具，特別是在電子束處于靶子上的過程中，向著靶子通過不同的加速電壓加速電子束。
[0045]通過改變加速電壓，實現(xiàn)電子束以不同的能量入射到靶子上。通過偏離電子束在靶子上的所有入射點的固定加速電壓，變得能夠改變電子束在靶子上的過程中的加速電壓，使得可對不同方向?qū)崿F(xiàn)不同的深度劑量曲線。
[0046]本發(fā)明不限于某些加速電壓。優(yōu)選`地，施加O~150kV的加速電壓。對于組織的照射，優(yōu)選施加10~IOOkV的加速電壓。
[0047]作為可通過變動器具實現(xiàn)的另一參數(shù)，例如，可提到安培數(shù)。
[0048]優(yōu)選地，變動器具具有用于接收用于產(chǎn)生限定的X射線輻射特別是用于產(chǎn)生限定的X射線輻射場和/或用于改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)的外部規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值的接口。特別地從外部通過接口向比較裝置傳送規(guī)范和/或基準(zhǔn)值。
[0049]作為替代方案，或者，另外地，變動器具可具有用于輸入用于產(chǎn)生限定的X射線輻射特別是用于產(chǎn)生限定的X射線輻射場和/或用于改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)的規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值的輸入器具。這種輸入器具可以例如為鍵盤、觸摸面板和用于讀入數(shù)據(jù)的讀取裝置等。如果變動器具是軟件或計算機(jī)程序產(chǎn)品，那么輸入器具可以例如為輸入規(guī)范值的輸入窗口。
[0050]規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值可以例如為X射線輻射場的希望的分布的值。在不同的實施例中，規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值可以是各向同性測量值的反饋。
[0051]由此，可提供用于影響電子束的選項，這些選項不僅基于用于產(chǎn)生X射線輻射的裝置上的測量，而且還允許反饋，特別是通過例如測量裝置的外部裝置的控制反饋。這種測量裝置可以例如是通過幾個空間方向擴(kuò)展的水體?；騊DA。
[0052]通過描述的實施例，特別地變得可使從靶子發(fā)射的X射線輻射特別是X射線輻射場的發(fā)射特性適于規(guī)范。這可理解為例如通過任何希望的方式給定規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值?？梢岳鐚崿F(xiàn)這一點，使得，通過可以是模擬程序的計算程序確定適當(dāng)?shù)囊?guī)范值和/或基準(zhǔn)值。它們可然后被用于影響X射線輻射和/或X射線輻射場。關(guān)于規(guī)范，本發(fā)明也不限于特定類型的規(guī)范。
[0053]在另一實施例中，變動器具優(yōu)選具有用于計算和/或產(chǎn)生用于從規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)的規(guī)范的計算單元。作為替代方案，或者，另外地，優(yōu)選假定變動器具具有用于關(guān)于計算和/或產(chǎn)生的規(guī)范或接收和/或輸入規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)的實現(xiàn)器具。
[0054]由此，特別地，提供訓(xùn)練用于對各希望的情況產(chǎn)生X射線輻射的裝置的可能性。例如，通過用變動器具測量和反饋各規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值，可實現(xiàn)用不同的加速電壓和不同的駐留時間通過電子束在靶子上的不同的入射點產(chǎn)生限定的X射線輻射場。
[0055]例如可假定，通過外部測量設(shè)施(setup)來確定X射線輻射源的各向同性。由此獲得的各向同性值可從測量設(shè)施被讀出，并且可被傳送到變動器具。由此，測量值，例如，各向同性測量值，被反饋到例如為控制算法軟件的變動器具中。在變動器具中，然后計算該新X射線輻射場分布的新電子束參數(shù)。隨后，可通過變動器具用這些新的參數(shù)驅(qū)動或控制電子束和/或電子源。
[0056]優(yōu)選地，得到的X射線輻射場可被檢測或確定，并且可通過比較器具與被調(diào)整或適于規(guī)范的X射線輻射場相比。優(yōu)選地，通過從調(diào)整的X射線輻射場或適于規(guī)范的X射線輻射場偏離確定的X射線輻射場，實現(xiàn)確定的X射線輻射場的校正。
[0057]確定的規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值可被存儲于存儲器具中。出于這種目的，優(yōu)選假定用于產(chǎn)生X射線輻射的裝置特別是 變動器具具有這種存儲器具，或者可至少通過接口訪問這種存儲器具。相應(yīng)地，通過變動器具或比較器具確定并且通過變動器具改變的參數(shù)可存儲于存儲器具中?？扇缓笸ㄟ^這些存儲值實現(xiàn)參數(shù)的變動。
[0058]通過根據(jù)本發(fā)明的第一方面的裝置，特別地為了通過各向同性測量值的反饋產(chǎn)生任何希望的X射線輻射場分布，特別是可通過影響電子源和/或電子束實現(xiàn)得到的X射線輻射特別是得到的X射線輻射場的智能影響。
[0059]特別地，還能夠為了連續(xù)改善X射線輻射場分布實現(xiàn)循環(huán)處理。改善X射線輻射場分布的處理的完全自動控制是可能的，并且優(yōu)選地被提供。
[0060]除了完全自動驅(qū)動以外，還可以半自動或手動的方式實現(xiàn)用于產(chǎn)生X射線輻射的裝置或X射線輻射源的驅(qū)動。也可以數(shù)字或模擬的方式實現(xiàn)驅(qū)動。
[0061]相對于在上面設(shè)想運行軟件的處理器和/或計算機(jī)的實施例和/或構(gòu)建類型和/或平臺上，變動也是可能的。本發(fā)明也不限于寫入軟件的某種編程語言。并且，在軟件上，本發(fā)明不限于特定的圖形用戶接口(GUI)實施例。上面運行軟件的操作系統(tǒng)以及用于產(chǎn)生X射線輻射的裝置或設(shè)想為產(chǎn)生輻射的X射線輻射源的布局也不被固定并且可明顯地適應(yīng)不同情況。
[0062]通過根據(jù)本發(fā)明的第一方面的裝置，可在產(chǎn)生X射線輻射場之前或之中實現(xiàn)得到X射線輻射和/或得到的X射線輻射場特別是發(fā)射特性的變動。很顯然，還能夠在產(chǎn)生X射線輻射場之前首先實現(xiàn)X射線輻射場的調(diào)整或設(shè)置。如果要在照射中實現(xiàn)X射線輻射場的變化，那么也可執(zhí)行這種變化。X射線輻射場還能夠例如作為規(guī)范存儲于文件中，因為它已被用于更早的照射中。從而，不必在產(chǎn)生X射線輻射場之前調(diào)整這種X射線輻射場的形狀。在這種情況下，在準(zhǔn)備和/或照射過程中調(diào)整即改變X射線輻射場就夠了。在這一方面，本發(fā)明不限于特定的方法。
[0063]根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射場的方法，其中，通過電子源產(chǎn)生電子束，電子束被引向靶子，并且，通過入射到靶子上的電子束的電子，產(chǎn)生X射線輻射特別是X射線輻射場。方法的特征在于，通過變動器具，改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)，通過改變至少一個參數(shù)，影響X射線輻射特別是X射線輻射場，并且，通過改變至少一個參數(shù)，特別地改變來自靶子的X射線輻射特別是X射線輻射場的發(fā)射特性。
[0064]特別地，可通過上述的根據(jù)本發(fā)明的用于產(chǎn)生X射線輻射的裝置執(zhí)行該方法，使得，關(guān)于涉及方法的布局和功能的公開，也完全參照本發(fā)明的裝置的描述并且將描述并入于此作為參考。
[0065]優(yōu)選地，如上面解釋的那樣，通過變動器具，控制電子束源和/或電子束。
[0066]在另一實施例中，如上面解釋的那樣，通過變動器具影響X射線輻射的各向同性特別是X射線輻射場的各向同性。
[0067]如上面解釋的那樣，通過變動器具，相對于X射線輻射特別是X射線輻射場的空間影響，來影響電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)。
[0068]通過變動器具，特別地，實現(xiàn)從靶子發(fā)射的X射線輻射特別是從靶子發(fā)射的X射線輻射場的發(fā)射特性的調(diào)整和/或改變。其中可假定，如上面解釋的那樣，通過變動器具，在電子束入射于靶子上的過程中特別是在電子束處于靶子上的期間，實現(xiàn)電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)的變動。
[0069]優(yōu)選地，假定，通過變動器具，驅(qū)動用于偏轉(zhuǎn)電子束的偏轉(zhuǎn)器具，并且，通過驅(qū)動偏轉(zhuǎn)器具，電子束的、特別是電 子束在靶子上的坐標(biāo)和/或電子束在靶子上的入射位置和/或電子束在靶子上的入射路徑和/或電子束在靶子上的路線的半徑和/或電子束在靶子的某個點上的駐留周期中的至少一個參數(shù)被改變或可改變。
[0070]在另一實施例中，優(yōu)選假定，通過變動器具，驅(qū)動用于通過施加的加速電壓加速電子的加速器具，并且，通過驅(qū)動加速器具，改變用于加速入射到靶子上的電子束的加速電壓。
[0071]優(yōu)選地，進(jìn)一步假定，通過接口，在變動器具中接收用于產(chǎn)生限定的X射線輻射特別是限定的X射線輻射場并且/或者用于改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)的外部規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值，并且/或者，通過輸入器具，將用于產(chǎn)生限定的X射線輻射特別是限定的X射線輻射場并且/或者用于改變電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)的外部規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值輸入到變動器具中，并且，基于接收和/或輸入的規(guī)范值或由其在變動器具中計算的規(guī)范，通過變動器具，影響電子束源和/或電子束的至少一個參數(shù)。
[0072]例如可假定，通過外部測量設(shè)施，確定X射線輻射場的各向同性。由此獲得的各向同性值可被測量設(shè)施讀出，并且可被傳送到變動器具。由此，例如為各向同性測量值的測量值反饋到例如為控制算法軟件的變動器具中。然后，在變動器具中，計算用于新X射線輻射場分布的新電子束參數(shù)。隨后，可通過變動器具用這些新參數(shù)驅(qū)動電子束和/或電子源。
[0073]通過根據(jù)上面描述的發(fā)明方面的本發(fā)明，特別是在電子束處于靶子上的過程中，通過改變電子束源和/或電子束的參數(shù)，特別變得能夠改變X射線輻射的發(fā)射特性。特別地，這些參數(shù)可以是加速電壓和/或安培數(shù)和/或電子束在靶子上的入射位置和/或入射路徑和/或電子束在靶子上的某個位置的駐留時間等，其中，本發(fā)明不限于這些提到的參數(shù)。
[0074]本發(fā)明使得能夠以簡單的方式調(diào)整得到的具有任何希望的發(fā)射特性特別是具有任何希望的形狀和/或尺寸的X射線輻射場。由此，由于只有處于設(shè)想為被照射的位置上的基體被照射，因此，基體的照射可被優(yōu)化。可以在沒有機(jī)械屏蔽的情況下而通過調(diào)整確定輻射場的參數(shù)實現(xiàn)X射線輻射場的發(fā)射特性的這種調(diào)整和/或設(shè)置?？梢岳缤ㄟ^智能控制算法計算確定輻射場的這些參數(shù)。例如，可在計算或處理單元中實施計算。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0075]現(xiàn)在，參照附圖關(guān)于示例性實施例更詳細(xì)地解釋本發(fā)明，其中，
[0076]圖1表示根據(jù)本發(fā)明的用于產(chǎn)生X射線輻射特別是X射線輻射場的裝置的示圖；
[0077]圖2表示用于產(chǎn)生X射線輻射特別是X射線輻射場的裝置的斷面圖，該裝置發(fā)射輻射，其中設(shè)置用于影響得到的X射線輻射場的機(jī)械屏蔽；
[0078]圖3表示根據(jù)圖2的裝置的示圖，其中使用根據(jù)本發(fā)明的方法。
【具體實施方式】
[0079]圖中，表示用于產(chǎn)生X射線輻射特別是用于產(chǎn)生X射線輻射場的裝置10。該裝置特別用于術(shù)中照射的領(lǐng)域中。
[0080]裝置10具有電子源11。通過電子源11產(chǎn)生電子，這些電子特別地作為電子束12被發(fā)射。電子源11特別地用于產(chǎn)生電子束12。并且，裝置具有靶子13，其中，靶子可以例如由金制成。靶子13用于實際產(chǎn)生X射線輻射和/或X射線輻射場，如指向背離靶子13的箭頭所示。靶子13配置于X射線探頭的真空管14中的遠(yuǎn)端。
[0081]通過電子源11產(chǎn)生的電子作為電子束12入射于靶子13上。這里，電子束12的電子減慢，由此，產(chǎn)生從靶子13發(fā)射的X射線輻射和/或X射線輻射場。
[0082]根據(jù)本發(fā)明，現(xiàn)在假定，裝置10被設(shè)計為用于產(chǎn)生可調(diào)整和/或可改變X射線輻射特別是用于產(chǎn)生可調(diào)整和/或可改變X射線輻射場。這意味著，通過裝置10，可自由調(diào)整或者改變或者由用戶限定X射線輻射和/或X射線輻射場和/或它們的發(fā)射特性。
[0083]出于這種目的，假定裝置10具有變動器具15。通過該變動器具15，變得能夠影響X射線輻射特別是X射線輻射場。根據(jù)本發(fā)明，進(jìn)一步假定，變動器具15被設(shè)計為用于改變電子源11和/或電子束12的至少一個參數(shù)。
[0084]并且，假定裝置10具有用于偏轉(zhuǎn)電子束12的偏轉(zhuǎn)器具16。例如，偏轉(zhuǎn)器具16可以是磁偏轉(zhuǎn)線圈。通過偏轉(zhuǎn)器具16，可產(chǎn)生磁場，為以便偏轉(zhuǎn)向靶子13加速的電子束12的電子，其由電子束的虛線表示。這允許設(shè)置電子入射于靶子13上的位置。由此，特別地，可調(diào)整產(chǎn)生和發(fā)射的X射線輻射的空間輻射分布。通過偏轉(zhuǎn)器具16，電子束12可在靶子13上方或上面移動。
[0085]變動器具15被設(shè)計為用于驅(qū)動偏轉(zhuǎn)器具16，如圖1中的連接線所示。這意味著，例如，變動器具15被設(shè)計為以使得產(chǎn)生希望的磁場的方式驅(qū)動偏轉(zhuǎn)器具16。優(yōu)選通過變動器具15實現(xiàn)偏轉(zhuǎn)器具16的驅(qū)動，使得，通過偏轉(zhuǎn)器具16的驅(qū)動，特別是在電子束12處于靶子13上的過程中，電子束12的至少一個參數(shù)、特別是電子束12在靶子13上的坐標(biāo)和/或電子束12在靶子13上的入射位置和/或電子束12在靶子13上的入射路徑和/或電子束在靶子13上的路線的半徑和/或電子束12在靶子13的某個點上的駐留周期被改變。
[0086]另外，裝置10具有用于通過施加的加速電壓特別是高電壓加速電子的加速器具17。變動器具15被設(shè)計為用于驅(qū)動加速器具17，如圖1中的相應(yīng)的連接線所示。這意味著，變動器具15被設(shè)計為用于以通過加速器具17提供希望的加速電壓的方式操作加速器具17。通過變動器具15實現(xiàn)加速器具17的驅(qū)動，使得，通過驅(qū)動加速器具17，特別在是電子束12處于靶子13上的過程中，改變用于加速入射到靶子13上的電子束12的加速電壓。
[0087]可總體稱為X射線輻射源的裝置10被用于產(chǎn)生和/或提供X射線輻射場50、51、52，使得可照射例如組織中的基體(未示出)。
[0088]如圖1所示，X射線輻射場50、51、52以球形或大致球形的方式傳播。X射線輻射場50、51、52的中心是產(chǎn)生得到的X射線輻射和/或X射線輻射場的靶子13。X射線輻射場50、51、52的中心也被稱為等中心。在圖1中通過相應(yīng)的各向同性線指示X射線輻射場50、51、52的球形分布。各向同性線一般指的是存在相同的各向同性的線，相同的各向同性意味著相同輻射的值。圖1中的各向同性線由此表示存在相同的輻射的線。
[0089]通過產(chǎn)生這種X射線輻射場50、51、52的裝置10，一般地，能夠照射基體特別是組織。但是，如果要被照射的基體是敏感的基體并且/或者設(shè)想在限定深度或到基體表面具有限定距離的位置上實現(xiàn)照射，那么某些組織位置和/或相鄰的組織可能必須不受照射影響。簡言之，可能希望例如可能緊挨著要被照射的位置的組織位置不被照射。
[0090]當(dāng)前，為了解決這種任務(wù)，使用所謂的機(jī)械屏蔽30。在圖2中，除了輻射源11，示出用于影響X射線輻射場50、 51、52的機(jī)械屏蔽30。
[0091]圖2所示的裝置10的基本原理與圖1的裝置10對應(yīng)，使得可以參照以上的相應(yīng)的描述并且在這里并入其描述作為參考。
[0092]通過使用機(jī)械屏蔽30，可因此影響X射線輻射場50、51、52。
[0093]在圖1和圖2中，僅表示X射線輻射場50、51、52的二維描述。但是，很顯然，示圖是簡化的示圖，并且，X射線輻射場50、51、52的傳播也可沿三個空間方向即以三維的方式出現(xiàn)。
[0094]通過機(jī)械屏蔽30，實現(xiàn)圖2所示的X射線輻射場50、51、52，使得機(jī)械屏蔽被定位或被配置的位置上的X射線輻射場50、51、52不從裝置10出射。通過以這種方式阻礙X射線輻射場50、51、52的發(fā)射或傳播，處于該位置上的組織可被保護(hù)免于輻射或X射線輻射場50、51、52。
[0095]在不被機(jī)械屏蔽30覆蓋或屏蔽的一側(cè)，X射線輻射場50、51、52可與圖1所示的傳播或分布類似地傳播。
[0096]圖2所示的通過使用機(jī)械屏蔽30影響X射線輻射場50、51、52的選項具有必需附加部件的缺點。另外，當(dāng)使用機(jī)械屏蔽30時，例如，只能通過使用以不同的方式設(shè)計的機(jī)械屏蔽30改變X射線輻射場50、51、52的形狀和/或尺寸，這是不利的。
[0097]例如，通過在產(chǎn)生和/或提供X射線輻射場50、51、52之前和/或之中通過變動器具15改變電子源11和電子束12的至少一個參數(shù)調(diào)整，通過關(guān)于圖1示出并且描述的裝置10從靶子30發(fā)射的得到的X射線輻射場50、51、52的形狀和/或尺寸或使其適于規(guī)范，可避免這些問題。由此，得到的X射線輻射或得到的X射線輻射場50、51、52的發(fā)射特性受到影響。
[0098]在圖3中表示這種實施例。但是，圖3僅是用于闡明根據(jù)本發(fā)明的裝置10以及根據(jù)本發(fā)明的方法的操作原理的示意圖。
[0099]出于簡化和易于比較的原因，圖3所示的X射線輻射場50、51、52與圖2的X射線輻射場50、51、52對應(yīng)。在圖3中，作為例子，設(shè)想通過圖1所示的裝置10并且通過使用變動器具15產(chǎn)生或提供X射線輻射場50、51、52，該X射線輻射場50、51、52與圖2的X射線輻射場50、51、52等同或?qū)?yīng)。
[0100]出于這種原因，通過變動器具15調(diào)整或限定確定輻射場的電子源11和電子束12的參數(shù)，使得產(chǎn)生或提供希望的X射線輻射場50、51、52。
[0101]如果對產(chǎn)生輻射劑量速率并因此還對產(chǎn)生X射線輻射場50、51、52所需要的加速電壓被改變，那么除了 X射線輻射場50、51、52的形狀和/或尺寸以外，也可調(diào)整或自由選擇輻射強度、輻射劑量速率和/或輻射劑量速率曲線。
[0102]通過圖1所示的變動器具15的接口 18，變動器具15可從外面接收值，例如，可接收可用于變動電子源11和/或電子束12的參數(shù)的外部測量值。作為替代方案，或者，另外地，可通過變動器具15的輸入器具21輸入或讀入這種值。這些外部測量值可由此被用于影響得到的輻射，特別是得到的X射線輻射場，特別是它們的發(fā)射特性。
[0103]如圖1進(jìn)一步所示的，變動器具15具有用于計算和/或產(chǎn)生用于從規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值改變電子束源11和/或電子束12的至少一個參數(shù)的規(guī)范的計算器具19。作為替代方案，或者，另外地，優(yōu)選假定變動器具15具有用于相對于計算的和/或產(chǎn)生的規(guī)范或接收和/或輸入的規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值來改變電子束源11和/或電子束12的至少一個參數(shù)的實現(xiàn)器具20。
[0104]由此，特別地，提供“訓(xùn)練”用于`對各希望的情況產(chǎn)生X射線輻射的裝置10的可能性。例如，可通過在不同的加速電壓和不同的駐留時間下通過電子束12在靶子13上的不同的入射點來產(chǎn)生預(yù)定的X射線輻射場50、51、52，用變動器具15測量和反饋相應(yīng)的規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值，來實現(xiàn)這一點。
[0105]例如可假定，通過外部測量設(shè)施(未示出)來確定X射線輻射源的各向同性。由此獲得的各向同性值可從測量設(shè)施被讀出，并且通過接口 18或輸入器具21，可被傳送到或輸入到變動器具15。由此，測量值，例如，各向同性測量值，被反饋到例如為控制算法軟件的變動器具15中。在變動器具15中，然后針對該新X射線輻射場分布計算電子束12的新參數(shù)。隨后，可通過變動器具15用這些新的參數(shù)控制電子束12和/或電子源11。
[0106]附圖標(biāo)記
[0107]10 用于產(chǎn)生X射線輻射特別是用于產(chǎn)生X射線輻射場的裝置
[0108]11 電子源
[0109]12 電子束
[0110]13 靶子
[0111]14 X射線探頭管
[0112]15 變動器具
[0113]16 偏轉(zhuǎn)器具
[0114]17 加速器具[0115]18接口
[0116]19計算器具
[0117]20實現(xiàn)器具
[0118]21輸入器具
[0119]30機(jī)械屏蔽
[0120]50X射線輻射場(傳播)
[0121]51X射線輻射場(傳播)
[0122]52X射線輻射場(傳播)
【權(quán)利要求】
1.一種用于產(chǎn)生X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生X射線輻射場的裝置(10)，包括用于產(chǎn)生電子束(12 )的電子源(11)和靶子(13 )，靶子(13 )用于通過入射到所述靶子(13 )上的電子束(12)的電子產(chǎn)生X射線輻射、特別是X射線輻射場，其特征在于，所述裝置(10)被設(shè)計為用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射場，并且，所述裝置(10)具有變動器具(15)，用于改變所述電子束源(11)和/或所述電子束(12)的至少一個參數(shù)以便影響X射線輻射、特別是X射線輻射場。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置，其特征在于，所述變動器具(15)被設(shè)計為用于影響X射線輻射的各向同性、特別是用于影響X射線輻射場的各向同性。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的裝置，其特征在于，所述變動器具(15)具有用于控制所述電子束源(11)和/或所述電子束(12 )的控制器具。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任一項的裝置，其特征在于，所述變動器具(15)被設(shè)計為用于相對于X射線輻射、特別是X射線輻射場的空間影響來改變所述電子束源(11)和/或所述電子束(12)的至少一個參數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中的任一項的裝置，其特征在于，所述變動器具(15)被設(shè)計為用于調(diào)整和/或改變從所述靶子(13)發(fā)射的X射線輻射、特別是從所述靶子(13)發(fā)射的X射線輻射場的發(fā)射特性，并且，所述變動器具(15)被設(shè)計為用于在所述電子束(12)入射到所述靶子(13)上的過程中、特別是在所述電子束(12)處于所述靶子(13)上期間改變所述電子束源(11)和/或所述電子束(12)的至少一個參數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5中的任一項的裝置，其特征在于，所述裝置(10)具有用于偏轉(zhuǎn)所述電子束(12)的偏轉(zhuǎn)器具(16)，并且，所述變動器具(15)被設(shè)計為用于驅(qū)動所述偏轉(zhuǎn)器具(16)，使得通過驅(qū)動所述偏轉(zhuǎn)器具(16)，所述電子束(12)的至少一個參數(shù)、特別是所述電子束(12)在所述靶子(13)上的坐標(biāo)和/或所述電子束(12)在所述靶子(13)上的入射位置和/或所述電子束(12)在所述 靶子(13)上的入射路徑和/或所述電子束(12)在所述靶子(13)上的路線的半徑和/或所述電子束(12)在所述靶子(13)的某個點處的駐留時間中的至少一個參數(shù)被改變或可改變。
7.根據(jù)權(quán)利要求1~5中的任一項的裝置，其特征在于，所述裝置(10)具有用于通過施加的加速電壓來加速電子的加速器具(17)，并且，所述變動器具(15)被設(shè)計為用于驅(qū)動所述加速器具(17)，使得通過驅(qū)動所述加速器具(17)，用于加速入射到所述靶子(13)上的所述電子束(12)的所述加速電壓被改變或可改變。
8.根據(jù)權(quán)利要求1~7中的任一項的裝置，其特征在于，所述變動器具(15)具有用于接收用于產(chǎn)生限定的X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生限定的X射線輻射場和/或用于改變所述電子束源(11)和/或所述電子束(12)的至少一個參數(shù)的外部規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值的接口( 18)，并且/或者具有用于輸入用于產(chǎn)生限定的X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生限定的X射線輻射場和/或用于改變所述電子束源(11)和/或所述電子束(12)的至少一個參數(shù)的規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值的輸入器具(21)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的裝置，其特征在于，所述裝置(10)具有用于由所述規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值計算和/或產(chǎn)生用于改變所述電子束源(11)和/或所述電子束(12)的至少一個參數(shù)的規(guī)范的計算器具(19)，并且/或者，所述變動器具(15)具有用于相對于計算的和/或產(chǎn)生的規(guī)范或接收的和/或輸入的規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值改變所述電子束源(11)和/或所述電子束(12)的至少一個參數(shù)的實現(xiàn)器具(20)。
10.一種用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射場的方法，其中，通過電子源產(chǎn)生電子束，所述電子束被引向靶子，并且通過入射到所述靶子上的所述電子束的電子，產(chǎn)生X射線輻射、特別是X射線輻射場，其特征在于，通過變動器具，改變所述電子束源和/或所述電子束的至少一個參數(shù)，并且，通過所述至少一個參數(shù)的改變，影響X射線輻射、特別是X射線輻射場，并且，通過所述至少一個參數(shù)的改變，特別是改變來自所述靶子的X射線輻射、特別是X射線輻射場的發(fā)射特性。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的方法，其特征在于，通過所述變動器具，控制所述電子束源和/或所述電子束。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11中的任一項的方法，其特征在于，通過所述變動器具，驅(qū)動用于偏轉(zhuǎn)所述電子束的偏轉(zhuǎn)器具，并且，通過所述偏轉(zhuǎn)器具的驅(qū)動，所述電子束的至少一個參數(shù)、特別是所述電子束在所述靶子上的坐標(biāo)和/或所述電子束在所述靶子上的入射位置和/或所述電子束在所述靶子上的入射路徑和/或所述電子束在所述靶子上的路線的半徑和/或所述電子束在所述靶子的一個點上的駐留周期中的至少一個參數(shù)被改變。
13.根據(jù)權(quán)利要求10~12中的任一項的方法，其特征在于，通過所述變動器具，驅(qū)動用于通過施加的加速電壓來加速電子的加速器具，并且，通過所述加速器具的驅(qū)動，用于加速入射到所述靶子上的所述電子束的所述加速電壓被改變。
14.根據(jù)權(quán)利要求10~13中的任一項的方法，其特征在于，通過接口，用于產(chǎn)生限定的X射線輻射、特別是限定的X射線輻射場和/或用于改變所述電子束源和/或所述電子束的至少一個參數(shù)的外·部規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值被接收于所述變動器具中，并且/或者，通過輸入器具，將用于產(chǎn)生限定的X射線輻射、特別是限定的X射線輻射場/或用于改變所述電子束源和/或所述電子束的至少一個參數(shù)的規(guī)范值和/或基準(zhǔn)值輸入到所述變動器具中，并且，基于接收和/或輸入的規(guī)范值或由其在所述變動器具中計算的規(guī)范，通過所述變動器具，所述電子束源和/或所述電子束的至少一個參數(shù)被影響。
15.根據(jù)權(quán)利要求10~14中的任一項的方法，其特征在于，它是通過根據(jù)權(quán)利要求1~9中的任一項的裝置實施的。
【文檔編號】A61N5/10GK103717261SQ201280036459
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2012年7月24日 優(yōu)先權(quán)日:2011年7月25日
【發(fā)明者】F·維岡德 申請人:卡爾蔡斯醫(yī)藥技術(shù)股份公司