技術(shù)編號(hào)：1248445
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于產(chǎn)生X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生X射線輻射場(chǎng)的裝置（10）以及方法，該裝置（10）包括用于產(chǎn)生電子束（12）的電子源（11）和用于通過入射到靶子（13）上的電子產(chǎn)生X射線輻射、特別是X射線輻射場(chǎng)的靶子（13）。本發(fā)明的特征在于，裝置（10）被設(shè)計(jì)為用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射、特別是用于產(chǎn)生可調(diào)整的和/或可改變的X射線輻射場(chǎng)，并且，裝置（10）具有為了影響X射線輻射、特別是X射線輻射場(chǎng)改變電子束源（11）和/或電子束（12）的至...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。