技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種計(jì)算機(jī)斷層攝影系統(tǒng)（10）和一種對(duì)應(yīng)的方法，所述系統(tǒng)和方法能夠跟蹤造影劑材料推注并且涉及減小的輻射劑量。所提出的計(jì)算機(jī)斷層攝影系統(tǒng)（10）包括：包括X射線源（18）和X射線探測(cè)器（30）的采集單元，所述采集單元用于采集投影數(shù)據(jù)集（42、44、46）；重建單元（41），所述重建單元（41）用于從第一投影數(shù)據(jù)集（42）重建規(guī)劃圖像（48）；識(shí)別單元（52），所述識(shí)別單元（52）用于識(shí)別所述規(guī)劃圖像（48）中的感興趣區(qū)域（40）；選擇單元（54），所述選擇單元（54）用于選擇通過(guò)所述感興趣區(qū)域（40）的投影角（60）；計(jì)算器（62），所述計(jì)算器（62）用于針對(duì)所述感興趣區(qū)域（40）的具有所選擇的投影角（60）的投影計(jì)算目標(biāo)投影值（64）；控制單元（32），所述控制單元（32）用于控制所述采集單元以采集第二減小的投影數(shù)據(jù)集（44），所述第二減小的投影數(shù)據(jù)集（44）包括來(lái)自所述感興趣區(qū)域（40）的具有所選擇的投影角（60）的投影的投影數(shù)據(jù)；以及比較器（68），所述比較器（68）用于比較所述第二投影數(shù)據(jù)集（44）的投影值與所述目標(biāo)投影值（64），其中，所述控制單元（32）適于控制所述采集單元以基于比較結(jié)果（70）開(kāi)始采集第三投影數(shù)據(jù)集（46）并且適于從所述第三投影數(shù)據(jù)集（46）重建診斷圖像（50）。

技術(shù)研發(fā)人員：H·施米特;M·格拉斯
受保護(hù)的技術(shù)使用者：皇家飛利浦電子股份有限公司
文檔號(hào)碼：201280004588
技術(shù)研發(fā)日：2012.01.04
技術(shù)公布日：2016.11.30