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用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置的制作方法

文檔序號:914379閱讀:200來源:國知局
專利名稱:用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及醫(yī)療器械領(lǐng)域,特別涉及一種在耳廓再造手術(shù)中使耳支架放置位置與另ー側(cè)正常耳対稱的輔助器械。
背景技術(shù)
耳廓再造手術(shù)適用于先天性或外傷等因素造成的外耳缺損、先天性小耳或無耳,耳廓再造手術(shù)一般分三期進(jìn)行第一期,將擴(kuò)張器埋于乳突區(qū);第二期,取肋軟骨雕塑成型或使用人造耳支架埋在擴(kuò)張器的位置,等待與耳部周圍長好;第三期,修整耳垂及殘耳組織。從上述過程可以看出,耳廓再造手術(shù)是ー種難度較高的整形外科手術(shù),形態(tài)逼真 的耳廓需要與正常耳相同或接近于正常耳,影響手術(shù)效果的因素主要是耳支架的雕刻造型和耳支架埋入擴(kuò)張器位置時(shí)的定位。目前,大部分的患者均有ー側(cè)是正常耳,耳廓再造手術(shù)僅需在另ー側(cè)制作出與正常耳対稱的耳朵即可?,F(xiàn)有技術(shù)中,醫(yī)生在放置耳支架時(shí),通過肉眼觀察、主觀判斷來定位耳支架,使其與正常耳對稱,由于手術(shù)時(shí)患者平躺,醫(yī)生的觀察角度受限,常造成視覺誤差,導(dǎo)致術(shù)后效果不理想。針對上述不足,需探索一種可精確定位耳支架使其與正常耳対稱的裝置,避免醫(yī)生通過肉眼觀察和主觀上的判斷來定位造成術(shù)后效果不理想。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,該裝置可定位于頭部,通過對比測量正常耳的位置來確定耳支架的安放位置,解決現(xiàn)有技術(shù)中僅憑醫(yī)生的肉眼觀察和主觀判斷來定位耳支架而造成術(shù)后效果不理想的技術(shù)問題。本發(fā)明通過以下技術(shù)手段解決上述技術(shù)問題本發(fā)明的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,包括頭圈、上端連接于頭圈前側(cè)正中的參考條、兩根上端與頭圈連接的耳定位條和一一對應(yīng)連接于耳定位條上的對比測量條,所述兩根耳定位條豎直設(shè)置于參考條兩側(cè),所述頭圈、參考條、耳定位條和對比測量條上均設(shè)有長度刻度。進(jìn)一歩,所述頭圈上的長度刻度由頭圈前側(cè)正中向兩側(cè)對稱分布。進(jìn)ー步,所述耳定位條上端與頭圈滑動配合。進(jìn)ー步,所述對比測量條與耳定位條滑動配合。進(jìn)ー步,所述對比測量條為軟條。進(jìn)ー步,所述耳定位條上端與頭圈鉸接形成可前后擺動的結(jié)構(gòu),耳定位條上設(shè)置有0-180度量角器,量角器的O度刻度端固定在耳定位條上。進(jìn)ー步,所述耳定位條上垂直設(shè)置可上下滑動的耳邊緣高度測量尺,所述耳邊緣高度測量尺以可沿其自身軸向往復(fù)滑動的方式設(shè)置于耳定位條上。
進(jìn)ー步,所述頭圈前側(cè)正中設(shè)置有水平儀。本發(fā)明的有益效果本發(fā)明的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,包括頭圈、上端連接于頭圈前側(cè)正中的參考條、兩根上端與頭圈連接的耳定位條和一一對應(yīng)連接于耳定位條上的對比測量條,所述兩根耳定位條豎直設(shè)置于參考條兩側(cè),所述頭圈、耳定位條和對比測量條上均設(shè)有長度刻度,使用吋,將頭圈戴在患者頭部,使參考條與面部中線重合,調(diào)節(jié)兩根耳定位條對稱于參考條,其中一根耳定位條位于正常耳部位,通過耳定位條測量出正常耳的高度位置,通過對比測量條測出正常耳的耳輪腳至眉心的距離、耳屏至外眼角的距離以及耳垂至鼻翼外側(cè)的距離,確定正常耳的前后位置,通過手術(shù)側(cè)的對比測量條及上述數(shù)據(jù)來定位耳支架,同時(shí),還可通過對比測量尺測量耳廓高度,從而使耳支架與正常耳的前翻角度一致,使其與正常耳對稱,避免醫(yī)生肉眼觀察和主觀判斷造,提高手術(shù)效果。


下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)ー步描述。 圖I為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為圖I的左視圖。
具體實(shí)施例方式以下將結(jié)合附圖對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明,如圖所示本實(shí)施例的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,包括頭圈I、上端連接于頭圈I前側(cè)正中的參考條2、兩根上端與頭圈I連接的耳定位條3和一一對應(yīng)連接于耳定位條3上的對比測量條4,頭圈I上設(shè)置ー個(gè)收緊機(jī)構(gòu)制成大小可調(diào)的結(jié)構(gòu),以適應(yīng)不同直徑的頭部,所述兩根耳定位條3豎直設(shè)置于參考條2兩側(cè),所述頭圈I、參考條2、耳定位條3和對比測量條4上均設(shè)有長度刻度,長度刻度便于調(diào)整兩根耳定位條調(diào)整至對稱,以及對正常耳的位置數(shù)據(jù)進(jìn)行測量,測量點(diǎn)主要選取耳輪腳、耳屏和耳垂,并以眉心、眼角和鼻翼作為參照,通過測量數(shù)據(jù)來確定手術(shù)側(cè)耳支架的放置位置,使用方便,定位準(zhǔn)確。作為上述技術(shù)方案的進(jìn)ー步改進(jìn),所述頭圈I上的長度刻度由頭圈I前側(cè)正中向兩側(cè)對稱分布,以頭圈前側(cè)正中為O刻度,便于在調(diào)整耳定位條對稱時(shí)讀數(shù)。作為上述技術(shù)方案的進(jìn)ー步改進(jìn),所述耳定位條3上端套于頭圈I與之滑動配合,方便調(diào)節(jié),可適應(yīng)不同五官特征的患者。作為上述技術(shù)方案的進(jìn)ー步改進(jìn),所述對比測量條4端部套于耳定位條3上并與之滑動配合,可上下調(diào)節(jié),可適應(yīng)不同患者眉眼鼻高度不同的需要。作為上述技術(shù)方案的進(jìn)ー步改進(jìn),所述對比測量條4為軟條,可采用撓性較好的塑料制成,可隨面部特征的凹凸起伏彎曲,測量更精確。作為上述技術(shù)方案的進(jìn)ー步改進(jìn),所述耳定位條3上端與頭圈I鉸接形成可前后擺動的結(jié)構(gòu),耳定位條3上設(shè)置有0-180度量角器6,量角器6的O度刻度端固定在耳定位條3上,使用時(shí),通過ー側(cè)的耳定位條前后擺動來定位正常耳的前后邊緣位置,記錄量角器的角度值,然后根據(jù)該角度值來擺動另ー側(cè)的耳定位條,即可確定耳支架固定的前后位置,定位準(zhǔn)確。作為上述技術(shù)方案的進(jìn)ー步改進(jìn),所述耳定位條3上垂直設(shè)置可上下滑動的耳邊緣高度測量尺7,所述耳邊緣高度測量尺7以可沿其自身軸向往復(fù)滑動的方式設(shè)置于耳定位條3上,耳邊緣高度測量尺7 —般不超過5cm,可用于測量耳朵邊緣與顱骨的距離,采用上述以正常耳為參照的方法,同樣可以保證雙側(cè)耳邊緣距離顱骨的距離一致。作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn),所述頭圈I前側(cè)正中設(shè)置有水平儀5,便于使患者平躺時(shí)面部垂直朝上進(jìn)行觀察或進(jìn)行其他操作。 最后說明的是,以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制,盡管參照較佳實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的宗旨和范圍,其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求
1.一種用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,其特征在于包括頭圈(I)、上端連接于頭圈(I)前側(cè)正中的參考條(2)、兩根上端與頭圈(I)連接的耳定位條(3)和一一對應(yīng)連接于耳定位條(3)上的對比測量條(4),所述兩根耳定位條(3)豎直設(shè)置于參考條(2)兩側(cè),所述頭圈(I)、參考條(2)、耳定位條(3)和對比測量條(4)上均設(shè)有長度刻度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,其特征在于所述頭圈(I)上的長度刻度由頭圈(I)前側(cè)正中向兩側(cè)對稱分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,其特征在于所述耳定位條(3)上端與頭圈(I)滑動配合。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,其特征在于所述對比測量條⑷與耳定位條⑶滑動配合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,其特征在于所述對比測量條(4)為軟條。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,其特征在于所述耳定位條(3)上端與頭圈(I)鉸接形成可前后擺動的結(jié)構(gòu),耳定位條(3)上設(shè)置有0-180度量角器出),量角器出)的0度刻度端固定在耳定位條(3)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,其特征在于所述耳定位條(3)上垂直設(shè)置可上下滑動的耳邊緣高度測量尺(7),所述耳邊緣高度測量尺(7)以可沿其自身軸向往復(fù)滑動的方式設(shè)置于耳定位條(3)上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任意一項(xiàng)所述的用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,其特征在于所述頭圈(I)前側(cè)正中設(shè)置有水平儀(5)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于耳廓再造手術(shù)的耳支架定位裝置,包括頭圈、上端連接于頭圈前側(cè)正中的參考條、兩根上端與頭圈連接的耳定位條和一一對應(yīng)連接于耳定位條上的對比測量條,所述兩根耳定位條豎直設(shè)置于參考條兩側(cè),所述頭圈、耳定位條和對比測量條上均設(shè)有長度刻度,使用時(shí),將頭圈戴在患者頭部,使參考條與面部中線重合,調(diào)節(jié)兩根耳定位條對稱于參考條,其中一根耳定位條位于正常耳部位,通過對比測量條測出正常耳的耳輪腳至眉心的距離、耳屏至外眼角的距離以及耳垂至鼻翼外側(cè)的距離,通過手術(shù)側(cè)的對比測量條及上述三個(gè)距離數(shù)據(jù)來定位耳支架,同時(shí),還可通過對比測量尺測量耳廓高度,從而使耳支架與正常耳的前翻角度一致,使其與正常耳對稱。
文檔編號A61F11/00GK102727342SQ20121017686
公開日2012年10月17日 申請日期2012年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月31日
發(fā)明者樊東力, 潘正英, 王韶亮, 石小花, 趙映蘭 申請人:中國人民解放軍第三軍醫(yī)大學(xué)第二附屬醫(yī)院
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