專(zhuān)利名稱(chēng)：氣霧壓浴系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于通過(guò)使將二氧化碳、或者氧氣、或者二氧化碳和氧氣的混合氣體 (以下稱(chēng)作“氣體”)與液體霧化并溶解得到的霧(以下稱(chēng)作“氣霧”)以規(guī)定值以上的壓力 直接與機(jī)體的皮膚和粘膜接觸來(lái)提高從皮膚和粘膜吸收氣體的效率的氣霧壓浴系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
以往，公知由于二氧化碳(CO2)具有既易溶于水(水溶性)、又易溶于油(脂溶性) 的性質(zhì)，使其具有只要與類(lèi)似于水油混合物的機(jī)體的皮膚和粘膜接觸，就可滲透到其皮下、 使?jié)B透部位的血管擴(kuò)張，從而改善血液循環(huán)的作用。而且通過(guò)該血液循環(huán)促進(jìn)作用，發(fā)揮著 降低血壓、改善代謝、促進(jìn)疼痛物質(zhì)或廢物排出等各種各樣的生理功效。另外，還具有抗炎、 抗菌作用。因此，近年來(lái)，二氧化碳除了在醫(yī)療目的方面，在增進(jìn)健康、促進(jìn)美容方面也受到 了廣泛的關(guān)注。
在機(jī)體的組織中，二氧化碳具有與紅血球內(nèi)的血紅蛋白結(jié)合以釋放運(yùn)送的氧氣的 作用。在二氧化碳濃度高的地方，紅血球釋放出更多的氧氣。這樣，主要由二氧化碳來(lái)控制 由紅血球向細(xì)胞供給氧氣。即，沒(méi)有二氧化碳，血紅蛋白處于與氧氣結(jié)合著的狀態(tài)，細(xì)胞就 不能接受氧氣。這樣，二氧化碳容易被認(rèn)為是如細(xì)胞活動(dòng)的結(jié)果帶來(lái)的廢物，但是實(shí)際上在 體內(nèi)起著非常重要的作用。
另外，近來(lái)，公知高濃度氧氣對(duì)新陳代謝的活性、促進(jìn)血液循環(huán)、疲勞恢復(fù)、血壓穩(wěn) 定等具有效果。除此之外，氧氣還具有由氧化作用帶來(lái)的殺菌、滅菌效果。
作為用于使機(jī)體吸收二氧化碳的以往技術(shù)，利用最廣泛的有
(1)在水中產(chǎn)生二氧化碳的沐浴劑。該沐浴劑投入到浴池的熱水中時(shí)，通過(guò)沐浴劑 中所含的碳酸鹽與酸反應(yīng)而產(chǎn)生二氧化碳，并溶解于熱水中。該熱水中所溶解的二氧化碳 與沐浴的人的皮膚接觸并滲透到皮下，發(fā)揮上述的生理效果。
進(jìn)而，作為用于使二氧化碳更多地與機(jī)體接觸的以往技術(shù)，公知有(2) 二氧化碳 沐浴裝置。這是使二氧化碳噴出并擴(kuò)散到熱水中，使之高濃度地溶解的裝置。而且，通過(guò)在 溶解了二氧化碳的沐浴水中沐浴，可以與上述沐浴劑同樣地使二氧化碳直接與皮膚接觸。
另外，至此還公開(kāi)有(3)將安裝在人體表面的一部分并與人體表面一起形成密閉 空間的罩安裝在人體上，由二氧化碳供給單元將二氧化碳導(dǎo)入該密閉空間內(nèi)，以進(jìn)行二氧 化碳浴的促進(jìn)血液循環(huán)裝置(例如專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。
進(jìn)一步，至此本發(fā)明人提出了(4) 一種二氧化碳?jí)涸⊙b置，該裝置至少包括二氧 化碳供給單元；加壓?jiǎn)卧灰约坝糜诟采w人體的皮膚、并以規(guī)定值以上的壓力使二氧化碳 與人體的皮膚接觸的覆蓋部件。
另外，作為用于使機(jī)體吸收氧氣的以往技術(shù)，公知的有(5)高濃度氧氣沐浴裝置。 這是與二氧化碳沐浴裝置同樣地，使氧氣噴出并擴(kuò)散到熱水中，通過(guò)在其中沐浴，使氧氣直 接與皮膚接觸的裝置。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)4
專(zhuān)利文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)1 特開(kāi)平07-171189號(hào)公報(bào) 發(fā)明內(nèi)容
然而，上述(1)、(2)、(5)的以往技術(shù)全部為沐浴時(shí)使二氧化碳或氧氣在沐浴水中 溶解，使機(jī)體的皮膚吸收二氧化碳或氧氣的技術(shù)。因此，具有只能在沐浴時(shí)使用的缺點(diǎn)。另 外，由于二氧化碳易溶于水，另一方面又易從水中擴(kuò)散出來(lái)，還存在為了使之溶解在沐浴水 中，即使消耗大量的二氧化碳，皮膚的吸收率無(wú)論如何都不高的問(wèn)題。
另一方面，上述(3)、(4)的以往技術(shù)，由于使二氧化碳直接與機(jī)體接觸，與(1)、 (2)的以往技術(shù)相比較，效果好，效率也好。但是，關(guān)于最佳地控制覆蓋材料(罩)內(nèi)導(dǎo)入的 二氧化碳或氧氣的量、壓力、以及霧的量等，在上述以往的裝置中沒(méi)有特別涉及。
本發(fā)明鑒于上述以往的問(wèn)題，目的在于提供一種能夠控制氣體和液體的量、壓力 等，并以最佳的狀態(tài)使機(jī)體的皮膚和粘膜吸收氣霧的氣霧壓浴系統(tǒng)。
本發(fā)明為了解決上述問(wèn)題，提供了一種氣霧壓浴系統(tǒng)，該氣霧壓浴系統(tǒng)為用于使 通過(guò)將規(guī)定值以上濃度的二氧化碳、或者氧氣、或者二氧化碳和氧氣的混合氣體(以下稱(chēng) 作“氣體”)與液體霧化并溶解而得到的霧(以下稱(chēng)作“氣霧”)與機(jī)體的皮膚和粘膜接觸 的系統(tǒng)，其特征在于，該氣霧壓浴系統(tǒng)包括氣體供給單元；液體供給單元；氣霧供給單元， 該氣霧供給單元用于將液體存儲(chǔ)在內(nèi)部，使氣體噴出到該存儲(chǔ)的液體中，同時(shí)通過(guò)對(duì)所述 液體施加超聲波振動(dòng)，以生成并供給氣霧；以及，機(jī)體罩部件，該機(jī)體罩部件用于覆蓋所述 機(jī)體的皮膚和粘膜，以形成將由所述氣霧供給單元供給的氣霧封入內(nèi)部的空間；并且該氣 霧壓浴系統(tǒng)使所述機(jī)體罩部件內(nèi)的氣霧以規(guī)定值以上的壓力與機(jī)體的皮膚和粘膜接觸。
另外，在本申請(qǐng)中，將液體霧化成為微細(xì)的液滴并與氣體(二氧化碳、氧氣、或者 二氧化碳和氧氣的混合氣體)接觸混合稱(chēng)作霧化并溶解。
在此，優(yōu)選本發(fā)明的氣霧壓浴系統(tǒng)還包括傳感器，該傳感器用于測(cè)量所述氣體、 液體、以及氣霧的供給狀態(tài)；以及，控制單元，該控制單元用于根據(jù)所述傳感器的測(cè)量值進(jìn) 行所述氣體、液體、以及氣霧的供給控制。
另外，優(yōu)選本發(fā)明的氣霧壓浴系統(tǒng)還包括用于對(duì)所述機(jī)體罩部件進(jìn)行加壓的加壓?jiǎn)卧?br> 在此，所述控制單元還可以間歇性地向所述機(jī)體罩部件內(nèi)供給所述氣霧，對(duì)所述 機(jī)體罩部件進(jìn)行間歇加壓(脈沖加壓)?；蛘咚黾訅?jiǎn)卧€可以間歇性地?cái)D壓所述機(jī)體 罩部件，以對(duì)該機(jī)體罩部件進(jìn)行間歇加壓(脈沖加壓)。
另外，最優(yōu)選所述液體為水、離子水、生理食鹽水、臭氧水、純凈水、或者無(wú)菌純凈 水中的任意一種或多種的組合。而且，優(yōu)選所述液體還含有薄荷醇、維生素E、維生素C衍 生物、松香油、麻醉劑、環(huán)糊精、光催化劑、光催化劑和磷灰石的復(fù)合體、透明質(zhì)酸、輔酶Q10、 棉籽油、蜂巢蠟?zāi)z、乙醇、葡萄糖酸氯己定、兩性表面活性劑、苯扎氯銨、乙酸烷基二氨基醚 甘氨酸(酢酸7 l· > 7 7· S 7工〒；>/ -j V > )、次氯酸鈉、過(guò)乙酸、倍半碳酸鈉、二氧化 硅、聚維酮碘、碳酸氫鈉、高濃度碳酸泉?jiǎng)?炭酸泉?jiǎng)?、抗變態(tài)反應(yīng)藥、抗炎藥、解熱鎮(zhèn)痛 藥、抗真菌藥、抗流感病毒藥、抗癌藥、降壓藥、化妝劑、增毛劑、生毛劑、或育毛劑中的任意 一種或多種。
另外，優(yōu)選所述液體以加熱的狀態(tài)供給到所述氣霧供給單元。而且優(yōu)選由所述氣 霧供給單元供給到所述機(jī)體罩部件的所述霧的粒徑為10 μ m以下。
另外，優(yōu)選所述控制單元將氣霧壓浴時(shí)的所述機(jī)體罩部件內(nèi)的壓力保持在1.02 個(gè)大氣壓至2. 5個(gè)大氣壓。
另外，該氣霧壓浴系統(tǒng)還可以包括電荷施加單元，該電荷施加單元用于對(duì)所述氣 霧供給單元供給的霧施加電荷。此時(shí)，優(yōu)選所述電荷為負(fù)電荷。
另外，優(yōu)選所述氣霧供給單元具有用于向所述機(jī)體罩部件內(nèi)供給氣霧的氣霧供給 管，該氣霧供給管具備用于除去附著在管內(nèi)的液滴的過(guò)濾器。進(jìn)一步優(yōu)選該氣霧供給管的 全部或部分由波紋管構(gòu)成。另外，優(yōu)選該氣霧供給管上設(shè)置有單向閥。
另外，優(yōu)選在所述機(jī)體罩部件的氣霧的供給口上也設(shè)置有單向閥。
進(jìn)一步，優(yōu)選所述氣霧供給單元具有用于存儲(chǔ)所述液體和所述氣霧的存儲(chǔ)部；該 存儲(chǔ)部面向具有彎曲面的上部為凸起的圓頂型形狀，并且在該圓頂型的大致頭頂部形成有 氣霧排出部。優(yōu)選在所述存儲(chǔ)部?jī)?nèi)配置有一個(gè)或多個(gè)板，該板上設(shè)置有用于將所述氣霧微 細(xì)化的細(xì)孔。
另外，優(yōu)選在所述機(jī)體罩部件內(nèi)的壓力值為規(guī)定值以上時(shí)，所述控制單元停止來(lái) 自所述氣體供給單元的氣體的供給。
根據(jù)本發(fā)明的氣霧壓浴系統(tǒng)，能夠通過(guò)控制裝置來(lái)控制機(jī)體壓浴罩內(nèi)的氣霧的 量、壓力等，因此能夠一直以最佳的狀態(tài)進(jìn)行氣霧壓浴。
另外，容易進(jìn)行機(jī)體壓浴罩內(nèi)的加壓，可以更有效地進(jìn)行氣體的經(jīng)皮吸收。


圖1是本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)的整體示意圖2是表示用于本發(fā)明所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)中的氣霧供給管的一個(gè)例子的示 意圖3是表示本發(fā)明所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)中的氣霧供給裝置內(nèi)配置的板的一個(gè) 例子的示意圖4是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)中的機(jī)體壓浴罩的形 狀例(其一)的示意圖5是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)中的機(jī)體壓浴罩的形 狀例(其二)的示意圖6是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)中的的機(jī)體壓浴罩的 形狀例(其三)的示意圖7是本發(fā)明的第二實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)的整體示意圖8是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)中的機(jī)體壓浴罩的形 狀例(其一)的示意圖9是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)中的機(jī)體壓浴罩的形 狀例(其二)的示意圖10是本發(fā)明的第三實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)的整體示意圖。
具體實(shí)施方式
以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
〔第一實(shí)施方式)
圖1是本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)的整體示意圖。如圖所示， 本實(shí)施方式的氣霧壓浴系統(tǒng)包括氣體供給單元11 ；液體供給單元21 ；氣霧供給裝置31， 該氣霧供給裝置31用于將液體存儲(chǔ)在內(nèi)部，使氣體噴出到該存儲(chǔ)的液體中，同時(shí)通過(guò)對(duì) 所述液體施加超聲波振動(dòng)，以產(chǎn)生通過(guò)將氣體和液體霧化并溶解得到的霧(以下稱(chēng)作“氣 霧”)，并加壓供給氣霧；機(jī)體壓浴罩41，該機(jī)體壓浴罩41用于形成將所供給的氣霧封入內(nèi) 部的空間；以及，控制裝置51，該控制裝置51用于進(jìn)行氣霧的生成和供給控制。
氣體供給單元11向氣霧供給裝置31中所存儲(chǔ)的液體中供給氣體。但是，在向機(jī) 體壓浴罩41內(nèi)充分供給了氣霧的情況下，如圖1的虛線所示，不是向所存儲(chǔ)的液體中，而是 直接向氣霧供給裝置31的存儲(chǔ)部32中供給氣體，供給到機(jī)體壓浴罩41內(nèi)。作為該氣體供 給單元11，最優(yōu)選使用儲(chǔ)氣瓶。在氣體供給單元11上設(shè)置有用于調(diào)節(jié)氣體的壓力的調(diào)節(jié)器 12。另外，雖然省略了圖示，但是在氣體供給單元11上還可以配置用于加熱氣體的加熱器 或者用于控制溫度的溫度計(jì)。
液體供給單元21由泵等構(gòu)成，對(duì)氣霧供給裝置31供給液體。作為該液體，優(yōu)選使 用水、離子水、生理食鹽水、臭氧水、純凈水、或者無(wú)菌純凈水。進(jìn)一步，這些液體中還可以含 有對(duì)使用者的疾病、癥狀等有效的藥劑。所謂藥劑，可舉出例如抗變態(tài)反應(yīng)藥、抗炎藥、解熱 鎮(zhèn)痛藥、抗真菌藥、抗流感病毒藥、抗癌藥、降壓藥、化妝劑、增毛劑、生毛劑、育毛劑等。進(jìn)一 步，還可以將具有清涼作用的薄荷醇；促進(jìn)血液循環(huán)的維生素E ；易被皮膚組織吸收且美膚 效果好的維生素C衍生物；使皮膚的角質(zhì)化作用正常且保護(hù)粘膜的松香油；用于緩和對(duì)粘 膜的刺激的麻醉劑；用于除去臭氣的環(huán)糊精；具有殺菌、消炎效果的光催化劑或光催化劑 和磷灰石的復(fù)合體；保水力良好、具有肌膚保濕效果的透明質(zhì)酸；活化細(xì)胞、使免疫力提高 的輔酶QlO ；含有抗氧化物質(zhì)和大量的營(yíng)養(yǎng)素的棉籽油；具有抗氧化作用、抗菌作用、抗炎 作用、鎮(zhèn)痛和麻醉作用、免疫作用等的蜂巢蠟?zāi)z等單獨(dú)或者多種組合混合，可以產(chǎn)生與氣體 的生理作用的協(xié)同效果?；蛘撸€可以添加乙醇、葡萄糖酸氯己定、兩性表面活性劑、苯扎氯 銨、乙酸烷基二氨基醚甘氨酸、次氯酸鈉、過(guò)乙酸、倍半碳酸鈉、二氧化硅、聚維酮碘、碳酸氫 鈉。進(jìn)一步，還可以添加以碳酸鹽和有機(jī)酸為主要成分的高濃度碳酸泉?jiǎng)?作為有效成分 的一個(gè)例子，有硫酸鹽、碳酸鹽、有機(jī)酸、二氯異氰尿酸鈉)。
另外，優(yōu)選在該液體供給單元21中配置用于加熱(例如使水成為40°C左右的熱 水)液體的加熱器(未圖示)、或者用于控制溫度的溫度計(jì)(未圖示)。
氣霧供給裝置31具有存儲(chǔ)部32，該存儲(chǔ)部32用于存儲(chǔ)氣體、液體和氣霧；超聲 波振子33，該超聲波振子33用于對(duì)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部32中的液體施加超聲波振動(dòng)，以生成氣 霧；氣霧排出口 34，該氣霧排出口 34用于排出所生成的氣霧。另外，雖然省略了圖示，但是 分別設(shè)置有用于將分別來(lái)自氣體供給單元11、液體供給單元21的氣體、液體導(dǎo)入存儲(chǔ)部 32的氣體供給口、液體供給口。
從氣體供給單元11向存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部32中的液體中噴出氣體。通過(guò)向液體中噴出 氣體，可以使氣體溶解在液體中。通過(guò)超聲波振子33對(duì)溶解有氣體的液體施加超聲波振 動(dòng)。超聲波振子33具有壓電元件，其振動(dòng)面暴露在存儲(chǔ)部32中并直接與液體接觸，或者以與存儲(chǔ)部32的底面接觸的方式被配置。壓電元件工作時(shí)，超聲波振動(dòng)被傳送到液體，同時(shí) 從液面產(chǎn)生微細(xì)的液滴，與被供給的氣體一道被霧化并溶解，成為霧。此時(shí)，生成的霧的粒 徑優(yōu)選是較微小的，具體地，最優(yōu)選為10 μ m以下。
生成的氣霧充滿于存儲(chǔ)部32內(nèi)，由于氣體的對(duì)流而被從氣霧排出口 34排出。在 此，如圖1所示，存儲(chǔ)部32優(yōu)選為面向具有彎曲面的上部為凸起的圓頂型形狀。并且，在圓 頂型的大致頭頂部設(shè)置氣霧排出口 34。通過(guò)這樣的形狀，可以盡可能地防止霧與存儲(chǔ)部32 的內(nèi)壁上部接觸變回液體而下落到存儲(chǔ)部32的底部，同時(shí)可以存儲(chǔ)更多的氣霧。
由氣霧排出口 34被排出的氣霧，通過(guò)氣霧供給管35被供給到機(jī)體壓浴罩41內(nèi)。 氣霧供給管35與機(jī)體壓浴罩41的供給口 43連接。在該氣霧供給管35上設(shè)置有用于除去 附著在管內(nèi)多余的液滴的液滴除去過(guò)濾器36。另外，雖然圖中未示出，在該氣霧供給管35 的內(nèi)部設(shè)置有用于防止氣霧和氣體的逆流的單向閥。
而且，如圖2所示，氣霧供給管35，優(yōu)選其全部或部分由管徑粗的柔軟的波紋管 35A構(gòu)成。這樣，由波紋管35A構(gòu)成時(shí)，由于可以自在地彎曲、伸縮，因此對(duì)使用者的活動(dòng)沒(méi) 有限制。另外，即使流過(guò)氣霧供給管35的氣霧逐漸液化，也可以在波紋的凹凸部除去該液 體。
另外，如圖3(a)所示，還可以在氣霧供給裝置31的存儲(chǔ)部32設(shè)置有一個(gè)或多個(gè) (在圖3中以?xún)蓚€(gè)為例)板31A、31B。如圖3(b)、(c)所示，在板31A、31B上分別設(shè)置有多 個(gè)細(xì)孔，生成的氣霧通過(guò)該細(xì)孔進(jìn)一步微細(xì)化。此時(shí)，在位于上面的板31A和位于下面的板 31B中，優(yōu)選上面的板31A的細(xì)孔的直徑比下面的板31B的細(xì)孔的直徑小。
機(jī)體壓浴罩41為能夠用于覆罩機(jī)體(在此以人體的下肢為例)的皮膚和粘膜、以 形成將氣霧和氣體封入內(nèi)部的空間的罩。該機(jī)體壓浴罩41由耐壓性、非透氣性、非透濕性 材料構(gòu)成。例如優(yōu)選由天然橡膠、硅橡膠、聚乙烯、聚丙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、聚乙酸 乙烯酯、聚氯乙烯、聚酰胺系樹(shù)脂、聚四氟乙烯等形成。而且，具有用于將氣霧和氣體導(dǎo)入內(nèi) 部的供給口 43。該供給口 43的內(nèi)部設(shè)置有用于防止氣霧和氣體的逆流的單向閥。另外，為 了調(diào)節(jié)內(nèi)部的壓力，還可以在機(jī)體壓浴罩41上設(shè)置能夠排出氣體和氣霧的開(kāi)口和閥門(mén)。而 且，這些的壓力調(diào)節(jié)可以手動(dòng)進(jìn)行，但是優(yōu)選根據(jù)后述的壓力計(jì)61的測(cè)量值，通過(guò)控制裝 置51自動(dòng)地進(jìn)行氣體和氣霧的供給控制。另外，還可以設(shè)置機(jī)體壓浴罩41內(nèi)達(dá)到一定壓 力以上時(shí)自動(dòng)地打開(kāi)閥門(mén)的安全閥(溢流閥)。
機(jī)體壓浴罩41內(nèi)設(shè)置有用于測(cè)量其內(nèi)部的壓力的壓力計(jì)61。為了將機(jī)體壓浴罩 41內(nèi)的壓力值保持在1個(gè)大氣壓以上(更優(yōu)選為1. 02-2. 5個(gè)大氣壓左右)，控制裝置51 根據(jù)該壓力計(jì)61的測(cè)量值來(lái)控制氣霧和氣體的供給。例如，調(diào)節(jié)并停止來(lái)自氣體供給單元 11、氣霧供給裝置31的氣體和氣霧的供給，或者由機(jī)體壓浴罩41排出氣霧和氣體。另外， 在機(jī)體壓浴罩41的內(nèi)部設(shè)置有用于測(cè)量機(jī)體壓浴罩41內(nèi)的溫度的溫度計(jì)62。為了將機(jī)體 壓浴罩41內(nèi)保持在得到溫浴效果的設(shè)定溫度(例如為38°C左右)，控制裝置51根據(jù)溫度 計(jì)62的測(cè)量值來(lái)進(jìn)行設(shè)置在液體供給單元21上的加熱器的開(kāi)和關(guān)等。
在機(jī)體壓浴罩41的開(kāi)口部設(shè)置有機(jī)體(在此為人體的下肢)能夠穿脫并且用于 防止封入在內(nèi)部的氣霧和氣體漏出的閉鎖部42。閉鎖部42例如優(yōu)選由具有伸縮性的尼龍 搭扣構(gòu)成?；蛘哌€可以單獨(dú)或組合使用細(xì)繩或橡膠等。進(jìn)一步，為了提高機(jī)體壓浴罩41內(nèi) 的密閉性，還可以在機(jī)體壓浴罩41的內(nèi)側(cè)面(閉鎖部42的內(nèi)側(cè)面等)配置能夠粘著在使用者的皮膚上的材料。該粘著材料優(yōu)選為例如由聚氨酯或硅橡膠等形成的粘彈性凝膠。進(jìn) 一步，該粘著材料優(yōu)選設(shè)置成可拆下，且每次使用時(shí)或粘性變?nèi)鯐r(shí)可以交換的結(jié)構(gòu)。
控制裝置51由包括CPU、存儲(chǔ)器、顯示器的電腦構(gòu)成。而且，能夠進(jìn)行下述的各 種控制，以最佳的狀態(tài)進(jìn)行氣霧壓浴。各種控制如下由氣體供給單元11供給的氣體的壓 力調(diào)節(jié)或開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn)換；來(lái)自液體供給單元21的液體的供給壓調(diào)節(jié)或溫度調(diào)節(jié)、供給的開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn) 換；氣霧供給裝置31的超聲波振子33的開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn)換；氣霧的供給的開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn)換等。尤其是機(jī)體 壓浴罩41內(nèi)的壓力值為規(guī)定值以上的情況時(shí)，優(yōu)選構(gòu)成為通過(guò)控制裝置51來(lái)停止氣體供 給單元11的氣體的供給。
因此，在使用本實(shí)施方式的氣霧壓浴系統(tǒng)進(jìn)行氣霧壓浴時(shí)，將機(jī)體壓浴罩41固定 在機(jī)體(在此為人體的下肢)上并密閉。并且，由液體供給單元21向氣霧供給裝置31供給 液體，接著，由氣體供給單元11向該液體中供給氣體。接著，通過(guò)開(kāi)動(dòng)超聲波振子33，通過(guò) 超聲波生成氣霧。此時(shí)控制裝置51進(jìn)行液體和氣體的供給壓力、量、溫度等的調(diào)節(jié)。生成 的氣霧由供給口 43被供給到機(jī)體壓浴罩41內(nèi)。機(jī)體壓浴罩41內(nèi)充分填充霧后，由氣體供 給單元11不是向所存儲(chǔ)的液體中，而是直接向氣霧供給裝置31的存儲(chǔ)部32中供給氣體。 此時(shí)，優(yōu)選在機(jī)體壓浴罩41內(nèi)以氣體為約95-97%、液體為約3-5%的比例存在。在霧中以 約40ppm的濃度溶解氣體，其氣泡尺寸優(yōu)選為約232pm左右。根據(jù)壓力計(jì)61、溫度計(jì)62的 測(cè)量值，機(jī)體壓浴罩41內(nèi)成為最佳的加壓、加熱狀態(tài)(約1.02-2. 5個(gè)大氣壓，約38°C)時(shí)， 控制裝置51暫停氣霧或氣體的供給，在該狀態(tài)下進(jìn)行氣霧壓浴。
另外，在上述中，作為進(jìn)行氣霧壓浴的機(jī)體的部位，以人體的下肢為例進(jìn)行了說(shuō) 明，但是本發(fā)明可以適用于各種各樣的部位。此時(shí)，使用與對(duì)象部位相吻合的形狀的機(jī)體壓 浴罩41，以進(jìn)行最佳的氣霧壓浴。
圖4-6表示各種機(jī)體壓浴罩41的形狀的例子。首先，圖4表示人體的上半身用的 機(jī)體壓浴罩41A的概況。該機(jī)體壓浴罩41A為覆蓋包裹上半身整體的形狀，腰部的開(kāi)口可 穿脫并設(shè)置有用于防止封入在內(nèi)部的氣霧和氣體漏出的閉鎖部42A。另外，在頸部的開(kāi)口也 同樣地設(shè)置有閉鎖部44A。另外，43A為用于將氣霧和氣體導(dǎo)入內(nèi)部的供給口。
圖5表示覆蓋機(jī)體的局部的機(jī)體壓浴罩41的形狀的例子。圖5(a)是人體的一 個(gè)下肢(膝以下部分)用的機(jī)體壓浴罩41B。該機(jī)體壓浴罩41B在其開(kāi)口部設(shè)置有閉鎖部 42B，并設(shè)置有用于將氣霧和氣體導(dǎo)入內(nèi)部的供給口 43B。圖5(b)是人體的腳部用的機(jī)體壓 浴罩41C。該機(jī)體壓浴罩41C在其開(kāi)口部設(shè)置有閉鎖部42C，并設(shè)置有用于將氣霧和氣體導(dǎo) 入內(nèi)部的供給口 43C。圖5(c)是人體的前臂用的機(jī)體壓浴罩41D。該機(jī)體壓浴罩41D在其 開(kāi)口部設(shè)置有閉鎖部42D，并設(shè)置有用于將氣霧和氣體導(dǎo)入內(nèi)部的供給口 43D。圖5(d)是 人體的手部用的機(jī)體壓浴罩41E。該機(jī)體壓浴罩41E在其開(kāi)口部設(shè)置有閉鎖部42E，并設(shè)置 有用于將氣霧和氣體導(dǎo)入內(nèi)部的供給口 43E。
進(jìn)一步，圖6表示補(bǔ)丁狀機(jī)體壓浴罩41F的例子。圖6 (a)為表示該補(bǔ)丁狀的機(jī)體 壓浴罩41F的示意圖，圖6(b)為表示將該補(bǔ)丁狀的機(jī)體壓浴罩41F安裝在機(jī)體(此處為人 體下肢)上時(shí)的外觀的圖。機(jī)體壓浴罩41F包括罩部45F，該罩部45F用于覆罩機(jī)體的皮 膚和粘膜；閉鎖部42F，該閉鎖部42F設(shè)置在該罩部45F的周?chē)?，并直接粘著在機(jī)體的皮膚 和粘膜上；供給口 43F，該供給口 43F用于在罩部45F和閉鎖部42F形成的空間內(nèi)供給氣霧 和氣體；以及固定部44F，該固定部44F用于將罩部45F固定在機(jī)體上并且由帶或細(xì)繩等形9成。
機(jī)體壓浴罩41還可以為除圖4-6示出的例子之外的各種各樣的形狀。只要是能 夠覆罩機(jī)體的皮膚和粘膜、以形成將氣霧和氣體封入內(nèi)部的空間的形狀，任何形狀均可。另 外，為了進(jìn)行在機(jī)體壓浴罩41內(nèi)的氣霧和氣體的排出和壓力調(diào)節(jié)，還可以設(shè)置排氣口。進(jìn) 一步，本發(fā)明不僅適用于人體，還可以適用于動(dòng)物等所有機(jī)體。
另外，在氣霧壓浴時(shí)由于通過(guò)以規(guī)定的間隔進(jìn)行脈沖狀加壓能夠提高效果，因此， 控制裝置51還可以以一定的節(jié)奏間歇性地向機(jī)體壓浴罩41內(nèi)供給氣霧。此時(shí)的間歇加壓 的間隔基本與脈搏的跳動(dòng)同步時(shí)，效果變得更好。
〔第二實(shí)施方式)
圖7是本發(fā)明的第二實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)的整體示意圖。在本實(shí)施 方式中，對(duì)進(jìn)一步包括使機(jī)體壓浴罩內(nèi)的加壓容易進(jìn)行的加壓?jiǎn)卧臍忪F壓浴系統(tǒng)進(jìn)行說(shuō) 明。另外，關(guān)于與圖1表示的第一實(shí)施方式的相同的部分，標(biāo)記相同的符號(hào)，省略詳細(xì)的說(shuō) 明。
如圖7所示，在本實(shí)施方式的氣霧壓浴系統(tǒng)中，包括機(jī)體壓浴罩81，該機(jī)體壓浴 罩81用于形成將氣霧和氣體封入內(nèi)部的空間；以及，加壓部(儲(chǔ)氣器)71，該加壓部71與 該機(jī)體壓浴罩81相連設(shè)置，用于對(duì)機(jī)體壓浴罩81內(nèi)進(jìn)行加壓。
機(jī)體壓浴罩81為與第一實(shí)施方式中表示的機(jī)體壓浴罩41基本相同的結(jié)構(gòu)，包括 閉鎖部82與氣霧和氣體的供給口 83。但是，氣霧的供給口 83在此與加壓部71連接。另 外，在此，作為例子，圖示出了覆蓋人體的手部的形狀的機(jī)體壓浴罩81。
為了對(duì)機(jī)體壓浴罩81內(nèi)進(jìn)行加壓，加壓部71為與機(jī)體壓浴罩81相連設(shè)置的中空 的儲(chǔ)氣器。該加壓部71與機(jī)體壓浴罩81的供給口 83相連，而且自身也具有供給口 72，由 此氣霧或氣體被供給到內(nèi)部。另外，加壓部71的供給口 72也設(shè)置有用于防止氣霧和氣體 在內(nèi)部逆流的單向閥。在該加壓部71收集氣霧或氣體后，如圖中箭頭所示，以趨向于擠爆 的方式擠壓加壓部71進(jìn)行加壓。加壓部71內(nèi)的氣霧或氣體以溢至機(jī)體壓浴罩81內(nèi)的方 式被排出，因此可以對(duì)機(jī)體壓浴罩81內(nèi)進(jìn)行加壓。
另外，加壓部71可以為手動(dòng)進(jìn)行擠壓的結(jié)構(gòu)，也可以利用驅(qū)動(dòng)裝置等通過(guò)控制裝 置51的控制進(jìn)行機(jī)械擠壓。如上所述，在氣霧壓浴時(shí)由于通過(guò)以規(guī)定的間歇進(jìn)行脈沖狀加 壓能夠提高效果，因此，還可以以一定的節(jié)奏間歇性地?cái)D壓加壓部71。此時(shí)的間歇加壓的間 隔基本與脈搏的跳動(dòng)同步時(shí)，效果變得更好。
因此，在使用本實(shí)施方式的氣霧壓浴系統(tǒng)進(jìn)行氣霧壓浴時(shí)，將機(jī)體壓浴罩81固定 在機(jī)體(在此為人體的手部)上并密閉。并且，由液體供給單元21向氣霧供給裝置31供 給液體，接著，由氣體供給單元11向該液體中供給氣體。接著，通過(guò)開(kāi)動(dòng)超聲波振子33，通 過(guò)超聲波生成氣霧。此時(shí)控制裝置51進(jìn)行液體和氣體的供給壓力、量、溫度等的調(diào)節(jié)。生 成的氣霧通過(guò)加壓部71由供給口 83被供給到機(jī)體壓浴罩81內(nèi)。機(jī)體壓浴罩81內(nèi)充分填 充霧后，由氣體供給單元11不是向所存儲(chǔ)的液體中，而是直接向氣霧供給裝置31的存儲(chǔ)部 32中供給氣體。此時(shí)，優(yōu)選在機(jī)體壓浴罩81內(nèi)以氣體為約95-97%、液體為約3-5%的比例 存在。在霧中以約40ppm的濃度溶解氣體，其氣泡尺寸優(yōu)選為約232pm左右。控制裝置51 根據(jù)溫度計(jì)62的測(cè)量值，將機(jī)體壓浴罩81內(nèi)控制成為最佳的溫度(例如約38°C)。而且， 在機(jī)體壓浴罩81和加壓部71收集最佳量的氣霧或氣體時(shí)，以趨向于擠爆的方式擠壓加壓部71。由此，加壓部71內(nèi)的氣霧或氣體排出到機(jī)體壓浴罩81內(nèi)，將機(jī)體壓浴罩81內(nèi)加壓 到適度(約1. 02-2. 5個(gè)大氣壓)，進(jìn)行氣霧壓浴。
如第一實(shí)施方式所述，為了適用于機(jī)體的各個(gè)部位，機(jī)體壓浴罩81可以使用各種 形狀。但是，本實(shí)施方式的情況，加壓部71必須為能夠容易進(jìn)行加壓的形狀(大小)。這實(shí) 際上依存于加壓部71的大小?，F(xiàn)實(shí)中，由于不管擠壓?jiǎn)卧鞘裁?，?yōu)選加壓部71是不怎么 占地方的小型的加壓部，因此機(jī)體壓浴罩也優(yōu)選可以適用于比較小型(覆蓋機(jī)體的局部) 的部位。
圖8和圖9表示與那樣的機(jī)體壓浴罩81相連的加壓部71的形狀的例子。圖8 (a) 是人體的一個(gè)下肢(膝以下部分)用的機(jī)體壓浴罩81A。該機(jī)體壓浴罩81A在其開(kāi)口部設(shè) 置有閉鎖部82A，而且設(shè)置有用于將氣霧和氣體導(dǎo)入內(nèi)部的供給口 83A。該供給口 83A與加 壓部71A連接，通過(guò)加壓部7IA的供給口 72A將氣霧和氣體供給到機(jī)體壓浴罩81A內(nèi)。圖 8(b)是人體的腳部用的機(jī)體壓浴罩81B。該機(jī)體壓浴罩81B在其開(kāi)口部設(shè)置有閉鎖部82B， 并設(shè)置有用于將氣霧和氣體導(dǎo)入內(nèi)部的供給口 83B。該供給口 8 與加壓部71B連接，通過(guò) 加壓部71B的供給口 72B將氣霧和氣體供給到機(jī)體壓浴罩81B內(nèi)。圖8 (c)是人體的前臂 用的機(jī)體壓浴罩81C。該機(jī)體壓浴罩81C在其開(kāi)口部設(shè)置有閉鎖部82C，并設(shè)置有用于將氣 霧和氣體導(dǎo)入內(nèi)部的供給口 83C。該供給口 83C與加壓部71C連接，通過(guò)加壓部71C的供給 口 72C將氣霧和氣體供給到機(jī)體壓浴罩81C內(nèi)。
圖9表示補(bǔ)丁狀機(jī)體壓浴罩81D的例子。圖9(a)為表示該補(bǔ)丁狀的機(jī)體壓浴罩 81D的示意圖，圖9(b)為表示將該補(bǔ)丁狀的機(jī)體壓浴罩81D安裝在機(jī)體(此處為人體下肢) 上時(shí)的外觀的圖。機(jī)體壓浴罩81D包括罩部85D，該罩部85D用于覆罩機(jī)體的皮膚和粘膜； 閉鎖部82D，該閉鎖部82D設(shè)置在該罩部85D的周?chē)⒅苯诱持跈C(jī)體的皮膚和粘膜上； 供給口 83D，該供給口 83D用于在罩部85D和閉鎖部82D形成的空間內(nèi)供給氣霧和氣體；以 及，固定部84D，該固定部84D用于將罩部85D固定在機(jī)體上并且由帶或細(xì)繩等形成。而且， 加壓部71D與供給口 83D連接，通過(guò)加壓部71D的供給口 72D將氣霧和氣體供給到機(jī)體壓 浴罩81D內(nèi)。
另外，還可以在機(jī)體壓浴罩81上設(shè)置用于進(jìn)行內(nèi)部的氣霧和氣體的排出和壓力 調(diào)節(jié)的排氣口。另外，本發(fā)明不僅適用于人體，還可以適用于動(dòng)物等所有機(jī)體。
此外，在上述實(shí)施方式中，加壓部71為與機(jī)體壓浴罩81相連設(shè)置的中空的儲(chǔ)氣 器，但是，除此之外，只要是能夠從機(jī)體壓浴罩81自身的外圍以趨向于擠爆的方式進(jìn)行擠 壓的部件等能夠簡(jiǎn)便地對(duì)機(jī)體壓浴罩81進(jìn)行加壓的部件都可采用。
〔第三實(shí)施方式)
圖10是本發(fā)明的第三實(shí)施方式所涉及的氣霧壓浴系統(tǒng)的整體示意圖。在本實(shí)施 方式中，對(duì)進(jìn)一步包括用于使產(chǎn)生的霧帶電的單元的氣霧壓浴系統(tǒng)進(jìn)行說(shuō)明。另外，關(guān)于與 圖1表示的第一實(shí)施方式的相同的部分，標(biāo)記相同的符號(hào)，省略詳細(xì)的說(shuō)明。
如圖10所示，在本實(shí)施方式的氣霧壓浴系統(tǒng)中，在氣霧供給裝置31的氣霧排出口 34配置有電極92。電極92與電源裝置91連接，通過(guò)控制裝置51進(jìn)行電壓值的設(shè)定、以及 開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn)換的控制。
在由氣霧排出口 34排出由氣霧供給裝置31生成的霧時(shí)，電極92對(duì)霧施加電荷 (優(yōu)選為負(fù)電荷)。由此，霧成為帶電狀態(tài)，可以提高向帶電的物體的附著性。例如，如果提高向機(jī)體的皮膚和粘膜的附著性，可以進(jìn)一步提高由霧帶來(lái)的氣體的吸收率，在霧中含有 上述的藥劑時(shí)，可以促進(jìn)向皮膚和粘膜的滲透。
因此，在使用本實(shí)施方式的氣霧壓浴系統(tǒng)進(jìn)行氣霧壓浴時(shí)，將機(jī)體壓浴罩41固定 在機(jī)體(在此為人體的下肢)上并密閉。并且，由液體供給單元21向氣霧供給裝置31供 給液體，接著，由氣體供給單元11向該液體中供給氣體。接著，通過(guò)開(kāi)動(dòng)超聲波振子33，通 過(guò)超聲波生成氣霧。此時(shí)控制裝置51進(jìn)行液體和氣體的供給壓力、量、溫度等的調(diào)節(jié)。在 霧中以約40ppm的濃度溶解氣體，其氣泡尺寸優(yōu)選為約232pm左右。另外，控制裝置51將 電源裝置91設(shè)置為開(kāi)，由電源92對(duì)霧施加電荷。生成的氣霧由供給口 43被供給到機(jī)體壓 浴罩41內(nèi)。機(jī)體壓浴罩41內(nèi)充分填充霧后，由氣體供給單元11不是向所存儲(chǔ)的液體中， 而是直接向氣霧供給裝置31的存儲(chǔ)部32中供給氣體。此時(shí)，優(yōu)選在機(jī)體壓浴罩41內(nèi)以氣 體為約95-97%、液體為約3-5%的比例存在。根據(jù)壓力計(jì)61、溫度計(jì)62的測(cè)量值，機(jī)體壓 浴罩41內(nèi)成為最佳的加壓、加熱狀態(tài)(約1.02-2. 5個(gè)大氣壓，約38°C)時(shí)，控制裝置51暫 停氣霧或氣體的供給，在該狀態(tài)下進(jìn)行氣霧壓浴。
由于為以上所述的結(jié)構(gòu)，因此，根據(jù)本發(fā)明的氣霧壓浴系統(tǒng)，能夠通過(guò)控制裝置來(lái) 控制機(jī)體壓浴罩內(nèi)的氣霧的量、壓力等，所以能夠一直以最佳的狀態(tài)進(jìn)行氣霧壓浴。
另外，容易進(jìn)行機(jī)體壓浴罩內(nèi)的加壓，可以更有效地進(jìn)行氣體的經(jīng)皮吸收。
以上，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但是本發(fā)明并不限定于上述實(shí)施方式，可 以基于本發(fā)明的宗旨進(jìn)行各種變形，并不從本發(fā)明的范圍中排除這些變形。
工業(yè)實(shí)用性
本發(fā)明涉及通過(guò)使將氣體和液體霧化并溶解得到的氣霧以規(guī)定值以上的壓力直 接與機(jī)體的皮膚和粘膜接觸以提高皮膚和粘膜的氣體的吸收效率的氣霧壓浴系統(tǒng)，具有工 業(yè)實(shí)用性。
附圖標(biāo)記說(shuō)明
11氣體供給單元
12調(diào)節(jié)器
21液體供給單元
31氣霧供給裝置
31A、31B板
32存儲(chǔ)部
33超聲波振子
34氣霧排出口
35氣霧供給管
35A波紋管
36液滴除去過(guò)濾器
41、41A、41B、41C、41D、41E、41F、81、81A、81B、81C、81D
機(jī)體壓浴罩
42、42A、42B、42C、42D、42E、42F、44A、82、82A、82B、82C、82D閉鎖部
43、43A、43B、43C、43D、43E、43F、83、83A、83B、83C、83D
供給口


44F 固定部 45F 罩部 51 控制裝置61壓力計(jì)62溫度計(jì)71、71A、71B、71C、71D72、72A、72B、72C、72D84D 85D9192固定部 罩部電源裝置 電極加壓部供給口1權(quán)利要求
1.一種氣霧壓浴系統(tǒng)，該氣霧壓浴系統(tǒng)為用于使氣霧與機(jī)體的皮膚和粘膜接觸的系 統(tǒng)，所述氣霧為通過(guò)將規(guī)定值以上濃度的氣體與液體霧化并溶解而得到的霧，所述氣體為 二氧化碳、或者氧氣、或者二氧化碳和氧氣的混合氣體，其特征在于，該氣霧壓浴系統(tǒng)包 括氣體供給單元；液體供給單元；氣霧供給單元，該氣霧供給單元用于將液體存儲(chǔ)在內(nèi)部，使氣體噴出到該存儲(chǔ)的液體 中，同時(shí)通過(guò)對(duì)所述液體施加超聲波振動(dòng)，以生成并供給氣霧；以及機(jī)體罩部件，該機(jī)體罩部件用于覆蓋所述機(jī)體的皮膚和粘膜，以形成將由所述氣霧供 給單元供給的氣霧封入內(nèi)部的空間；并且該氣霧壓浴系統(tǒng)使所述機(jī)體罩部件內(nèi)的氣霧以規(guī)定值以上的壓力與機(jī)體的皮膚 和粘膜接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，該氣霧壓浴系統(tǒng)還包括傳感 器，該傳感器用于測(cè)量所述氣體、液體、以及氣霧的供給狀態(tài)；以及，控制單元，該控制單元 用于根據(jù)所述傳感器的測(cè)量值進(jìn)行所述氣體、液體、以及氣霧的供給控制。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，該氣霧壓浴系統(tǒng)還包括用于 對(duì)所述機(jī)體罩部件進(jìn)行加壓的加壓?jiǎn)卧?br> 4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述控制單元間歇性地向所述 機(jī)體罩部件內(nèi)供給所述氣霧，以對(duì)所述機(jī)體罩部件進(jìn)行間歇加壓。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述加壓?jiǎn)卧g歇性地?cái)D壓所 述機(jī)體罩部件，以對(duì)該機(jī)體罩部件進(jìn)行間歇加壓。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述液體為水、離 子水、生理食鹽水、臭氧水、純凈水、或者無(wú)菌純凈水中的任意一種或多種的組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述液體還含有薄荷醇、維生 素E、維生素C衍生物、松香油、麻醉劑、環(huán)糊精、光催化劑、光催化劑和磷灰石的復(fù)合體、透 明質(zhì)酸、輔酶Q10、棉籽油、蜂巢蠟?zāi)z、乙醇、葡萄糖酸氯己定、兩性表面活性劑、苯扎氯銨、乙 酸烷基二氨基醚甘氨酸、次氯酸鈉、過(guò)乙酸、倍半碳酸鈉、二氧化硅、聚維酮碘、碳酸氫鈉、高 濃度碳酸泉?jiǎng)⒖棺儜B(tài)反應(yīng)藥、抗炎藥、解熱鎮(zhèn)痛藥、抗真菌藥、抗流感病毒藥、抗癌藥、降壓 藥、化妝劑、增毛劑、生毛劑、或育毛劑中的任意一種或多種。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述液體以加熱的狀態(tài)供給 到所述氣霧供給單元。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，由所述氣霧供給 單元供給到所述機(jī)體罩部件內(nèi)的所述霧的粒徑為10 μ m以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述控制單元將氣霧壓浴時(shí)的 所述機(jī)體罩部件內(nèi)的壓力保持在1. 02個(gè)大氣壓至2. 5個(gè)大氣壓。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，該氣霧壓浴系統(tǒng) 還包括電荷施加單元，該電荷施加單元用于對(duì)所述氣霧供給單元供給的霧施加電荷。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述電荷為負(fù)電荷。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述氣霧供給單元具有用于向所述機(jī)體罩部件內(nèi)供給氣霧的氣霧供給管，該氣霧供給管具備用于除去附著 在管內(nèi)的液滴的過(guò)濾器。
14.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述氣霧供給單 元具有用于向所述機(jī)體罩部件內(nèi)供給氣霧的氣霧供給管，該氣霧供給管的全部或部分由波 紋管構(gòu)成。
15.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述氣霧供給單 元具有用于向所述機(jī)體罩部件內(nèi)供給氣霧的氣霧供給管，該氣霧供給管上設(shè)置有單向閥。
16.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，在所述機(jī)體罩部 件的氣霧的供給口上設(shè)置有單向閥。
17.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，所述氣霧供給單 元具有用于存儲(chǔ)所述液體和所述氣霧的存儲(chǔ)部；該存儲(chǔ)部面向具有彎曲面的上部為凸起的圓頂型形狀，并且在該圓頂型的大致頭頂部 形成有氣霧排出部。
18.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，在所述存儲(chǔ)部?jī)?nèi) 配置有一個(gè)或多個(gè)板，該板上設(shè)置有用于將所述氣霧微細(xì)化的細(xì)孔。
19.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣霧壓浴系統(tǒng)，其特征在于，在所述機(jī)體罩部件內(nèi)的壓力值 為規(guī)定值以上時(shí)，所述控制單元停止來(lái)自所述氣體供給單元的氣體的供給。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種能夠控制氣體和液體的量、壓力等，并以最佳的狀態(tài)使機(jī)體的皮膚和粘膜吸收氣霧的氣霧壓浴系統(tǒng)。該氣霧壓浴系統(tǒng)為用于使通過(guò)將規(guī)定值以上濃度的二氧化碳、或者氧氣、或者二氧化碳和氧氣的混合氣體與液體霧化并溶解而得到的氣霧與機(jī)體的皮膚和粘膜接觸的系統(tǒng)，其中，該氣霧壓浴系統(tǒng)包括氣體供給單元(11)；液體供給單元(21)；氣霧供給單元(31)，該氣霧供給單元(31)用于將液體存儲(chǔ)在內(nèi)部，使氣體噴出到該存儲(chǔ)的液體中，同時(shí)通過(guò)對(duì)所述液體施加超聲波振動(dòng)，以生成并供給氣霧；以及，機(jī)體罩部件(41)，該機(jī)體罩部件(41)用于覆蓋所述機(jī)體的皮膚和粘膜，以形成將由所述氣霧供給單元(31)供給的氣霧封入內(nèi)部的空間；并且該氣霧壓浴系統(tǒng)使所述機(jī)體罩部件(41)內(nèi)的氣霧以規(guī)定值以上的壓力與機(jī)體的皮膚和粘膜接觸。
文檔編號(hào)A61K33/00GK102046137SQ201080001731
公開(kāi)日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2010年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月22日
發(fā)明者中村正一 申請(qǐng)人:中村正一, 日本Acp株式會(huì)社