專利名稱：鎳鈦記憶髕骨爪及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鎳鈦記憶髕骨爪及其制備方法，特別是涉及一種表面具有良好生 物相容性和耐磨損性能的Ti/ZrTi(C， N)梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪及其制備方法，屬于 醫(yī)療器械技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
目前，鎳鈦記憶髕骨爪在髕骨骨折固定中有廣泛的應(yīng)用，但是，由于鎳鈦記憶合金 含有近50%原子百分比的具有致癌性的Ni元素，因此醫(yī)學(xué)界對(duì)鎳鈦合金作為人體植入物 的安全性存在普遍的擔(dān)心，Ni將會(huì)導(dǎo)致過(guò)敏反應(yīng)和組織壞死。近期在臨床上也出現(xiàn)了鎳鈦 合金醫(yī)療器件致敏的病案報(bào)道。此外，目前所使用的鎳鈦記憶髕骨爪外觀通常呈金屬本身 或表面氧化膜的顏色，即金屬光澤或暗灰色，與骨的白色在視覺(jué)上有很大的反差，作為一種 植入患者體內(nèi)的異物，這無(wú)疑會(huì)給患者帶來(lái)心理壓力。采用表面改性技術(shù)在鎳鈦記憶合金 表面制備生物涂層(膜)，可減少人體環(huán)境下Ni離子的溶出，提高其生物相容性、耐腐蝕性 能和耐磨損性能，獲得使用安全性更高的鎳鈦記憶合金醫(yī)療器件。 鋯及其化合物有著極為出色的抗腐蝕性性能和優(yōu)良的生物相容性，具有與鈦合金 基底相匹配等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)鈦及鈦合金是被人們認(rèn)為生物相容性好的金屬材料。這主要是因 為鈦與氧有極強(qiáng)的親和性，在自然條件下其表面會(huì)形成一層穩(wěn)定而致密的氧化膜，使金屬 離子不易析出。鋯與鈦的純金屬元素屬于對(duì)機(jī)體無(wú)毒性作用的金屬元素。但是純鋯和純鈦 薄膜與基底的結(jié)合力不是很好，薄膜容易剝落；此外薄膜的硬度也較低。ZrTiC、 ZrTiN或 者ZrTiCN等ZrTi(C，N)系列薄膜強(qiáng)度高、耐蝕性能好，同時(shí)具有良好的生物相容性，可阻止 鎳鈦記憶髕骨爪向人體內(nèi)釋放有毒鎳離子。在鎳鈦記憶合金和ZrTi(C， N)層之間磁控濺 射Ti過(guò)度層，可使ZrTi(C，N)與鎳鈦記憶合金具有良好的結(jié)合力，不容易剝落。因此，Ti/ ZrTi(C， N)梯度涂層是制備鎳鈦記憶合金髕骨爪表面涂層較為理想的選擇。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題本發(fā)明的目的是針對(duì)目前鎳鈦記憶合金髕骨爪存在的上述不足，提供 一種表面具有Ti/ZrTi(C， N)梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪及其制備方法，該鎳鈦記憶髕骨 爪表面的Ti/ZrTi (C， N)梯度涂層可有效減少人體環(huán)境下鎳鈦記憶合金中Ni離子的溶出， 提高了鎳鈦記憶髕骨爪的生物相容性、耐腐蝕性能和耐磨損性能。Ti過(guò)度涂層可以提高 ZrTi(C， N)梯度涂層與鎳鈦記憶合金基底的結(jié)合強(qiáng)度。
技術(shù)方案本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案加以實(shí)現(xiàn) 本發(fā)明表面磁控濺射Ti/ZrTi(C， N)梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪中，鎳鈦記憶 髕骨爪的金屬基體表面有一層生物相容性良好的Ti/ZrTi(C， N)梯度涂層，所述及的Ti/ ZrTi (C， N)梯度涂層具有雙層結(jié)構(gòu)，由與鎳鈦記憶髕骨爪表面接觸的Ti過(guò)渡層和ZrTi (C， N)表面層組成，所述的表面層ZrTi(C， N)可以是ZrTiC、 ZrTiN或者ZrTiCN三種薄膜中的 一種，Ti底層厚度為0. 1-0. 5 ii m ;ZrTi (C， N)表面層厚度為1. 0_5. 0 y m。
4
本發(fā)明通的表面磁控濺射Ti/ZrTi (C， N)梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法 包括如下步驟 1)首先用鎳鈦記憶合金加工好髕骨爪； 2)將鎳鈦記憶髕骨爪進(jìn)行表面預(yù)處理，然后通過(guò)兩步磁控濺射處理，在髕骨爪表
面獲得由Ti過(guò)渡層和ZrTi (C， N)表面層依次組成的Ti/ZrTi (C， N)梯度涂層； 上述制備方法中所述及的鎳鈦記憶合金髕骨爪，其結(jié)構(gòu)形式可以中國(guó)專利
ZL200720005050. 4或其他文獻(xiàn)中公開(kāi)的現(xiàn)有技術(shù)中的任何一種或其它新的形式，本發(fā)明不
再贅述。 表面預(yù)處理采用Kroll' s溶液(2ml HF(體積濃度40% )+4ml HN03(體積濃度 66% ) +994ml蒸餾水)將髕骨爪化學(xué)拋光至接近鏡面，并且依次在丙酮、無(wú)水乙醇和蒸餾水 中超聲清洗10分鐘后在自然條件下干燥。 Ti過(guò)渡層的制備過(guò)程包括如下步驟用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面預(yù)處理 過(guò)的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)，磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為T(mén)i靶(純度 > 99. 9% )、本底真空度為1 X 10—3-l X 10—4pa、工作總壓為0. 3-0. 7Pa、氬氣的流量為30cm3/ min、基底偏壓為-50V、基底溫度為250_450°C、耙基距為60-100mm、濺射功率為120_150W、 濺射時(shí)間10-30min。 ZrTiN表面層的制備過(guò)程包括如下步驟用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面磁控 濺射Ti過(guò)渡層的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)。磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為 純Zr、純Ti拼耙(純度^99.9X，Zr : Ti(面積比)=1:4-4: 1) 、N2的流量為l_5cm3/ min、本底真空度為1 X 10—3-1 X 10—4pa、工作總壓為0. 3_0. 7Pa、氬氣的流量為30cmVmin、基 底偏壓為_(kāi)5(^、基底溫度為250-45(TC、耙基距為60-100mm、濺射功率為150-200W、濺射時(shí) 間60-90min。 ZrTiC表面層的制備過(guò)程包括如下步驟用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面磁控 濺射Ti過(guò)渡層的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)。磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為 純Zr、純Ti、石墨拼靶(純度>99.9%，固定石墨的面積百分比含量為60%， Zr : Ti (面 積比)=1:4-4: 1)、本底真空度為1X10—3-1X10—4pa、工作總壓為0.3-0. 7Pa、氬氣的 流量為30cmVmin、基底偏壓為-50V、基底溫度為250_450°C、耙基距為60-100mm、濺射功率 為150-200W、濺射時(shí)間60-90min。 ZrTiCN表面層的制備過(guò)程包括如下步驟用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面磁 控濺射Ti過(guò)渡層的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)。磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材 為純Zr、純Ti、石墨拼靶(純度^99.9X，固定石墨的面積百分比含量為60X，Zr : Ti (面 積比)=1:4-4: 1)、N2的流量為l-5cm3/min、本底真空度為1X10—3-1X10—乍a、工作總 壓為0. 3-0. 7Pa、氬氣的流量為30cmVmin、基底偏壓為_(kāi)5(^、基底溫度為250-45(TC、耙基 距為60-100mm、濺射功率為150-200W、濺射時(shí)間60-90min。
有益效果 1)本發(fā)明表面磁控濺射Ti/ZrTi (C， N)梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪表面ZrTi (C， N)梯度涂層可有效減少人體環(huán)境下鎳鈦記憶合金中Ni離子的溶出，提高鎳鈦記憶髕骨爪 的生物相容性和耐腐蝕性能。 2)本發(fā)明鎳鈦記憶髕骨爪表面的Ti/ZrTi (C， N)梯度涂層具有理想的雙層結(jié)構(gòu)Ti過(guò)渡層薄而致密，與金屬基體結(jié)合牢固，并可作為"晶核基面"促進(jìn)ZrTi (C， N)表面層的 沉積生長(zhǎng)。Ti過(guò)度涂層可以提高ZrTi(C，N)涂層與鎳鈦記憶合金基體的結(jié)合強(qiáng)度高。
具體實(shí)例方式
實(shí)施例1 本發(fā)明的鎳鈦記憶髕骨爪的金屬基體表面有一層生物相容性和耐腐蝕性能良好 的Ti/ZrTiN梯度涂層。所述及的Ti/ZrTiN梯度涂層具有雙層結(jié)構(gòu)，由與鎳鈦記憶髕骨 爪表面接觸Ti層和ZrTiN表面層組成，Ti底層厚度為0. 15_0. 2 y m ;ZrTiN表面層厚度為 2-2. 5 ii m， ZrTiN薄膜中的相主要有ZrN和TiN，及其少量的(Zr， Ti) N固溶體、Zr02和Ti02。 由劃痕試驗(yàn)得到，Ti/ZrTiN薄膜的膜基結(jié)合力為146N。其制備步驟如下
1)首先用鎳鈦記憶合金加工好髕骨爪； 2)所述的表面磁控濺射Ti/ZrTi (C， N)梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法， 其特征在于表面預(yù)處理采用Kroll' s溶液(2ml HF(體積濃度40% )+4ml HN03(體積濃度 66% ) +994ml蒸餾水)將髕骨爪化學(xué)拋光至接近鏡面，并且依次在丙酮、無(wú)水乙醇和蒸餾水 中超聲清洗10分鐘后在自然條件下干燥。 3)Ti過(guò)渡層的制備過(guò)程，其特征在于應(yīng)用所述及的磁控濺射技術(shù)，具體操作為 用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面預(yù)處理過(guò)的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)。 磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為T(mén)i靶(純度> 99. 9% )、本底真空度為1 X 10—3-l X 10—乍a、工 作總壓為0. 3-0. 7Pa、氬氣的流量為30cmVmin、基底偏壓為_(kāi)5(^、基底溫度為250_450°C、 耙基距為60-100mm、濺射功率為120-150W、濺射時(shí)間10-30min。 4)ZrTiN表面層的制備過(guò)程，其特征在于應(yīng)用所述及的磁控濺射技術(shù)，具體操作 為用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面磁控濺射Ti過(guò)渡層的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控 濺射工作室內(nèi)。磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為純Zr、Ti拼靶(純度> 99. 9%， Zr : Ti (面 積比)=1:4-4: 1)、N2的流量為l-5cm3/min、本底真空度為1X10—3-1X10—乍a、工作總 壓為0. 3-0. 7Pa、氬氣的流量為30cmVmin、基底偏壓為_(kāi)5(^、基底溫度為250-45(TC、耙基 距為60-100mm、濺射功率為150-200W、濺射時(shí)間60-90min。 5)最后，將具有Ti/ZrTiN梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪清洗、消毒、備用。
實(shí)施例2 本發(fā)明的鎳鈦記憶髕骨爪的金屬基體表面有一層生物相容性和耐腐蝕性能良好 的Ti/ZrTiC梯度涂層。所述及的Ti/ZrTiC梯度涂層具有雙層結(jié)構(gòu)，由與鎳鈦記憶髕骨爪 表面接觸Ti層和ZrTiC表面層組成，從Ti底層厚度為0. 15-0. 2 y m ;ZrTiC表面層厚度為 2-2. 5 ii m，ZrTiC薄膜中的相為ZrC和TiC混合物。由劃痕試驗(yàn)曲線得到，Ti/ZrTiC薄膜的 膜基結(jié)合力為176N。其制備步驟如下
1)首先用鎳鈦記憶合金加工好髕骨爪； 2)所述的表面磁控濺射Ti/ZrTi (C， N)梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法， 其特征在于表面預(yù)處理采用Kroll' s溶液(2ml HF(體積濃度40% )+4ml HN03(體積濃度 66% ) +994ml蒸餾水)將髕骨爪化學(xué)拋光至接近鏡面，并且依次在丙酮、無(wú)水乙醇和蒸餾水 中超聲清洗10分鐘后在自然條件下干燥。 3)Ti過(guò)渡層的制備過(guò)程，其特征在于應(yīng)用所述及的磁控濺射技術(shù)，具體操作為 用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面預(yù)處理過(guò)的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)。
6磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為T(mén)i靶(純度> 99. 9% )、本底真空度為1 X 10—3-l X 10—乍a、工 作總壓為0. 3-0. 7Pa、氬氣的流量為30cmVmin、基底偏壓為_(kāi)5(^、基底溫度為250-450°C、 耙基距為60-100mm、濺射功率為120-150W、濺射時(shí)間10-30min。 4)ZrTiC表面層的制備過(guò)程，其特征在于應(yīng)用所述及的磁控濺射技術(shù)，具體操作 為用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面磁控濺射Ti過(guò)渡層的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁 控濺射工作室內(nèi)。磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為純Zr、 Ti、石墨拼靶(純度> 99. 9%，固 定石墨的面積百分比含量為60%， Zr : Ti(面積比)二l : 4-4 : 1)、本底真空度為 1X10—3-1X10—4pa、工作總壓為0. 3-0. 7Pa、氬氣的流量為30cmVmin、基底偏壓為-50V、基 底溫度為250-450。C、耙基距為60-100mm、濺射功率為150-200W、濺射時(shí)間60-90min。
5)最后，將具有Ti/ZrTiC梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪清洗、消毒、備用。
實(shí)施例3 本發(fā)明的鎳鈦記憶髕骨爪的金屬基體表面有一層生物相容性和耐腐蝕性能良好 的Ti/ZrTiCN梯度涂層。所述及的Ti/ZrTiCN梯度涂層具有雙層結(jié)構(gòu)，由與鎳鈦記憶髕骨 爪表面接觸Ti層和ZrTiCN表面層組成，從Ti底層厚度為0. 15-0. 2 y m ;ZrTiCN表面層厚 度為1-1. 5 ii m， ZrTiCN薄膜中的相為ZrCN、 TiCN。由劃痕試驗(yàn)曲線得到，Ti/ZrTiCN薄膜 的膜基結(jié)合力為123N。其制備步驟如下
1)首先用醫(yī)用鎳鈦記憶合金加工好髕骨爪； 2)所述的表面磁控濺射Ti/ZrTi (C， N)梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法， 其特征在于表面預(yù)處理采用Kroll' s溶液(2ml HF(體積濃度40% )+4ml HN03(體積濃度 66% ) +994ml蒸餾水)將髕骨爪化學(xué)拋光至接近鏡面，并且依次在丙酮、無(wú)水乙醇和蒸餾水 中超聲清洗10分鐘后在自然條件下干燥。 3)Ti過(guò)渡層的制備過(guò)程，其特征在于應(yīng)用所述及的磁控濺射技術(shù)，具體操作 為用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面預(yù)處理過(guò)的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工 作室內(nèi)。磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為T(mén)i靶(純度^ 99.9% at% )、本底真空度為 1X10—3-1X10—4pa、工作總壓為0. 3-0. 7Pa、氬氣的流量為30cmVmin、基底偏壓為-50V、基 底溫度為250-450。C、耙基距為60-100mm、濺射功率為120-150W、濺射時(shí)間10-30min。
4)ZrTiCN表面層的制備過(guò)程，其特征在于應(yīng)用所述及的磁控濺射技術(shù)，具體操作 為用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面磁控濺射Ti過(guò)渡層的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控 濺射工作室內(nèi)。磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為純Zr、 Ti、石墨拼靶(純度> 99. 9%，固定 石墨的面積百分比含量為60%， Zr : Ti(面積比)=1:4-4: 1) 、 N2的流量為l-5cm3/ min、本底真空度為1 X 10—3-1 X 10—4pa、工作總壓為0. 3_0. 7Pa、氬氣的流量為30cmVmin、基 底偏壓為_(kāi)5(^、基底溫度為250-45(TC、耙基距為60-100mm、濺射功率為150-200W、濺射時(shí) 間60-90min。 5)最后，將具有Ti/ZrTiCN梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪清洗、消毒、備用。
顯然，本發(fā)明的上述實(shí)施例僅僅是為了清楚說(shuō)明本發(fā)明所作的舉例，而并非是對(duì) 本發(fā)明的實(shí)施方式的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，還可在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上 做出其它不同形式的變化或變動(dòng)，這里無(wú)需也無(wú)法對(duì)所有實(shí)施方式予以窮舉，而這些屬于 本發(fā)明的精神所引申出的顯而易見(jiàn)的變化或變動(dòng)仍處于本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
一種鎳鈦記憶髕骨爪，其特征在于鎳鈦記憶髕骨爪的金屬基體表面有一層生物相容性良好的Ti/ZrTi(C，N)梯度涂層，所述及的Ti/ZrTi(C，N)梯度涂層具有雙層結(jié)構(gòu)，由與鎳鈦記憶髕骨爪表面接觸的Ti過(guò)渡層和ZrTi(C，N)表面層組成Ti底層厚度為0.1-0.5μm；ZrTi(C，N)表面層厚度為1.0-5.0μm。
2. 如權(quán)利要求l所述的鎳鈦記憶髕骨爪，其特征在于所述的ZrTi(C， N)表面層是ZrTiC、ZrTiN或者ZrTiCN三種薄膜中的一種。
3. —種如權(quán)利要求1所述的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法，其特征在于該方法包括如下步驟1) 首先用鎳鈦記憶合金加工好髕骨爪；2) 將鎳鈦記憶髕骨爪進(jìn)行表面預(yù)處理，然后通過(guò)兩步磁控濺射處理，在髕骨爪表面獲得由Ti過(guò)渡層和ZrTi(C， N)表面層依次組成的Ti/ZrTi(C， N)梯度涂層，所述的表面層ZrTi (C， N)是ZrTiC、 ZrTiN或者ZrTiCN三種薄膜中的一種。
4. 如權(quán)利要求3所述的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法，其特征在于所述的表面預(yù)處理采用Kroll' s溶液將髕骨爪化學(xué)拋光至接近鏡面，并且依次在丙酮、無(wú)水乙醇和蒸餾水中超聲清洗后在自然條件下干燥。
5. 如權(quán)利要求4所述的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法，其特征在于所述的Kroll's溶液為體積濃度為40 %的2ml HF+體積濃度為66 %的4ml HN03+994ml蒸餾水。
6. 如權(quán)利要求3所述的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法，其特征在于Ti過(guò)渡層的制備過(guò)程包括如下步驟用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面預(yù)處理過(guò)的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)，磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為T(mén)i靶純度》99. 9%、本底真空度為1X10—3-lX10—4pa、工作總壓為0. 3-0. 7Pa、氬氣的流量為30cmVmin、基底偏壓為-50V、基底溫度為250-450。C、耙基距為60-100mm、濺射功率為120-150W、濺射時(shí)間10-30min。
7. 如權(quán)利要求3所述的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法，其特征在于ZrTiN表面層的制備過(guò)程包括如下步驟用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面磁控濺射Ti過(guò)渡層的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)；磁控濺射處理?xiàng)l件為耙材為純Zr、純Ti拼耙純度> 99. 9X，面積比Zr : Ti = 1 : 4-4 : 1 ;N2的流量為l-5cm3/min ;本底真空度為1 X 10—3-1 X 10—4Pa ;工作總壓為0. 3-0. 7Pa ;氬氣的流量為30cmVmin ;基底偏壓為-50V ;基底溫度為250-450°C ;靶基距為60-100mm ;濺射功率為150-200W ;濺射時(shí)間60_90min。
8. 如權(quán)利要求3所述的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法，其特征在于ZrTiC表面層的制備過(guò)程包括如下步驟用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面磁控濺射Ti過(guò)渡層的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)。磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為純Zr、純Ti、石墨拼靶純度^99.9X，固定石墨的面積百分比含量為60X，面積比Zr : Ti = 1 : 4_4 : 1 ;本底真空度為1 X 10—3-1 X 10—4Pa ;工作總壓為0. 3-0. 7Pa ;氬氣的流量為30cmVmin ;基底偏壓為-50V ;基底溫度為250-450°C ;靶基距為60-100mm、濺射功率為150-200W ;濺射時(shí)間60-90min。
9. 如權(quán)利要求3所述的鎳鈦記憶髕骨爪的制備方法，其特征在于ZrTiCN表面層的制備過(guò)程包括如下步驟用可以三維旋轉(zhuǎn)的夾持工具將表面磁控濺射Ti過(guò)渡層的鎳鈦記憶髕骨爪固定于磁控濺射工作室內(nèi)；磁控濺射處理?xiàng)l件為靶材為純Zr、純Ti、石墨拼靶純度^99.9X，固定石墨的面積百分比含量為60X，面積比Zr : Ti = 1 : 4-4 : 1 ;N2的流量為l-5cm3/min ;本底真空度為1 X 10—3_1 X 10—4Pa ;工作總壓為0. 3_0. 7Pa ;氬氣的流量為30cmVmin ;基底偏壓為_(kāi)50V ;基底溫度為250-450°C ;靶基距為60-100mm ;濺射功率為 150-200W ;濺射時(shí)間60-90min。
全文摘要
本發(fā)明表面磁控濺射Ti/ZrTi(C，N)梯度涂層的鎳鈦記憶髕骨爪涉及一種表面具有良好生物相容性的Ti/ZrTi(C，N)梯度涂層的鎳鈦記憶合金髕骨爪及其制備方法，其金屬基體表面有一層生物相容性良好的Ti/ZrTi(C，N)梯度涂層，該Ti/ZrTi(C，N)梯度涂層具有雙層結(jié)構(gòu)，由與鎳鈦記憶髕骨爪表面接觸的Ti過(guò)渡層和ZrTi(C，N)表面層組成，Ti過(guò)渡層厚度為0.1-0.5μm；ZrTi(C，N)表面層厚度為1.0-5.0μm。制備方法為1)首先用鎳鈦記憶合金加工好髕骨爪；2)將鎳鈦記憶髕骨爪進(jìn)行表面預(yù)處理，然后通過(guò)兩步磁控濺射處理，在髕骨爪表面獲得由Ti過(guò)渡層和ZrTi(C，N)表面層依次組成的Ti/ZrTi(C，N)梯度涂層。
文檔編號(hào)A61L31/08GK101791441SQ20101011996
公開(kāi)日2010年8月4日 申請(qǐng)日期2010年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月8日
發(fā)明者余鳳丹, 儲(chǔ)成林, 林萍華, 盛曉波, 蘇理成, 董寅生, 郭超 申請(qǐng)人:東南大學(xué)