專利名稱：消毒容器的方法和裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種消毒容器的裝置和方法，并特別涉及一種通過電子束消毒容器的方法和裝置。
背景技術：
在飲料生產(chǎn)工業(yè)中，公知首先形成塑料容器，然后在所述容器裝滿飲料。在裝飲料之前，有時需要對這些容器進行消毒，尤其是容器的內(nèi)側(cè)?，F(xiàn)有技術中廣泛采用的一種方法是，通過消毒氣體進行消毒，尤其是用過氧化氫進行消毒。然而，最近在消毒容器時，人們致力于減少化學物的使用。近年來，已經(jīng)知道了通過其它措施消毒容器的裝置和方法，諸如通過紫外線輻射或電子束進行消毒。
在仍未公開的歐洲專利申請NO. 07 007 977.7中，本申請人描述了一種方法和裝置，其中，出于消毒的目的，將射出電子束的射出針頭引入容器，且容器相對于該射出針頭沿容器的縱向移動。通過該過程，可有效地對塑料容器內(nèi)部進行消毒。然而，應注意的是，出于消毒的目的，不能以任意的方式通過輻射作用在容器上，該輻射須取決于強度的最大和最小極限值。最小值由達到有效消毒容器的所需劑量確定，所需劑量轉(zhuǎn)而取決于許多因素，例如待殺菌的細菌。最大劑量由這樣的因素限定不能對待消毒容器造成損傷。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明所要解決的技術問題在于，提供一種消毒容器的方法和裝置，其允許對容器施加更準確的輻射強度的布J量。另外還通過輻射改進容器的消毒。
根據(jù)本發(fā)明，該目的由根據(jù)技術方案1的方法和根據(jù)技術方案11的裝置達成。優(yōu)選實施例和進一步的改進形成其它技術方案的主題。
根據(jù)本發(fā)明的消毒容器的方法，將處理頭部引入待消毒容器內(nèi)部，處理頭部在預設時間段內(nèi)在容器內(nèi)部射出輻射物，其中，在預設時間段內(nèi)，容器至少間歇性地以相對運動速度相對于處理頭部沿容器的縱向移動。根據(jù)本發(fā)明，位于容器內(nèi)部的處理頭部的該相對運動速度在預設時間段內(nèi)變化，并將該相對運動速度作為容器內(nèi)部輪廓的函數(shù)進行控制。
因此，根據(jù)本發(fā)明，提出相對于容器控制處理頭部的運動速度，并因此控制所述輻射發(fā)生的位置的運動速度，將其作為容器輪廓的函數(shù)進行控制。運動速度的變化本文中理解成沿某一運動方向的運動速度的變化，而非運動
速度的標記(sign)的變化。
可能的是，處理頭部固定，且容器相對于處理頭部沿縱向移動。還可能的是，處理頭部沿容器的縱向移動，或容器和處理頭部均移動。
優(yōu)選的是，射出的輻射物和沿縱向的運動至少有時同時發(fā)生，優(yōu)選為完全同時發(fā)生。然而，可能的是，運動逐漸進行，且輻射在各情況下在間斷時射出。
通過改變運動速度，以適應瓶子的不同輪廓。例如，當經(jīng)過容器口部時，可更快地移動處理頭部，這是因為，在該情況下，容器內(nèi)壁更靠近處理頭部。容器的內(nèi)部輪廓本文中理解成尤其指容器內(nèi)壁，尤其是對于處理頭部。
一般來說，在運動期間，控制輻射強度相對于內(nèi)部表面的特征的至少一項參數(shù)。因此，可通過改變電子發(fā)射器的加速電壓，來控制處理頭部射出的強度，而不是運動速度。此外，可采用反電壓。
此外，還可根據(jù)容器的內(nèi)部輪廓，在輻射抵達容器之前，達到更大或更少的輻射的吸收。例如，可在某一時間有意執(zhí)行處理頭部的冷卻，而冷卻介質(zhì)使射出輻射物或撞擊容器內(nèi)壁的輻射物更細小。還可設置以預設和可變方式吸收輻射物的吸收元件。
在一個優(yōu)選方法中，處理頭部射出載流子。在該情況下，處理頭部或甚至不同元件可包括電子射出源和使這些電子朝出口窗加速的加速設備。通過這些排出的電子完成容器內(nèi)壁的消毒。
在另一優(yōu)選方法中，根據(jù)存儲在存儲設備中的數(shù)據(jù)，通過控制設備控制運動，其中，這些數(shù)據(jù)為容器沿容器縱向的橫截面的特征。例如，可在較大
橫截面的容器的這些部分，減小處理頭部相對于容器的運動速度；且可在橫截面減小的部分，增大處理頭部相對于容器的運動速度。
因此，可借助于預設行進輪廓，對處理頭部和容器之間的相對運動編寫程序。在這種情況下，可創(chuàng)建整個發(fā)射過程的行進輪廓，并優(yōu)選地將所述輪廓分成單獨的輪廓區(qū)段。在這種情況下，將不同行程速度或加速分配給容器的不同行程運動。該分配有利于更好地適配容器幾何形狀。
可在這種情況下指定諸如曲線區(qū)段的起始和終點(即行程距離)和所需行進速度(即行程速度)。這些單獨曲線區(qū)段可組合，形成對應行進輪廓的整個曲線。單獨曲線區(qū)段的行程距離和行進的持續(xù)時間可在這種情況下求和，得到行進輪廓的總行程和總持續(xù)時間。可在這種情況下，連結(jié)單獨區(qū)段，行進輪廓的不同速度彼此合并。然而，可借助于另一控制避免這種連結(jié)，并通過適當?shù)募铀俸蜏p速達到平滑的(即數(shù)學上可變地)速度輪廓。
在另一優(yōu)選方法中，將處理頭部的運動作為容器直徑的函數(shù)進行控制。本文中應注意，尤其是從處理頭部排出的電子具有某一范圍，并在行進路徑長度范圍內(nèi)損失它們能量的某部分。因此，尤其是在容器的大直徑區(qū)域，對應需要更長的時間作用，以補償相應的電子能量下降。
在另一優(yōu)選方法中，將處理頭部的運動作為容器內(nèi)壁相對于容器的縱向延伸的角度進行控制。例如從頂部向下加寬的容器部分常設量在容器嘴部區(qū)域，只有通過排出電子輻射物才可困難地到達容器的該部分。因此，在這些區(qū)域，應減小運動速度。
如上所述，尤其優(yōu)選地根據(jù)編寫的行進輪廓控制運動?？筛鶕?jù)用于對應容器的經(jīng)驗數(shù)據(jù)，確定該行進輪廓，但也可根據(jù)容器的參數(shù)諸如曲率和橫截面確定該行進輪廓。
優(yōu)選的是，容器本身沿其縱向移動，且因此尤其優(yōu)選地處理頭部或射出針頭保持在恒定高度。出于該目的，可設置支架設備，在支架設備上轉(zhuǎn)而布置使容器本身沿其縱向向上或向下移動的夾具。
在另一優(yōu)選方法中，通過將處理頭部引入容器或參考容器的內(nèi)部和在容器內(nèi)部射出輻射物的處理頭部，確定行進輪廓，其中，在射出輻射物的期間，容器相對于處理頭部沿容器的縱向移動，并記錄大量的特征數(shù)據(jù)，該特征數(shù)據(jù)為撞擊容器內(nèi)壁的輻射物的特征數(shù)據(jù)。該方法中，由此確定處理頭部施加容器內(nèi)壁上的參考劑量。本文中，還可能的是，電子輻射物的射出隨時間同時發(fā)生，或者射出和運動至少部分地交替發(fā)生。
在一個優(yōu)選方法中，在容器的內(nèi)壁上設置這樣一種材料該材料與處理頭部射出的輻射物發(fā)生反應，并允許得出該輻射物的強度的結(jié)論。因此，可通過放射的測量薄膜來實施劑量測量，其中，該測量薄膜設置在容器內(nèi)壁上。以這種方法，可確定已處理的容器上的劑量分布。這些測量條帶可作為劑量的函數(shù)根據(jù)強度改變顏色，并可通過劑量測量設備進行評估。在這種情況下，可通過對應的塑料載體隱藏測量薄膜，以通過該方法模擬發(fā)生在容器內(nèi)壁上的效果。此外，可在測量薄膜設置染料。在輻射的作用下，薄膜的顏色以某種方式變成某一色調(diào)，與吸收的能量多少成比例。這些色調(diào)可通過劑量測量
設備閱讀，并因此指示施加多少劑量，劑量例如用千戈瑞(kGy)單位表示。在根據(jù)本發(fā)明的另一方法中，確定容器內(nèi)部消毒的行進輪廓，其中，將處理頭部引入容器內(nèi)部，容器內(nèi)部的處理頭部將輻射物引導到容器fe壁上，其中，在射出輻射物期間，容器相對于處理頭部沿容器的縱向移動。根據(jù)本發(fā)明，記錄大量的特征數(shù)據(jù)，該特征數(shù)據(jù)為輻射物撞擊容器內(nèi)壁的特征數(shù)據(jù)。該確定方法與上述本發(fā)明緊密相關，這是因為采用由此確定的數(shù)據(jù)，尤其可確定用于以后操作模式的上述行進輪廓。
然而，也可獨立于上述的實際操作方法，來實施該測量方法。優(yōu)選的是，采用描述的測量方法來測量大量的容器，并將這些容器的數(shù)據(jù)存儲在數(shù)據(jù)庫中，在隨后的操作方法可采用該數(shù)據(jù)庫。通過修改這些測量容器的數(shù)值，還可處理類似于已經(jīng)測量的容器的新容器。還可將待測量的容器劃分成幾部分，例如根據(jù)類似頭部或基部，并以該方法允許獲得的測量值以用于更多的容器，例如某一容器的頭部區(qū)域類似于第一測量容器，而基部區(qū)域類似于第二容器。
本發(fā)明還涉及消毒容器的裝置，其中，包括處理頭部，處理頭部以如下方式構成處理頭部可被引入待消毒容器內(nèi)部，其中，處理頭部包括至少間歇性地射出輻射物的輻射源，其中，裝置包括運動設備，運動設備使容器相對于處理頭部沿容器的縱向以預設運動速度移動。根據(jù)本發(fā)明，裝置包括控制設備，控制設備改變位于容器內(nèi)部的處理頭部的相對運動速度，并將相對運動速度作為容器的內(nèi)部輪廓的函數(shù)進行控制。
優(yōu)選的是處理頭部可通過嘴部引入容器，其中，該嘴部的橫截面比容器主體橫截面小。例如，運動設備可為驅(qū)動器，諸如特別是但并不限于線性馬達，其將容器作為預定行進輪廓的函數(shù)進行驅(qū)動。
優(yōu)選的是，輻射源射出載流子，并特別是電子。然而，可以射出不同類型的輻射物諸如例如X射線輻射、UV輻射或其類似物。本發(fā)明的基本概念也可應用于這些其它類型的輻射物。
在另一有利實施例中，裝置包括存儲設備，在存儲設備中，存儲處理頭部的運動的行進輪廓的特征。如上所述，該行進輪廓可從由某一類型的瓶子確定的經(jīng):驗數(shù)據(jù)獲得。然而，也可至少部分地根據(jù)理論考慮，獲得行進輪jl^.例如其考慮到容器的橫截面和容器壁的傾斜角。
在另一有利實施例中，裝置包括圖像記錄設備，其記錄待消毒容器的圖像。在這種情況下，該圖像記錄的數(shù)據(jù)可用于速度控制。例如，可在操作模式記錄容器的圖像，然后圖像處理軟件將該圖像與存儲容器的多個圖像進行比較。只要發(fā)現(xiàn)對應容器，就加載對應行進輪廓，并可根據(jù)在操作模式期間的該行進輪廓，控制處理頭部的運動。
然而，可記錄圖像，并根據(jù)該圖像確定容器的幾何形狀，根據(jù)這些幾何形狀控制處理頭部的行進輪廓?？刹捎蒙鲜鰞煞N方法的混合變形，從而根據(jù)直接的幾何形狀考慮和根據(jù)經(jīng)驗數(shù)據(jù)控制行進輪廓。
在另一優(yōu)選方法中，裝置包括多個處理頭部，多個處理頭部一個接一個地布置傳輸設備上。在這種情況下，瓶子保持架(諸如夾緊元件)和處理頭部可布置相同傳輸設備上，并因此彼此同步移動。優(yōu)選的是，在容器的消毒期間移動容器，例如在傳輸轉(zhuǎn)盤上，對應處理頭部也同時移動。以這種方法，可一個接一個地對多批量的容器進行消毒。
可在容器已經(jīng)形成后和在容器形成之前執(zhí)行內(nèi)部的消毒內(nèi)部。
因此，這樣的裝置可構造成旋轉(zhuǎn)單元或線性單元。可將整個裝置容納在處理腔體內(nèi)，處理腔體用作容器的內(nèi)部和外部消毒，處理腔體尤其是通過電子輻射的PET容器。消毒單元本身也可集成在拉伸吹模機或填充設備中，或可配置成獨立的單元。獨立單元變化起來具有優(yōu)勢，可自由地改良現(xiàn)有的生產(chǎn)線。集成在延伸吹模機或填充設備中具有優(yōu)勢，以這種方式減少總體的生產(chǎn)成本。
還可通過星輪(例如通過頸部夾持容器的星輪)將容器轉(zhuǎn)移給消毒單元，在消毒單元，容器通過線性行程運動在處理頭部或射出針頭上移動。
優(yōu)選的是，采用的電子束發(fā)生器為帶射出針頭的緊湊電子射出單元，如上所述，以如下M設計尺寸其可放入瓶子中以盡可能低的能量將電子云 施加在容器的內(nèi)表面上。在旋轉(zhuǎn)機布置的環(huán)境下，可能的是，與電子束發(fā)生 器適應的變壓器或主要設備沿電子束發(fā)生器在轉(zhuǎn)盤上延伸，由此更容易地提 供高電壓。
通過連接電子和機械元件，可通過電子束消毒改善表面處理或消毒，尤 其是形狀復雜的飲料容器。以這種方法，盡管容器三維尺寸大，卻可在容器 的內(nèi)部表面達到盡可能均質(zhì)的劑量分布。待處理的基板或容器優(yōu)選地相對于 固定輻射源沿與上述施加的劑量強度適配的運動路線移動。


從附圖將會發(fā)現(xiàn)本發(fā)明的其它優(yōu)點和實施例，附圖中 圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的消毒設備的示意圖； 圖2顯示了處理頭部的行進輪廓的一個例子； 圖3a顯示了中空容器內(nèi)部輻射分布的一個例子； 圖3b顯示了中空容器內(nèi)部輻射分布的另一個例子； 圖4顯示了圓柱形容器內(nèi)部輻射處理的一個例子； 圖5顯示了圖示相關輻射參數(shù)的示意圖6顯示了布置在傳輸設備上的根據(jù)本發(fā)明的多個裝置的示意圖；以及 圖7顯示了包括根據(jù)本發(fā)明的多個裝置的設施的視圖。
具體實施例方式
圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的裝置1的示意圖，裝置1可形成用于處理容器 的設施的一部分。本文中，標號10表示包括待消毒內(nèi)壁10a的容器，內(nèi)壁10a 通過用f表示的電子進行消毒。標號5表示可被引入容器10的內(nèi)部的處理頭 部。本文中，該處理頭部5沿容器縱向L以固定方式布置，并布置在支架24上。電子在高真空下加速，*并通過電子出口窗(這里未詳細顯示)射出。電子在
空氣分子中散開，從而形成用于對容器10的內(nèi)壁10a進行消毒的電子云。
在另一優(yōu)選實施例中，裝置或處理頭部5包括內(nèi)部殼體，在內(nèi)部殼體中 布置有加速設備，且外部殼體圍繞該內(nèi)部殼體。尤其優(yōu)選的是，在該內(nèi)部殼 體的內(nèi)部設置真空，并優(yōu)選地在其中設置載流子發(fā)生源和加速設備。尤其優(yōu) 選的是，延伸到處理頭部的空間，在外部殼體和內(nèi)部殼體之間形成。可通過 該空間引導介質(zhì)(尤其是氣態(tài)或液態(tài)介質(zhì))。
該氣態(tài)介質(zhì)特別用于冷卻出口窗，并出于該目的，沿內(nèi)部殼體將氣態(tài)或 液態(tài)介質(zhì)引導至處理頭部，并也經(jīng)過出口窗。因此，優(yōu)選的是，在外部殼體 和內(nèi)部殼體之間形成一個或多個通道形式的空間，其中尤其優(yōu)選的是，外部 殼體的下端部以如下方式構成將氣流也引導經(jīng)過該裝置，并例如因此也沿 徑向引導經(jīng)過出口窗。要指出的是，氣態(tài)介質(zhì)并未抵達容器內(nèi)壁，或至少未 直接抵達容器內(nèi)壁，而是特別被引導經(jīng)過出口窗(如上所述)。
容器10由夾緊夾具22夾持。夾緊夾具22布置在支架6上，支架6轉(zhuǎn)而 布置在線性驅(qū)動器4上。標號8表示保持架，線性驅(qū)動器4可沿保持架沿縱 向L移動。因此，容器10也可沿縱向L移動。如上所述，驅(qū)動器優(yōu)選地為線 性馬達。可能的是，將該線性馬達布置在容器下方或處理頭部上方，使得不 會因線性馬達發(fā)生電子的偏斜或單側(cè)偏斜。夾具22和支架6可由塑料制成， 其不會在電子上施加任何力。v表示速度。處理頭部5與處理容器10之間的 相對運動以該速度發(fā)生。
在電子束中，瓶子的相對運動因此而發(fā)生，其中，作為結(jié)果，可通過可 編程的行進輪廓適配劑量分布。圖1中顯示的裝置可用于形成參考輪廓。出 于該目的，可將一個或多個測量條帶放置到容器10的內(nèi)部表面上。測量條帶 優(yōu)選地指向待評估的發(fā)射方向。例如，可將容器內(nèi)壁劃分成四個輻射位置P。 輻射位置P顯示于圖1的左側(cè)圖形中。本文中，用于容器的夾緊單元布置在頂部位置，其它位置繞容器內(nèi)壁沿 順時針方向分布。如上所述，該行進輪廓的優(yōu)化目的在于，在所選瓶子中既 不會施加過大的劑量，也不會施加過小的劑量。此外，容器的處理時間和輻 射強度應保持盡量小。
優(yōu)選的是，沿容器縱向的整個運動在一至兩秒內(nèi)完成。處理時間是指處 理頭部位于瓶子內(nèi)的時間段。因此，全循環(huán)的組成有向內(nèi)行進時間、處理 時間和向外行進時間?？赡艿氖牵谶\動期間和運動連續(xù)停止期間射出輻射
物(radiation)，并在其余階段射出輻射物。
此外，優(yōu)選的是，設置尤其由鉛制成的屏蔽體(未顯示)，以便屏蔽所有 X-射線的輻射。此外，可通過抽吸去除產(chǎn)生的諸如臭氧和氮氧化物的氣體。
為了抵達容器內(nèi)劑量分布的起點，首先，容器以恒定速度在處理頭部的 范圍內(nèi)移動。然后，在相同的輻射條件下，容器在終點移動回到其基本位置， 該過程中沒有任何停頓。由于該過程，可通過劑量測量薄膜的輔助，確定在 預設條件下用于容器的輻射輪廓。然后可存儲該輻射輪廓，并在處理以后的 容器時將其作為基礎。標號16表示用于記錄容器的圖像的圖像記錄設備。根 據(jù)這些圖像，可識別容器，并根據(jù)識別的容器，加載正確的行進輪廓。
標號12表示控制設備(僅示意性地顯示)，該控制設備12沿縱向控制容器 的運動。還設置了存儲設備14，在存儲設備14中存儲用于控制運動的行進輪 廓。該控制設備還可通過處理頭部5控制電子的射出。
圖2顯示了容器相對于射出針頭的運動輪廓。本文中，在左側(cè)坐標系中 用毫米繪制線性位置，并在該坐標系用毫秒繪制時間。在該情況下，完整的 行進或運動輪廓B包括四個區(qū)段B1-B4，其中，這里采用了對稱的運動輪廓。 單個區(qū)段B1-B4通過連接彼此合并，然而，如上所述，這并不是絕對必須的。
作為替代，可通過適當?shù)乃俣瓤刂?，達到順暢的運動。在圖2顯示的圖 形中，區(qū)段B2與B3的運動方向正好相反。然而，還可能的是，在簡短的時間段內(nèi)容器保持停頓，并在該時間內(nèi)射出電子輻射物。標號dT表示對容器10 進行消毒的時間段。因此，在該時間段內(nèi)，處理頭部5相對于容器10發(fā)生相 對運動和射出的電子。
可能的是，根據(jù)對具體容器實施的測量，確定整個行進輪廓B。然而， 可想而知的是，不同區(qū)段基于對不同容器實施的測量。例如，區(qū)段Bl和B4 描述處理頭部5在容器10的上部區(qū)域的運動，而區(qū)段B2和B3描述在容器的 下部區(qū)域的運動?？赡艿氖?，這里區(qū)段B1和B4基于對第一參考容器實施的 測量，而區(qū)段B2和B3基于對第二參考容器實施的測量。
圖3a和3b顯示了用于具有球形內(nèi)部橫截面的容器的測量設定。在左側(cè) 的圖形中，處理頭部5或其出口窗7設置在容器10的上端，而圖3b中，處 理頭部5或其出口窗7設置在容器10的中部?？梢钥闯觯鶕?jù)處理頭部5相 對于容器內(nèi)部的位置，可獲得不同的輻射分布S。特別地，圖3b中顯示的不 同輻射的路徑長度，比圖3a中顯示的位置處的路徑長度短。因此，在圖3b 顯示的實施例的情況下，容器10的下半球形的發(fā)射強度更高。
實施圖3a和3b顯示的實驗后，可移除設置在容器內(nèi)部的劑量測量薄膜， 并對其進行評估。
圖4和5顯示了用于確定行進輪廓的另一實驗?？梢钥闯?，劑量分布取 決于過程參數(shù)行程速度(v)、瓶子幾何形狀(d, p)、加速電壓、輻射電流和處理 的持續(xù)時間。本文中，速度v與容器的直徑d和開口角度p相關聯(lián)。由于取 決于容器的幾何形狀，所以在恒定行程速度下，不會出現(xiàn)均勻劑量分布，如 上所述，行程速度會變化。
圖4顯示了處在兩種不同的位置的處理頭部5，即圖4中出口窗所在的各 自中部Z1、 Z2處在兩種不同的位置。因此，可以看到容器內(nèi)壁上的不同輻射 分布Sl和S2。從圖4中的起始位置開始，即處理頭部的上部位置，通過散開 的圓頂，將劑量施加到瓶壁上。若射出針頭以速度v行進到目標位置，則該散開圓頂也移動，且新施加的劑量與從起始位置的亦J量疊加在一起。因此，
可到達瓶子內(nèi)壁的劑量也取決于先前處理頭部所施加的劑量。圖5中標號10b 表示容器的嘴部，標號10c表示容器10的嘴部區(qū)域，其位于所述嘴部10b的 下方，在嘴部區(qū)域10c中，容器10的橫截面d變寬。
輻射強度的級別，即加速電壓和輻射電流，取決于待處理的瓶子和待處 理的參考細菌。必須設置較大的細菌抵抗力、較大的瓶子尺寸和較高的輻射 強度。對于電子出口窗7的厚度，厚度范圍為7-13imi的鈦膜經(jīng)證實是尤其適 合的。通過積極的空氣冷卻，該厚度保證充足的穩(wěn)定性以抵抗電子束的熱效 應。
此外，隨著鈦膜厚度的增加，所述薄膜對消毒結(jié)果具有消極效果。較厚 的薄膜會比較薄的薄膜吸收更多的輻射能量，并因此在該情況下，更少的能 量可用于施加劑量。
圖6顯示了轉(zhuǎn)輪31的示意圖。該轉(zhuǎn)輪31包括根據(jù)本發(fā)明的多個裝置1， 其在各情況下布置在相同高度上。但可以看出，單獨的容器10在各情況下被 提升到最大位置，并以這種方式將處理頭部或射出針頭5放入容器10，以根 據(jù)旋轉(zhuǎn)位置改變深度。在該整個過程中，根據(jù)本發(fā)明的裝置1啟動，并以這 種方式在容器10的整個高度范圍內(nèi)對容器內(nèi)壁10a進行消毒。射出針頭5的 長度選擇成可對容器10的底部進行有效的消毒。
圖7顯示了根據(jù)本發(fā)明的布置的透視圖。另一傳輸轉(zhuǎn)盤42設置在根據(jù)本 發(fā)明的多個裝置l的上游。在轉(zhuǎn)盤42上傳輸容器。將容器引導經(jīng)過針對容器 的另一消毒裝置lb，并通過該另一消毒裝置lb，對容器的外壁進行消毒。然 后如上述那樣對容器10的內(nèi)部進行消毒。
標號44表示諸如轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)設備，通過旋轉(zhuǎn)設備，容器10繞它們的縱 向(或縱向軸線)旋轉(zhuǎn)。借助于該旋轉(zhuǎn)，可對容器10的外圓周的較大區(qū)域進行 消毒。也可沿容器10的傳輸方向一個接一個地設置多個消毒裝置lb。申請人在歐洲專利申請N0.07 007 977.7中對電子-妙出裝置進行了詳細 的描述。所述專利申請的內(nèi)容在此以整體引用的方式并入本申請。
此外，可在電子輻射的射出期間，將容器10放置在(部分)真空下。借助 于該過程，可增大電子在從出口窗7排出后的范圍。還可在電子射出之前設 置好這樣的部分真空。該過程考慮到了消毒的執(zhí)行和已經(jīng)形成的容器10的消 毒。
為了在容器10的內(nèi)部達到這種(部分)真空，可在處理頭部5的外圓周布 置密封設備(未顯示)， 一方面，密封設備可相對于處理頭部5沿其縱向移動， 另一方面，當處理頭部5進入容器10時，對處理頭部5和容器10的嘴部10b 之間進行密封。可在該密封設備上設置開口，借助于該開口將空氣從容器10 吸出，以在容器10內(nèi)部產(chǎn)生(部分)真空。
可將整個裝置或甚至多個這樣的裝置布置在要施加(部分)真空的腔體或 殼體內(nèi)。
可在實際電子射出期間和非輻射期間，執(zhí)行上述通過空氣的處理頭部5 的冷卻。
要聲明的是，只要本申請文件中的特征相對于現(xiàn)有技術單個或組合起來 具有新穎性，則它們對于本發(fā)明都是必不可少的。
權利要求
1.一種消毒容器(10)的方法，其中，將處理頭部(5)引入待消毒容器(10)的內(nèi)部，且在預設時間段(dT)內(nèi)，所述處理頭部(5)在所述容器(10)內(nèi)部至少間歇性地射出輻射物，其中，在所述預設時間段(dT)內(nèi)，所述容器(10)至少間歇性地相對于所述處理頭部(5)以相對運動速度(v)沿所述容器(10)的縱向(L)移動，其特征在于，位于所述容器(10)內(nèi)部的所述處理頭部(5)的該相對運動速度(v)，在所述預設時間段(dT)內(nèi)變化，并將該相對運動速度(v)作為所述容器(10)內(nèi)部輪廓(10a)的函數(shù)進行控制。
2. 根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述處理頭部(5)射出載流子。
3. 根據(jù)權利要求2所述的方法，其特征在于，根據(jù)存儲在存儲設備(14) 中的數(shù)據(jù)，通過控制設備(12)對所述運動進行控制，其中，所述數(shù)據(jù)為所述容 器沿所述容器(10)的縱向(L)的橫截面的特征。
4. 根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，將所述處理 頭部的運動作為所述容器(10)的直徑(D)的函數(shù)進行控制。
5. 根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，將所述處理 頭部(5)的運動作為所述容器(10)內(nèi)壁相對于所述容器(10)的所述縱向(L)的延伸角度的函數(shù)進行控制。
6. 根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，根據(jù)編寫的 行進輪廓對所述運動進行控制。
7. 根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，沿所述容器 (IO)的縱向(L)移動所述容器(IO)。
8. 根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，通過將處理 頭部(5)引入所述容器(10)內(nèi)部和所述處理頭部(5)在所述容器(10)的內(nèi)部射出輻射物，確定所述行進輪廓，其中，在射出輻射物期間，所述容器(10)沿所述 容器(10)的縱向(L)相對于所述處理頭部(5)移動，并記錄大量的特征數(shù)據(jù)，這 些數(shù)據(jù)是輻射物撞擊所述容器內(nèi)壁的特征。
9. 根據(jù)權利要求8所述的方法，其特征在于，在所述容器(10)的內(nèi)壁上 設置這樣一種材料該材料與所述處理頭部(5)射出的輻射物發(fā)生反應，并允 許得出該輻射物強度的結(jié)論。
10. —種確定所述容器內(nèi)部消毒的行進輪廓的方法，其中，將處理頭部(5) 弓1入所述容器內(nèi)部，且所述容器(l0)內(nèi)部的所述處理頭部(5)將輻射物弓I導到所 述容器內(nèi)壁(10a)上，其中，在射出輻射物期間，所述容器(10)相對于所述處理 頭部(5)沿所述容器(10)的縱向(L)移動，其特征在于，記錄大量的特征數(shù)據(jù)， 這些數(shù)據(jù)是輻射物撞擊所述容器(10)的內(nèi)壁(10a)的特征。
11. 一種消毒容器(IO)的裝置(I)，包括處理頭部(5)，所述處理頭部(5)以 如下方式構成，所述處理頭部(5)可被引入待消毒容器(10)內(nèi)部，其中，所述處 理頭部(5)包括射出輻射物的輻射源，其中，所述裝置(l)包括運動設備，所述 運動設備使所述容器相對于所述處理頭部沿所述容器(10)的縱向(L)以預設運 動速度移動，其特征在于，所述裝置(1)包括控制設備(12)，所述控制設備(12) 改變位于所述容器(10)內(nèi)部的所述處理頭部(5)的相對運動速度，并將所述相對 運動速度作為所述容器(l O)的內(nèi)部輪廓的函數(shù)進行控制。
12. 根據(jù)權利要求ll所述的裝置(l)，其特征在于，所述輻射源射出電荷 載體。
13. 根據(jù)權利要求11或12所述的裝置(1),其特征在于，所述裝置(l)包 括存儲設備(14)，在所述存儲設備(14)存儲所述處理頭部運動的行進輪廓特征。
14. 根據(jù)權利要求11或12或13所述的裝置(1)，其特征在于，所述裝置 (1)包括圖像記錄設備(16)，所述圖像記錄設備(16)記錄待消毒容器(10)的圖像。
15. 根據(jù)權利要求14所述的裝置(1)，其特征在于，所述裝置(l)包括多個處理頭部(5)，所述多個處理頭部(5)—個接一個地布置在傳輸設備(31)上。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種消毒容器(10)的方法和裝置。其中，將處理頭部(5)引入待消毒容器(10)的內(nèi)部，在預設時間段(dT)內(nèi)，所述處理頭部(5)在所述容器(10)內(nèi)部至少間歇性地射出輻射物，其中，在所述預設時間段(dT)內(nèi)，所述容器(10)至少間歇性地相對于所述處理頭部(5)以相對運動速度(v)沿所述容器(10)的縱向(L)移動。根據(jù)本發(fā)明，位于所述容器(10)內(nèi)部的所述處理頭部(5)的該相對運動速度(v)，在所述預設時間段內(nèi)變化，并將該相對運動速度(v)作為所述容器(10)內(nèi)部輪廓(10a)的函數(shù)進行控制。
文檔編號A61L2/08GK101658683SQ200910171598
公開日2010年3月3日 申請日期2009年8月25日 優(yōu)先權日2008年8月30日
發(fā)明者海因茨·胡梅勒, 約亨·克呂格爾 申請人:克朗斯股份有限公司