專利名稱：創(chuàng)面床準(zhǔn)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本申請涉及創(chuàng)面床準(zhǔn)備。
背景技術(shù)：
創(chuàng)面床準(zhǔn)備為創(chuàng)口處理獲得最大益處提供幫助并且為慢性創(chuàng)口的處理提供 機(jī)會(huì)。準(zhǔn)備創(chuàng)面床可以通過移除障礙物，例如雜質(zhì)粒子以及壞死的或失去活力 的組織來實(shí)現(xiàn)。壞死的或失去活力的組織通常存在于侵性非治愈性創(chuàng)口中，并
且將其移除有許多好處，包括移除!^1 復(fù)過程的細(xì)菌和細(xì)胞從而刺激 組
織的增長。
己知的用于創(chuàng)面床準(zhǔn)備的夕卜禾報(bào)術(shù)包括外禾秧端清創(chuàng)術(shù)(采用流餅洗接合
面并且i頓銳禾啲解剖刀、剪刀^^似的工具移除受損的組織)；自溶清創(chuàng)術(shù)(機(jī) 體通過位于創(chuàng)口的酶溶解無生存能力的組織來移除壞死的組織，酶是由醫(yī)師利 用潮濕的創(chuàng)口敷料而i音養(yǎng)的)；生物清創(chuàng)術(shù)(幼蟲或蛆療法)；酶清創(chuàng)術(shù)(使用 已知的外因誘導(dǎo)的蛋白水解酶配制品，例如纖酶或木瓜蛋白酶一尿素配制品 來觸發(fā)和促進(jìn)蛋白質(zhì)的失去活力的組織冰解和降解)；以及化f^清創(chuàng)術(shù)(在創(chuàng)口 區(qū)TO部應(yīng)用相對腐蝕性的化學(xué)藥品，例如鈣或鈉的次氯酸鹽或其它的化學(xué)物 質(zhì))。

發(fā)明內(nèi)容
下面描述的創(chuàng)面床準(zhǔn)皿術(shù)使得外科醫(yī)生在減少間擬員傷的斜牛下，同日報(bào) 制、切割和移除受損組織和污鵬。該技術(shù)使得外科醫(yī)生能夠M輕輕的接觸 將面床準(zhǔn)^g直接放置在創(chuàng)面床上，并Jil過每次沿創(chuàng)面床推動(dòng)該，準(zhǔn)確 地移除組織層。夕卜科清創(chuàng)術(shù)在一步內(nèi)被完成并利用可ltt接排出的相對少量的 沖洗tt減小對手術(shù)實(shí)施區(qū)域的浸潤，小濺污和擴(kuò)散的風(fēng)險(xiǎn)，該風(fēng)險(xiǎn)可造成 操作過程中的危險(xiǎn)。
一方面，用于傳遞流體射流到組織的創(chuàng)面床準(zhǔn)備裝置包括具有高度在 -0.0254mm到0.2032mm范圍內(nèi)的平臺(tái)的手持部分。
該實(shí)現(xiàn)包括一個(gè)或多個(gè)下歹U特征。例如，該裝置具有一寬度在0.8636mm至
4U684mm范圍內(nèi)的衝宣。該，具有一直徑在0.10668mm至0.12192mm范圍 內(nèi)的噴嘴。
另一方面，用于傳遞流體lt^llJ組纟只的創(chuàng)面床準(zhǔn)^g包括手持部分，.該手 持部分在其大部分組織接觸區(qū)域內(nèi)具有恒定的通道寬度，恒定通道寬度在 0.8636mm到1.1684mm范圍內(nèi)。
該實(shí)現(xiàn)包括一個(gè)或多個(gè)下歹鵬征。例如，該手持部^括^S端，其構(gòu)造為 在手術(shù)區(qū)域?qū)嵤┦中g(shù)操作，該遠(yuǎn)端限定鵬、平臺(tái)和背側(cè)，并且其中通道由遠(yuǎn) 端的背側(cè)延伸到平臺(tái)，并進(jìn)一步包括布置于鵬內(nèi)并構(gòu)造為在高壓下傳遞流體 到手術(shù)區(qū)域的第一管道，該第一管道包括具有流體開口的噴嘴，且該噴嘴被放 置在使流體開口中心和平臺(tái)之間的距離等于平臺(tái)高度的位置。該裝置進(jìn)一步包 括與手持部分連接的第二管道，該第二，構(gòu)造為從手術(shù)區(qū) 除流體和碎屑。 流體開口中心與平臺(tái)之間的距離約為.0127mm+0.1270mm-0.0254mm。第一管道
和第二管道在遠(yuǎn)端相連接。第一管道在該遠(yuǎn)端后側(cè)和平臺(tái)之間限定的彎曲部環(huán) 繞^^端的一部分，使得由第一管道流出的流體導(dǎo)向接近平臺(tái)臨近第二管道的 區(qū)域。該遠(yuǎn)端限定了第二管道與噴嘴流體相通，并且具有介于0.8636mm至 U684mm范圍內(nèi)的通道寬度。該通道寬度約為1.016mm+/-0.1270mm。第二管
道為u形。第,道在第:raiii的近端區(qū)鵬開，從而由于流體的近端發(fā)散減
小了流體對第:iMii的沖擊。噴嘴直徑約為0.1143111111+/-0.007621111110該，進(jìn)
一步包括構(gòu)造為向手持部分掛共高壓流體的控制臺(tái)。該裝置進(jìn)一步包離接于 控制臺(tái)和手持部分之間的管。該體進(jìn)一步包職接到控制臺(tái)和手持部分并構(gòu) 造為向手持部分提供高壓流體的泵組件。該裝置進(jìn)一步包括構(gòu)造為連接到流體
源以向鬆Mffi^流體的供給管道。
另一方面， 一種手術(shù)方纟^括,持部分的遠(yuǎn)端直接方 在創(chuàng)面床上；并同 時(shí)保持該遠(yuǎn)端與創(chuàng)面^t間的接觸，通過平臺(tái)的附近的噴嘴在壓力下傳遞流體 到創(chuàng)面床，以從創(chuàng)面床移除組織層，該平臺(tái)由遠(yuǎn)端形成，該噴嘴限定流體開口，
并MMg在使流體開口中心和平臺(tái)之間的距離在-0.0254mm至0.2032mm的范
圍內(nèi)的位置上。
該實(shí)現(xiàn)包括一個(gè)或多個(gè)下列特征。例如，傳遞流體至創(chuàng)面;KS包括接收沿一 鵬從噴嗷流出的流體，該通道由遠(yuǎn)端限定，并和噴嘴流體相通。在壓力下傳
遞流體至創(chuàng)面床包^M:該遠(yuǎn)端皿創(chuàng)面床充分地前后運(yùn)動(dòng)同時(shí)保持該遠(yuǎn)端和創(chuàng)面j^t間的撤蟲。


附圖1示出了創(chuàng)面床準(zhǔn)g置。
附圖2示出了該，的手持機(jī)部分的組成。
附圖3為該手持機(jī)的手持部分的管組件的偵艦圖。
附圖4為管組件的遠(yuǎn)端的平面透視圖。 附圖5為該遠(yuǎn)端的后側(cè)透視圖。 附圖6為該遠(yuǎn)端的剖面圖。 附圖7為該遠(yuǎn)端的后視圖。 附圖8為管組件中噴管的剖面圖。 附圖9為該遠(yuǎn)端的側(cè)視圖。 附圖IO為該遠(yuǎn)端的平面圖。 附圖11為該遠(yuǎn)端在附圖10中皿11-11的端視圖。
具體實(shí)施例方式
參照附圖1和2，創(chuàng)口準(zhǔn)^g 10包括控制臺(tái)12和手持機(jī)14。手持機(jī)14 包括手持部分16，其由外科醫(yī)生操作用于害岍、清潔和清除創(chuàng)口，用于在高壓 下傳遞流體至手持部分16的高壓軟管18，用于從手術(shù)區(qū)鄉(xiāng)除流體和碎屑的排 出管20。手持部分16 Sii高壓軟管18連接到泵組件22。泵組件22與控制臺(tái) 12連接從而M:高壓軟管18向，部分16 ,高壓流體，如美國公開號為 2003/0125660， 2004/0234380，以及2006/0264808專利申請描述的那樣，此^hil
過弓i用包括其^P內(nèi)容。
供^^路24也連接^組件22，其可連接到流 ，例如，一&7jC^ (未 示出)。來自于^^織路24的流#^組件22中鄉(xiāng)n壓并被輸超手持部分16。 手持部分16包括殼26和位于其中的管組件28并且由殼26向外延伸。除了如 下文戶皿手持部分16的遠(yuǎn)端34的結(jié)構(gòu)以及下文描述的噴嘴的直纟效卜，裝置10 采用可由Smith & Nephew公司獲得的Vereajet 水刀系統(tǒng)1 (Hydrosuigeiy System 1)和Versajet 插件(Plus),目錄號為控制臺(tái)弁50700(115V)，控制臺(tái) 弁50750(230V)， Vereajet 1手持機(jī)#50635(14mm/15°)， #50636(14rnrn/450)，和 弁50637(8mm/450)，以及Versajd 手持機(jī)插件 #52365(14mm/15°)， #52636(14mm/45°)，禾照52637(8mm/450)。
6參照附圖3，管組件28包^i接到高壓軟管18的噴管30，連接到排出管 20的排出管32。噴管30和排出管32連接至U遠(yuǎn)端34，噴管30鵬接到構(gòu)造為 從高壓流體流中移除{對可不需要物質(zhì)的過濾器35。參照附圖4，噴管30在彎曲 部36處^S端背側(cè)42環(huán)繞,端34， {吏得由噴管30流出的流體導(dǎo)向最^fii也 ^*^端34的平臺(tái)側(cè)43流向排出管32 。源自噴管30的高壓流體用于處理遠(yuǎn)端 34的平臺(tái)40附近的組織，并且由于文丘里管效應(yīng)，流體和被移除的組織被l^A 排出管32。出于前面提到的美國專利文獻(xiàn)2003/0125660中提到的目的，遠(yuǎn)端34 具有排氣孔38 。
參照附圖5-7，遠(yuǎn)端34限定有鵬44，鵬44的走向勤人遠(yuǎn)端34的后側(cè) 42圍繞彎曲部36至lj平臺(tái)40。噴管30 !戯爐在鵬44中，如附圖4和附圖5 所示。參考附圖8，噴管30的^ 46是一個(gè)噴嘴48，如前面的US 2006/0264808 提妾啲，其具有一個(gè)流糊咄孔49，用于組織處理的高壓流體從這個(gè)孔排出。 參考附圖9，流糊咄口 49的中心50和平臺(tái)40間的相對健被定為平臺(tái)高度 H，雜創(chuàng)面床準(zhǔn)備中對體10的j頓是非常重要的。平臺(tái)高度H越大，組織 處 具侵蝕性，越不準(zhǔn)確，最后的組織應(yīng)越粗糙；平臺(tái)高度H越小，組織處 理的侵t蟲TO小， 確，最后的組織應(yīng)越平滑。
參考附圖10和11，遠(yuǎn)端34限定了一個(gè)U形通道52，髓U形鵬52流 體從噴嘴48排出。由于高壓流體:SA排出管32所產(chǎn)生的文丘里管交贓，吸力 ^il道52到達(dá)^tb理的組織。通道寬度W,在創(chuàng)面床準(zhǔn)備中對裝置10的使用 是非常重要的。由于寬度對被吸AiI道中從而被流體腫流沖擊的組織的量的影 響，寬度W越大，組織處鵬具侵蝕性，越不準(zhǔn)確；寬度越小，越少的組織被 feAiiit，貝iJ組織處理的侵蝕'ra小， 確。fflil52在ilMii的近端區(qū)域54 展開，從而因?yàn)閲娚涞慕税l(fā)散減少了流體針fet通道壁的沖擊。
噴嘴排出孔49的直徑D在創(chuàng)面床準(zhǔn)備中對于體10的j頓也是非常觀 的。噴嘴直徑D越大，流體針繊不強(qiáng)，組織處理的鞭國、；噴嘴D直徑 越小，流體lt,強(qiáng)，組織處M具^^性，越急劇。
為了在創(chuàng)面床準(zhǔn)備應(yīng)用中，進(jìn)行薄層增量切除(比使用Versajet l和 Vereajet^插件系統(tǒng)更薄)，在清除后的組織上維持更平滑的表面(比使用 Vereajet l和Vereajetw插件系統(tǒng)更平滑)，并且在清創(chuàng)過程中衞共更簡便的用 戶控制(比^ffiVereaje嚴(yán)l和Versaje嚴(yán)插件系統(tǒng)更簡便)，^Vereajet^的系統(tǒng)參數(shù)，平臺(tái)高度H必須在-0.0010"到0.0080" (-0.0254醒到0.2032mm)的 范圍內(nèi)， 優(yōu)選范圍約為 0.0005"+0.0050"-0.0010" (0.0127mm+0.1270mm-0.0254mm)，寬度W必須在0.0340"到0.0460" (0.8636mm至lj 1.1684mm)的范圍內(nèi)，優(yōu)選范圍約為0.0400，，+/- 0.0050" (1.016mm+/- 0.1270mm)，并且噴嘴直徑D必須在0.0042"到0.0048" (0.10668mm到0.12192mm)的范圍內(nèi)，優(yōu)選范圍約為0.0045"+/- 0.0003" (0.1143mm+/- 0.00762mm)。
由于通道寬度和平臺(tái)高度的組合，倉曬床準(zhǔn)皿置10能比Versajet l和 Vereajet^插件系統(tǒng)更加精確地切除創(chuàng)面床的表面。采用Versajet l和Versajet 插件系統(tǒng)外科醫(yī)生需要保持，稍微遠(yuǎn)離創(chuàng)面 面從而避免在組織中切入太 深，而創(chuàng)面床準(zhǔn)^g 10的手持部分16的遠(yuǎn)端34可以m輕輕的接鵬接置 于創(chuàng)面床上，同時(shí)M每次推動(dòng)，獲取精確的組織分層。相比于保持設(shè)備稍 微遠(yuǎn)離倉靦棘面，>1籽持部分16的遠(yuǎn)端34保持在組織表面^^卜科醫(yī)生更容 易控制。
本發(fā)明描述了許多實(shí)施例。盡管如此，可以理解的是在不脫離本發(fā)明精神 和范圍內(nèi)可以做多種變形。相應(yīng)地，其它實(shí)施例包含在下面的權(quán)利要求中。
權(quán)利要求
1.一種用于傳遞流體射流到組織的創(chuàng)面床準(zhǔn)備裝置，包括具有高度在-0.0254mm到0.2032mm范圍內(nèi)的平臺(tái)的手持部分。
2. 如權(quán)利要求l所述的裝置，具有寬度在0.8636mm至1.1684mm范圍內(nèi)的
3. 如權(quán)利要求1或2所述的裝置，具有直徑在0.10668mm至0.12192mm范圍內(nèi)的噴嘴。
4. 一種用于傳遞流體船荒到組織的創(chuàng)面床準(zhǔn)備裝置，包括手持部分，該手持部分在其大部分組織接觸區(qū)域內(nèi)具有恒定的通道寬度，該恒定通道寬度在 0.8636mm到U684mm范圍內(nèi)。
5. 如倒可戰(zhàn)權(quán)利要求戶脫的創(chuàng)面床準(zhǔn)^g，其中戰(zhàn)手持部他括構(gòu) 造為在手術(shù)區(qū)域?qū)嵤┦中g(shù)操作的遠(yuǎn)端，該遠(yuǎn)端限定通道、平臺(tái)和背側(cè)，并且所 述通道由遠(yuǎn)端的背側(cè)延伸到平臺(tái)，并進(jìn)一步包括布置于通道內(nèi)并構(gòu)造為在高壓 下傳遞流體至手術(shù)區(qū)域的第一管道，該第一管道包括具有流體開口的噴嘴，且 該噴嘴被定位成使流體開口中心和平臺(tái)之間的距離對應(yīng)于平臺(tái)的高度。
6. 如權(quán)利要求5戶脫的體，進(jìn)一步包括與手持部分連接的第二管道，該 第二管道構(gòu)造為從手術(shù)區(qū)i^除流體和碎屑。
7. 如權(quán)禾腰求5或6所述的裝置，其中流體開口中心與平臺(tái)之間的距離約 為.0127mm+0.1270mm曙0.0254mm。
8. 如權(quán)利要求5至7之一戶，的裝置，其中第一，和第二 在遠(yuǎn)端相 連接。
9. 如權(quán)利要求5至8之一戶;M的裝置，其中所述第一管道在該遠(yuǎn)端后側(cè)和 平臺(tái)之間限定的彎曲部環(huán)繞^端的一部分，使得由第一管道流出的流1tt接 近平臺(tái)區(qū)域?qū)虻诙艿馈?br> 10. 如權(quán)利要求5至9之一戶腐的體，其中戶; ^端限定了第二管道，，二，與噴嘴流體相通，并且具有介于0.8636mm至1.1684mm范圍內(nèi)的通道寬度。
11. 如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述通道寬度約為 1.016mm+/-0.1270mm。
12. 如權(quán)利要求10或11所述的^S，其中所述第二f^為U形。
13. 如權(quán)利要求10至12之一戶，的，，其中所述第^M在，
道的近端區(qū):TO開，從而由于流體的近端發(fā)散減小了流體對第:imit的沖擊。
14. 如權(quán)利要求5-13之一所述的裝置，其中噴嘴直徑約為 0.1143mm+/-0.00762mm。
15. 如任何戰(zhàn)權(quán)利要求戶腿的裝置，進(jìn)一步包括構(gòu)造為向手持部分Jli共 高壓流體的控制臺(tái)。
16. 如權(quán)利要求15所述的體，進(jìn)一步包^i接于控制臺(tái)和禍部分之間 的管。
17. 如權(quán)利要求15或16戶腿的錢，進(jìn)一步包繊接到控制臺(tái)和幫部 分并構(gòu)造為向，部分掛共高壓流體的^M牛。
18. 如權(quán)利要求17戶腿的驢，進(jìn)一步包括構(gòu)造為連接到流鵬以向^^且 #^流體的供給難。
19. 一種手術(shù)方法，包括 ^1^持部分的遠(yuǎn)端直接方ffl在創(chuàng)面床上；以及同時(shí)保持該遠(yuǎn)端與創(chuàng)面床之間的接觸，S31S端平臺(tái)附近的噴嘴在壓力下 傳遞流體至創(chuàng)面床，以從創(chuàng)面床移除組織層，該噴嘴限定流體開口，并被放置 在使流體開口中心和平臺(tái)之間的距離在-0.0254mm至0.2032mm的范圍內(nèi)的OT上。
20. 如權(quán)禾腰求19戶腿的方法，其中傳遞流體至創(chuàng)面raS包括接收沿"^t 道從噴嘴流出的流體，該通道由遠(yuǎn)端限定，并和噴嘴流做目通。
21. 如權(quán)利要求19或20所述的方法，其中在壓力下傳遞流體至創(chuàng)面床包 括通過該遠(yuǎn)端越過創(chuàng)面床充分地前后運(yùn)動(dòng)同時(shí)保持該遠(yuǎn)端和創(chuàng)面床之間的接 觸。
全文摘要
用于傳遞流體射流到組織的創(chuàng)面床準(zhǔn)備裝置，包括手持部分，手持部分具有高度在-0.0254mm到0.2032mm范圍內(nèi)的平臺(tái)，寬度在0.8636mm至1.1684mm范圍內(nèi)的通道，以及直徑在0.10668mm至0.12192mm范圍內(nèi)的噴嘴。該手持部分在其大部分組織接觸區(qū)域內(nèi)具有恒定的通道寬度。
文檔編號A61B17/3203GK101657163SQ200780048569
公開日2010年2月24日 申請日期2007年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月29日
發(fā)明者尤恩·麥肯齊, 歐內(nèi)斯特·A·戴恩, 理查德·貝維爾 申請人:史密夫和內(nèi)修有限公司