專利名稱：內(nèi)窺鏡清洗方法以及清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及內(nèi)窺鏡清洗方法、清洗裝置以及內(nèi)窺鏡清洗裝置。
背景技術(shù)：
軟式的內(nèi)窺鏡的管道，是在使用內(nèi)窺鏡進(jìn)行檢查或病變組織片 采樣時(shí)供被驗(yàn)者器官內(nèi)的污物、粘液、血液等體液、病原體等通過(guò) 的位置，是最需要完全地清洗殺菌的位置。作為以往的對(duì)內(nèi)窺鏡的 鉗子管道、吸引管道、送氣送水管道的內(nèi)部進(jìn)行清洗的方法， 一般 是，將在長(zhǎng)的不銹鋼絲的前端附設(shè)了刷子的結(jié)構(gòu)從各管道的手邊側(cè) 開(kāi)口部插入而手動(dòng)進(jìn)行刷洗。另外，代替手動(dòng)，也有使用由橡膠輥 驅(qū)動(dòng)帶刷金屬絲的自動(dòng)清洗裝置的方法(例如參照專利文獻(xiàn)l)。
使用該帶刷金屬絲的清洗若仔細(xì)地進(jìn)行則能夠提高清洗效果，
因此，需要反復(fù)進(jìn)行以下操作使插入管道的刷子從管道的前端側(cè) 開(kāi)口部伸出，將刷子在清洗液中用手指清洗使污物脫離后，朝向手 邊側(cè)開(kāi)口部拉回，用同樣的操作使拉出的刷子的污物脫落，然后再 插入并除去刷子的污物并拉回。因此，存在花費(fèi)工夫和時(shí)間以及進(jìn) 行清洗的作業(yè)者的負(fù)擔(dān)大的問(wèn)題。另外，由于準(zhǔn)備多個(gè)高價(jià)的內(nèi)窺 鏡對(duì)于醫(yī)療機(jī)構(gòu)來(lái)說(shuō)經(jīng)費(fèi)負(fù)擔(dān)大，所以需要用盡可能短的時(shí)間對(duì)檢 查時(shí)使用了的內(nèi)窺鏡進(jìn)行清洗殺菌以備循環(huán)使用，因此還存在用刷 子進(jìn)行的清洗作業(yè)被簡(jiǎn)化的問(wèn)題。
為解決這些問(wèn)題，代替用刷子進(jìn)行的清洗，采用使用電解水清 洗內(nèi)窺鏡的方法(例如參照專利文獻(xiàn)2)。在該以往的使用電解水的 內(nèi)窺鏡清洗中，管道的內(nèi)部和內(nèi)窺鏡的外部表面都使用相同的氯殘 留濃度和水質(zhì)的電解水進(jìn)行清洗殺菌。
專利文獻(xiàn)l:日本特開(kāi)2003 - 10116號(hào)公報(bào)
4專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2002-52033號(hào)公才艮
在將電解水用于清洗殺菌的情況下，其殺菌力及對(duì)有機(jī)物等的 氧化分解的能力取決于pH值及作用的氯殘留量。因此，在pH值不變 的情況下，殺菌力及分解能力取決于酸性水中的氯殘留濃度、酸性 水的接觸時(shí)間及通過(guò)的酸性水的流量。在進(jìn)行清洗殺菌的情況下， 氯殘留濃度越高，'接觸時(shí)間越長(zhǎng)，通過(guò)流量越多，殺菌效果和分解 效果越好，但與此相應(yīng)地，內(nèi)窺鏡主體被氧化劣化的程度也增大。 尤其是覆蓋內(nèi)窺鏡的纖維部分的樹(shù)脂覆蓋物容易發(fā)生氧化劣化，因 此，若使氯殘留濃度高的酸性水長(zhǎng)時(shí)間與其接觸，則容易引起表面 的變白和發(fā)粘。
在專利文獻(xiàn)2記載的以往的使用電解水的內(nèi)窺鏡清洗中，存在這 樣的問(wèn)題由于管道的內(nèi)部和內(nèi)蔬鏡的外側(cè)面都使用相同的氯殘留 濃度、相同的水質(zhì)的電解水進(jìn)行清洗殺菌，因此，若為了滿足管道 內(nèi)部的清潔度而使氯殘留濃度高的酸性水長(zhǎng)時(shí)間接觸來(lái)進(jìn)行清洗， 則內(nèi)窺鏡的外部表面的部件容易發(fā)生氧化劣化，使內(nèi)窺鏡的壽命縮 短。另外，還存在這樣的問(wèn)題若用氯殘留濃度較低的酸性水以短 時(shí)間進(jìn)行清洗，則由于內(nèi)窺鏡的外部表面容易除去污物，所以能夠 充分地清洗殺菌，但是管道內(nèi)部的清洗殺菌不能充分進(jìn)行，存在由 殘留的有機(jī)物引起的發(fā)霉等、由病原體引起的被驗(yàn)者間感染的危險(xiǎn) 性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是著眼于上述課題而完成的，其目的在于提供一種能夠 抑制內(nèi)窺鏡的劣化且能夠進(jìn)行有效的清洗的內(nèi)窺鏡清洗方法、清洗 裝置以及內(nèi)窺鏡清洗裝置。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的內(nèi)窺鏡清洗方法的特征在于，生成 酸性水，向所述酸性水的 一 部分加入比該酸性水pH值高的水而生成 稀釋酸性水，使所述稀釋酸性水與所述內(nèi)窺鏡的外部表面接觸以清 洗內(nèi)窺鏡的外部表面，將所述酸性水的另一部分從所述內(nèi)窺鏡的管道口送入所述內(nèi)窺鏡的管道的內(nèi)部以清洗所述管道的內(nèi)部。
本發(fā)明的內(nèi)窺鏡清洗方法優(yōu)選，生成pH值為2至5且氯殘留濃度 為50至300ppm的酸性水，向所述酸性水的一部分加入pH值為6以上 的水，生成pH值為2.3至5.7且氡殘留濃度為10至60ppm的稀釋酸性 水，使所述稀釋酸性水與所述內(nèi)窺鏡的外部表面接觸以清洗內(nèi)窺鏡 的外部表面，將所述酸性,水的另 一 部分從所述內(nèi)窺鏡的管道口送入 所述內(nèi)窺鏡的管道的內(nèi)部以清洗所述管道的內(nèi)部。
本發(fā)明的清洗裝置優(yōu)選，具有電解槽、酸性水箱、稀釋水供給 部、酸性水稀釋箱、清洗槽和高濃度水供給部，所述電解槽被設(shè)置 成能夠生成酸性水，所述酸性水箱能夠?qū)υ谒鲭娊獠壑猩傻乃?述酸性水進(jìn)行蓄水，并將所蓄的所述酸性水的一部分供給到所述酸 性水稀釋箱，將所述酸性水的另一部分供給到所述高濃度水供給部， 所述稀釋水供給部被設(shè)置成能夠向所述酸性水稀釋箱供給稀釋水， 所述酸性水稀釋箱能夠?qū)乃鏊嵝运涔┙o的所述酸性水的 一 部
酸性水稀釋箱具有能夠?qū)λ鱿♂屗嵝运M(jìn)行排水的排水口 ，所述 清洗槽具有將從所述酸性水稀釋箱的排水口排出的所述稀釋酸性水 蓄留在內(nèi)部的結(jié)構(gòu)，所述高濃度水供給部被設(shè)置成能夠?qū)乃鏊?性水箱供給的所述酸性水的另 一部分從所述管道連接口送入所述清 洗槽的內(nèi)部。
本發(fā)明的內(nèi)窺鏡清洗裝置優(yōu)選，具有電解槽、酸性水箱、稀釋 水供給部、酸性水稀釋箱和高濃度水供給部，所述電解槽被設(shè)置成 能夠生成酸性水，所述酸性水箱能夠?qū)υ谒鲭娊獠壑猩傻乃?酸性水進(jìn)行蓄水，并將所蓄的所述酸性水的一部分供給到所述酸性 水稀釋箱，將所述酸性水的另 一部分供給到所述高濃度水供給部，
所述稀釋水供給部被設(shè)置成能夠向所述酸性水稀釋箱供給稀釋水， 所述酸性水稀釋箱能夠?qū)乃鏊嵝运涔┙o的所述酸性水的一部 分和從所述稀釋水供給部供給的稀釋水混合并進(jìn)行收納，并且所述 酸性水稀釋箱具有能夠?qū)λ鱿♂屗嵝运M(jìn)行排水的排水口 ，所述高濃度水供給部被設(shè)置成具有能夠與內(nèi)窺鏡的管道口連接的管道連 接口 ，并且能夠從所述管道連^妄口對(duì)從所述酸性水箱供給的所述酸 性水的另 一部分進(jìn)行送水。
, 本發(fā)明的內(nèi)窺鏡清洗裝置優(yōu)選具有電解槽、酸性水箱、稀釋水
供給部、酸性水稀釋箱和高濃度水供給部，所述電解槽被設(shè)置成能
夠由自來(lái)水生成pH值為2至5且氯殘留濃度為50至300ppm的酸性水， 所述酸性水箱能夠?qū)υ谒鲭娊獠壑猩傻乃鏊嵝运M(jìn)行蓄水， 并將所蓄的所述酸性水的一部分供給到所述酸性水稀釋箱，將所述 酸性水的另 一部分供給到所述高濃度水供給部，所述稀釋水供給部 被設(shè)置成能夠向所述酸性水稀釋箱供給pH值為6以上的稀釋水，所述 酸性水稀釋箱能夠向從所述酸性水箱供給的所述酸性水的一部分中 添加從所述稀釋水供給部供給的稀釋水，并調(diào)節(jié)成pH值為2.3至5.7 且氯殘留濃度為10至60ppm的稀釋酸性水，并且所述酸性水稀釋箱具 有能夠?qū)λ鱿♂屗嵝运M(jìn)行排水的排水口 ，所述高濃度水供給部 被設(shè)置成具有能夠與內(nèi)窺鏡的管道口連接的管道連接口 ，并且能夠 從所述管道連接口對(duì)從所述酸性水箱供給的所述酸性水的另一部分 進(jìn)行送水。
在本發(fā)明中，通過(guò)對(duì)氯殘留濃度高的酸性水和將該酸性水稀釋 而成的稀釋酸性水分開(kāi)使用，能夠抑制裝置的劣化并進(jìn)行高效率的 清洗。
尤其，在本發(fā)明的內(nèi)窺鏡清洗方法以及內(nèi)窺^:清洗裝置中，通 過(guò)將酸性水從內(nèi)窺鏡的管道口向管道的內(nèi)部送水，能夠清洗內(nèi)窺鏡 的管道的內(nèi)部。另外，通過(guò)使將該酸性水稀釋而成的稀釋酸性水與 內(nèi)窺鏡的外部表面接觸，能夠清洗內(nèi)窺鏡的外部表面。由于通過(guò)氯 殘留濃度高的酸性水清洗內(nèi)窺鏡的管道的內(nèi)部，所以能夠以短時(shí)間 有效地去除管道內(nèi)部的污物。另外，由于通過(guò)稀釋酸性水清洗內(nèi)窺 鏡的外部表面，所以能夠抑制內(nèi)窺鏡的外部表面的氧化劣化，并能 夠去除內(nèi)窺鏡的外部表面的污物。這樣，在本發(fā)明的內(nèi)窺鏡清洗方 法中，能夠抑制內(nèi)窺鏡的劣化，并且能夠以短時(shí)間進(jìn)行高效率且有
7效的清洗。
在本發(fā)明的內(nèi)窺鏡清洗方法以及內(nèi)窺鏡清洗裝置中，在分開(kāi)使
用pH值為2至5且氯殘留濃度為50至300ppm的酸性水、和pH值為2.3 至5.7且氯殘留濃度為10至60ppm的稀釋酸性水的情況下，將pH值為2 至5且氯殘留濃度為50至300ppm的酸性水從內(nèi)窺鏡的管道口送入管 道的內(nèi)部，由此能夠清洗內(nèi)窺鏡的管道的內(nèi)部。另外，使pH值為2.3 至5.7且氯殘留濃度為10至60卯m的稀釋酸性水與內(nèi)窺鏡的外部表面 接觸，由此能夠清洗內(nèi)窺鏡的外部表面。由于通過(guò)氯殘留濃度高的 酸性水清洗內(nèi)窺鏡的管道的內(nèi)部，所以能夠以短時(shí)間有效地去除管 道內(nèi)部的污物。另外，由于通過(guò)對(duì)酸性水稀釋2~ 5倍程度的稀釋酸 性水清洗內(nèi)窺鏡的外部表面，所以能夠抑制內(nèi)窺鏡的外部表面的氧 化劣化，并能夠去除內(nèi)窺鏡的外部表面的污物。這樣，在本發(fā)明的 內(nèi)窺鏡清洗方法中，能夠抑制內(nèi)窺鏡的劣化，并且能夠以短時(shí)間進(jìn) 行高效率且有效的清洗。
本發(fā)明的清洗裝置除了能夠作為清洗內(nèi)窺鏡的裝置以外，還能 夠作為廚房洗滌池中清洗餐具、蔬菜等的裝置、魚市場(chǎng)中清洗水產(chǎn) 品的裝置以及其他各種物品的清洗裝置使用。
在本發(fā)明中，酸性水優(yōu)選氯殘留濃度為80至150ppm,稀釋酸性 水優(yōu)選pH值為2.5至4.5且氯殘留濃度為20至50ppm。該情況下，尤其 具有卓越的清洗效果。為了使稀釋酸性水與內(nèi)窺鏡的外部表面接觸， 可以將稀釋酸性水蓄留在清洗槽的內(nèi)部，使內(nèi)窺鏡浸在其中，也可 以將稀釋酸性水灑向內(nèi)窺鏡。酸性水既可以在有隔膜電解槽中生成， 也可以在無(wú)隔膜電解槽中生成。
發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種能抑制內(nèi)窺鏡的劣化且有效地進(jìn)行 清洗的內(nèi)窺鏡清洗方法、清洗裝置以及內(nèi)窺鏡清洗裝置。


圖l是示出了本發(fā)明的實(shí)施方式的內(nèi)窺鏡清洗方法以及內(nèi)窺鏡
8清洗裝置的框圖。
圖2是示出了圖l所示的內(nèi)窺鏡清洗方法以及內(nèi)窺鏡清洗裝置的 第l變形例的框圖。
圖3是示出了,圖1所示的內(nèi)窺鏡清洗方法以及內(nèi)窺錸清洗裝置的 第2變形例的框圖。
圖4是示出了圖l所示的內(nèi)窺鏡清洗方法以及內(nèi),窺鏡清洗裝置的
第3變形例的框圖。
附圖標(biāo)記i兌明
10內(nèi)窺鏡清洗裝置
11電解槽
12電解質(zhì)箱
13混合部
14酸性水箱
15堿性水箱
16稀釋水供給部
17酸性水稀釋箱
18堿性水稀釋箱
19自來(lái)水箱
20高濃度水供給部
21清洗槽
具體實(shí)施例方式
以下，根據(jù)附圖，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。 圖1至圖4示出了本發(fā)明的實(shí)施方式的內(nèi)窺鏡清洗方法以及內(nèi)窺
鏡清洗裝置。
如圖l所示，內(nèi)窺鏡清洗裝置10具有電解槽11、電解質(zhì)箱12、混 合部13、酸性水箱14、石威性水箱15、稀釋水供給部16、酸性水稀釋 箱17、堿性水稀釋箱18、自來(lái)水箱19、高濃度水供給部20和清洗槽 21。電解槽ll在內(nèi)部具有隔膜lla,電解槽ll由具有被隔膜lla分隔成 的陽(yáng)極室和陰極室的2槽式有隔膜電解槽構(gòu)成。電解槽ll能夠?qū)σ砸?guī) 定比率混合有添加了鹽等電解質(zhì)的電解質(zhì)溶液的自來(lái)水進(jìn)行電解， 在陽(yáng)極室生成酸性水，在陰極室生成堿性水。電解槽ll被設(shè)置成能 夠生成pH值為2至5且氯殘留濃度為50至300ppm的酸性水。另外，電 解槽ll能夠生成pH值為11.5至12.5的堿性水。
電解質(zhì)箱12中蓄有電解質(zhì)溶液，該電解質(zhì)箱12通過(guò)電解質(zhì)送水 泵P 1與混合部13連接。在混合部13中能夠流入通過(guò)了止回閥RV1 、 電磁閥SV1、流量調(diào)節(jié)閥、止回閥RV2的自來(lái)水。混合部13被連接到 電解槽ll上，該混合部13以規(guī)定的比率將電解質(zhì)溶液混合到自來(lái)水 中，并供給到電解槽ll。
酸性水箱14被連接到電解槽1 l上，該酸性水箱14能夠?qū)υ陔娊?槽11中生成的酸性水進(jìn)行蓄水。酸性水箱14通過(guò)泵P2及電磁閥SV5 而與酸性水稀釋箱17連接，且在泵P2之后分支并通過(guò)電》茲閥SV7而與 高濃度水供給部20連接。酸性水箱14將所蓄積的酸性水的 一部分供 給到酸性水稀釋箱17,將酸性水的另 一部分供給到高濃度水供給部 20。
堿性水箱15被連接到電解槽11上，該堿性水箱15能夠?qū)υ陔娊?槽ll中生成的堿性水進(jìn)行蓄水。堿性水箱15通過(guò)泵P3及電磁閥SV6 而與堿性水稀釋箱18連接，且在泵P3之后分支并通過(guò)電磁閥SV8而與 高濃度水供給部20連接。堿性水箱15將所蓄積的堿性水的一部分供 給到堿性水稀釋箱18,將堿性水的另 一部分供給到高濃度水供給部 20。
稀釋水供給部16具有過(guò)濾器。稀釋水供給部16被連接在止回閥 R V1和電磁閥S V1之間，以便過(guò)濾自來(lái)水中的細(xì)小污物和微生物而生 成稀釋水。稀釋水供給部16通過(guò)電磁閥SV3而與酸性水稀釋箱17連 接，通過(guò)電磁岡SV2而與堿性水稀釋箱18連接，并且與自來(lái)水箱19 連接，還通過(guò)電磁閥SV4而與高濃度水供給部20連接，從而能夠?qū)⑾?釋水供給到酸性水稀釋箱17、堿性水稀釋箱18、自來(lái)水箱19以及高濃度水供給部20。
酸性水稀釋箱17在下部具有排水口 17a。酸性水稀釋箱17在從酸 性水箱14供給的酸性水的 一部分中添加從稀釋水供給部16供給的稀 釋水，從而能夠調(diào)節(jié)成pH值為2.3至5.7且氯殘留濃度為10至60ppm的 稀釋酸性水。另外，酸性水稀釋箱17能夠從排水口17a對(duì)稀釋酸性水 進(jìn)行排水。
堿性水稀釋箱18在下部具有排水口 18a。堿性水稀釋箱18在從堿 性水箱15供給的堿性水的 一部分中添加從稀釋水供給部16供給的稀 釋水，從而能夠調(diào)節(jié)成pH值為ll至11.8的稀釋堿性水。另外，堿性 水稀釋箱18能夠從排水口 18a對(duì)稀釋堿性水進(jìn)行排水。
自來(lái)水箱19在下部具有排水口 19a,在上部具有^l形旋塞19b。 自來(lái)水箱19使從稀釋水供給部16供給的稀釋水通過(guò)球形旋塞19b而 能夠蓄水。另外，自來(lái)水箱19能夠從排水口 19a對(duì)稀釋水進(jìn)行排水。
高濃度水供給部20具有分配器20a和與分配器20a連接的3個(gè)管道 清洗水接頭20b。分配器20a能夠?qū)?lái)自酸性水箱14的酸性水、來(lái)自 堿性水箱15的堿性水及來(lái)自稀釋水供給部16的稀釋水中的任意一種 分配到各管道清洗水接頭20b以進(jìn)行送水。各管道清洗水接頭20b的 各自的前端上分別具有能夠與內(nèi)窺鏡的鉗子管道口 、吸引管道口 、 送氣送水管道口連接的管道連接口20c。這樣，高濃度水供給部20能 夠?qū)?lái)自酸性水箱14的酸性水、來(lái)自堿性水箱15的堿性水及來(lái)自稀 釋水供給部16的稀釋水中的任意一種從各管道連接口20c進(jìn)行送水。
清洗槽21在下部具有排水閥21a,在側(cè)部具有注入口21b,在內(nèi) 部的規(guī)定位置能夠收納內(nèi)窺鏡。清洗槽21的注入口 21b被連接到酸性 水稀釋箱17的排水口 17a、堿性水稀釋箱18的排水口 18a及自來(lái)水箱 19的排水口19a上，以便使稀釋酸性水、稀釋堿性水及稀釋水從注入 口 21 b流入內(nèi)部并蓄留。清洗槽21能夠從排水閥21 a對(duì)內(nèi)部蓄留的稀 釋酸性水、稀釋堿性水或稀釋水進(jìn)行排水。
本發(fā)明的實(shí)施方式的內(nèi)窺鏡清洗方法是由本發(fā)明的實(shí)施方式的 內(nèi)窺鏡清洗裝置10實(shí)施的方法。首先，打開(kāi)自來(lái)水總栓，自來(lái)水通過(guò)止回閥RV1分成兩路， 一路到達(dá)用于對(duì)流向電解槽11的供給水進(jìn)
行控制的電磁閥SVl,另一路通過(guò)稀釋水供給部16而分支，從而有的 通過(guò)球形旋塞19b而被蓄留在自來(lái)水箱19中，有的到達(dá)用于對(duì)分別流 向酉泉性水稀釋箱17、堿性水稀釋箱18的注水進(jìn)行控制的電磁閥SV2、 SV3和用于對(duì)流向分配器20a的給水進(jìn)行控制的電磁閥SV 。
接著，當(dāng)內(nèi)窺鏡清洗裝置10的電源SW為ON(接通)時(shí)，電》茲閥 SV1打開(kāi)，自來(lái)水通過(guò)流量調(diào)節(jié)閥、止回閥RV2到達(dá)混合部13。同時(shí)， 電解質(zhì)送水泵P 1開(kāi)始運(yùn)轉(zhuǎn)，將規(guī)定量的電解質(zhì)溶液送入混合部13。 在混合部13，自來(lái)水以規(guī)定比率與電解質(zhì)溶液混合，在電解槽ll中 被電解而生成酸性水和堿性水，并分別蓄積在酸性水箱14和堿性水 箱15中。生成的酸性水的pH值為2至5且氯殘留濃度為50至300ppm, 生成的堿性水不含或只含有微量的殘留氯。電磁閥SV2、 SV3打開(kāi)， 稀釋水被注入到酸性水稀釋箱17、堿性水稀釋箱18中，當(dāng)?shù)竭_(dá)設(shè)定 的水量時(shí)，電》茲閥SV2、 SV3關(guān)閉。
酸性水、堿性水在酸性水箱14、堿性水箱15中蓄留了規(guī)定量時(shí), 送水泵P2、 P3開(kāi)始運(yùn)轉(zhuǎn)。同時(shí)，電/f茲閥SV5、 SV6打開(kāi)，酸性水、堿 性水分別被送入酸性水稀釋箱17、堿性水稀釋箱18而注入到剛才蓄 留的稀釋水中，當(dāng)達(dá)到規(guī)定量時(shí)，電磁閥SV5、 SV6關(guān)閉，泵P2、 P3 停止。通過(guò)這樣，在酸性水稀釋箱17、堿性水稀釋箱18中蓄積所需 要量的、用于外部表面清洗的氯殘留濃度的稀釋酸性水、稀釋堿性 水。稀釋酸性水的pH值為2.3至5.7且氯殘留濃度為10至60ppm。
此外，在將酸性水、堿性水分別送入酸性水稀釋箱17和堿性水 稀釋箱18的過(guò)程中，若酸性水箱14和堿性水箱15內(nèi)的酸性水或堿性 水到達(dá)設(shè)定的水位，則對(duì)應(yīng)的泵P2、 P3停止，當(dāng)酸性水或^ 咸性水蓄 留規(guī)定量時(shí)，再次開(kāi)始送水。當(dāng)酸性水箱14和堿性水箱15充滿水時(shí)， 電解槽ll中的酸性水、堿性水的電解生成自動(dòng)停止。
接下來(lái)，將內(nèi)窺鏡置于清洗槽21的規(guī)定位置，在內(nèi)窺鏡的各管 道口上連接管道清洗水接頭20b的管道連接口 20c。當(dāng)清洗開(kāi)始SW為 ON時(shí)，清洗槽21的排水閥21a關(guān)閉，堿性水稀釋箱18的排水口 18a打開(kāi)，經(jīng)過(guò)了濃度調(diào)節(jié)的稀釋堿性水作為內(nèi)窺鏡的外部表面清洗水流 入清洗槽21中以對(duì)外部表面進(jìn)行清洗。同時(shí)，泵P3開(kāi)始運(yùn)轉(zhuǎn)，電》茲
閥SV8打開(kāi)，pH值為11.5至12.5的高濃度堿性水經(jīng)過(guò)分配器20a、管 道清洗水接,頭20b而被供給到內(nèi)窺鏡的各管道的內(nèi),部以對(duì)管道的內(nèi) 部進(jìn)行清洗。關(guān)于堿性水，氫氧根離子濃度越高，對(duì)蛋白、油脂類 的分解,清洗力越大，因此能夠有效地去除各管道內(nèi)的蛋白、油脂等 污物。由此，在利用酸性水進(jìn)行清洗之前，能夠使污物脫離，能夠 提高清洗殺菌效果。在清洗管道內(nèi)部的同時(shí)從中通過(guò)的堿性水被排 出到清洗槽21內(nèi)，由稀釋堿性水稀釋。
經(jīng)過(guò)了堿性水清洗的設(shè)定時(shí)間后，清洗槽21的排水閥21 a打開(kāi)， 清洗槽21內(nèi)的稀釋堿性水被排出。同時(shí)，泵P3停止，電磁閥SV8關(guān)閉， 結(jié)束向管道內(nèi)部供給堿性水。清洗槽21的排水結(jié)束后，自來(lái)水箱19 的排水口19a打開(kāi)，向清洗槽21供給稀釋水。同時(shí)，電磁閥SV4打開(kāi)， 稀釋水通過(guò)分配器20a、管道清洗水接頭20b而被供給到管道的內(nèi)部。 由此，對(duì)殘留于內(nèi)窺鏡的外部表面及管道內(nèi)部的堿性水和與堿性水 反應(yīng)而生成的污染物的分解殘?jiān)M(jìn)行沖洗。使用水的清洗經(jīng)過(guò)了設(shè) 定時(shí)間后，與堿性水清洗同樣地，清洗槽21內(nèi)的稀釋水被排出，電 磁閥SV4關(guān)閉，向管道內(nèi)部的給水也結(jié)束。
清洗槽21的排水結(jié)束后，與堿性水清洗同樣地，從酸性水稀釋 箱17將被濃度調(diào)節(jié)為內(nèi)窺鏡的外部表面清洗水的、pH值為2.3至5.7 且氯殘留濃度為10至60卯m的稀釋酸性水供給到清洗槽21,使稀釋酸 性水與外部表面^"觸而進(jìn)^f亍清洗。同時(shí)，泵P2開(kāi)始運(yùn)轉(zhuǎn)，電^f茲閥SV7 打開(kāi)，pH值為2至5且氯殘留濃度為50至300ppm的高濃度酸性水被供 給到管道內(nèi)部，以對(duì)管道內(nèi)部進(jìn)行清洗。這樣，由于利用氯殘留濃 度高的酸性水對(duì)內(nèi)窺鏡的管道內(nèi)部進(jìn)行清洗，所以能夠以短時(shí)間去 除管道內(nèi)部的污物。另外，由于利用將酸性水2 5倍程度稀釋后的 稀釋酸性水對(duì)內(nèi)窺鏡的外部表面進(jìn)行清洗，所以能夠抑制內(nèi)窺鏡的 外部表面的氧化劣化，并能夠去除內(nèi)窺鏡的外部表面的污物。這樣， 能夠抑制內(nèi)窺鏡的劣化，同時(shí)能夠以短時(shí)間進(jìn)行高效率且有效的清
13洗。
通過(guò)了管道內(nèi)部的酸性水被排出到清洗槽21中。此時(shí)，通過(guò)細(xì) 的管道內(nèi)部的酸性水的量與清洗槽21內(nèi)的稀釋酸性水的量相比減少 為l / 15 ~ 1 / 5程度，，殘留氯在通過(guò)管道過(guò)程中與污染物反應(yīng)而被消
耗，因此不至于增加清洗槽21內(nèi)的氯殘留量，故而不擔(dān)心會(huì)損傷外
部表面。經(jīng)過(guò)了酸性水清洗的設(shè)定時(shí)間后，與堿性水清洗同樣地，
清洗槽21內(nèi)的稀釋酸性水被排出，結(jié)束向管道內(nèi)部供給酸性水。清 洗槽21的排水結(jié)束后，再次經(jīng)過(guò)利用自來(lái)水箱19的稀釋水進(jìn)行的水 洗過(guò)程，從而內(nèi)窺鏡的清洗殺菌結(jié)束。
此外，氯殘留濃度濃的pH值低的高濃度酸性水及pH值高的高濃 度堿性水若直接接觸人體是危險(xiǎn)的。pH值超過(guò)12的高濃度堿性水尤 其危險(xiǎn)。因此，高濃度酸性水及高濃度堿性水只在對(duì)內(nèi)窺鏡的各管 道內(nèi)部進(jìn)行清洗消毒時(shí)使用，而在清洗中直接接觸的可能性高的清 洗槽21中，則供給稀釋酸性水及稀釋堿性水。
從酸性水稀釋箱17、堿性水稀釋箱18及自來(lái)水箱19向清洗槽21 的給水也可以根據(jù)需要由泵進(jìn)行。自來(lái)水箱19也可以具有電極。該 情況下，通過(guò)使電極間帶電，由自來(lái)水中含有的氯、氯離子產(chǎn)生次 氯酸、次氯酸離子等，從而能夠抑制自來(lái)水箱19內(nèi)的微生物繁殖。 本發(fā)明的實(shí)施方式的內(nèi)窺鏡清洗方法以及內(nèi)窺鏡清洗裝置10不限于 內(nèi)窺鏡的清洗，還可以有效地用于具有手從外部不能直接觸及的空 間或通水路的醫(yī)療設(shè)備和食品加工設(shè)備等的清洗。
電解槽ll也可以由在陽(yáng)極電解室和陰才及電解室的中間具有由兩 片隔膜分隔成的中間室的類型的3槽式電解槽構(gòu)成。該情況下，在陽(yáng) 極電解室中通入自來(lái)水等尤其是不加電解質(zhì)的水，在中間室注滿接
近飽和的濃度的食鹽水等電解質(zhì)水溶液并進(jìn)行電解，使cr等陰離子
從中間室向陽(yáng)極電解室移動(dòng)，使Na+等陽(yáng)離子向陰極電解室中移動(dòng)， 由此，能夠在確保中間室的pH值為大致中性的狀態(tài)下，在陽(yáng)極電解 室中生成酸性水，在陰極電解室中生成堿性水。另外，也可以由下 述類型的電解槽構(gòu)成在由隔膜1 la分隔出的 一個(gè)室中注滿高濃度的電解質(zhì)水溶液，在另一個(gè)室中使自來(lái)水等通過(guò)以切換電極的極性， 由此使通過(guò)的自來(lái)水等變化成酸性電解水或堿性電解水。此外，在 采用有隔膜的電解槽1 1的情況下，只要生成pH值低的氯殘留量大的
酸性水，就會(huì)與其程度對(duì)應(yīng)地生成pH值高的堿性水。例如，在電解, 前的水為中性的情況下，當(dāng)酸性水的pH值為2.5且氯殘留濃度為 200ppm時(shí)，堿性水的pH值對(duì)應(yīng)于與氯殘留生成有關(guān)的Cr量大'幅移 動(dòng)，使得堿性水的pH值超過(guò)11.9。
如圖2所示，清洗槽2l也可以相對(duì)于醫(yī)療施設(shè)等上設(shè)置的洗滌池 的水槽l可拆裝。該情況下，在不進(jìn)行內(nèi)窺鏡的清洗時(shí)可以拆下，作 為通常的洗滌池使用。在拆下清洗槽21的狀態(tài)下，也能夠使用酸性 水及堿性水，并能夠用于殺菌清洗和油脂、蛋白清洗等。另外，在 內(nèi)窺鏡的預(yù)備清洗中也可以使用。將清洗槽21安裝到水槽1上時(shí)，從 清洗槽21溢流的水可以從水槽1排水，從而能夠使酸性水、堿性水和 稀釋水循環(huán)，能夠一邊從清洗槽21溢流一邊進(jìn)行內(nèi)窺鏡的清洗。使 清洗槽21成為能夠只將排水閥21a與洗滌池的排水閥連動(dòng)地開(kāi)閉的、 除此之外不具有可動(dòng)部分的簡(jiǎn)單構(gòu)造，由此從水槽l拆下時(shí)的處理和 保管變得容易，并且能夠降低制作成本。此外，將電解槽ll、電解 質(zhì)箱12、堿性水箱15、酸性水箱14等收納在洗滌池的水槽1下方的收 納部2中，將酸性水稀釋箱17、堿性水稀釋箱18、自來(lái)水箱19、稀釋 水供給部16等收納在洗滌池上方的吊根3中。
另外，如圖2所示，酸性水稀釋箱17及堿性水稀釋箱18分別由A 槽和B槽這兩槽構(gòu)成，使從酸性水箱14或堿性水箱15供給的酸性水或 堿性水流入A槽，使從A槽溢流的酸性水或堿性水流入B槽，從稀釋 水供給部16供給到B槽的稀釋水，由此，在B槽的內(nèi)部能夠調(diào)節(jié)成稀 釋酸性水或稀釋堿性水。該情況下，能夠?qū)槽內(nèi)的高濃度的酸性水 或堿性水從各管道清洗水接頭20b供給到內(nèi)窺鏡的管道內(nèi)部，將B槽 內(nèi)的稀釋酸性水或稀釋堿性水供給到清洗槽21的內(nèi)部，從而進(jìn)行清 洗。
而且，如圖2所示，也可以具有氣泵P5、 P6。該情況下，在使用
15堿性水或酸性水對(duì)內(nèi)窺鏡的管道內(nèi)部清洗結(jié)束后，驅(qū)動(dòng)氣泵P5、 P6 而將空氣送入管道內(nèi)部，由此能夠?qū)⒐艿纼?nèi)部的堿性水或酸性水徹 底排出。
如圖3所示，電解槽ll由無(wú)隔膜電解槽構(gòu)成，電解質(zhì)箱12的內(nèi)部
的電解質(zhì)溶液也可以由氯化鈉和鹽酸等酸的混合水溶液構(gòu)成。該情
況下，在無(wú)隔膜電解槽中，也能夠生成pH值為2至5且氯殘留濃度為 50至300ppm的酸性水。另外，如圖3所示，也可以具有在內(nèi)部存^(諸清 洗劑的清洗水箱31。該情況下，沒(méi)有使用堿性水的清洗工序，只有 使用稀釋水及酸性水的清洗工序，但稀釋水清洗時(shí)，從清洗水箱31 供給清洗劑，由此能夠提高清洗效果。
此外，在電解槽ll由無(wú)隔膜電解槽構(gòu)成的情況下，若直接電解 鹽水等，則生成弱堿性的次氯酸鈉水溶液。由于該次氯酸鈉水溶液 是弱堿性的，所以存在與有機(jī)物反應(yīng)生成有害的三卣甲烷 (trihalomethane )的問(wèn)題。另外，次氯酸鈉中的殘留氯幾乎都是與 鈉成對(duì)的次氯酸離子，與酸性區(qū)域的次氯酸狀態(tài)相比，活性低，反 應(yīng)速度降低為1/10~ 1/100,因此為了獲得同程度的殺菌、氧化效 果，就需要10倍以上的氯殘留濃度。因此，為了避免發(fā)生這些問(wèn)題， 向鹽水中添加鹽酸等以電解預(yù)先成酸性的水，由此即使與有機(jī)物反 應(yīng)也不生成三卣曱烷，能夠生成殘留氯為次氯酸狀態(tài)的酸性的次氯 酸水溶液。
如圖4所示，清洗槽21也可以設(shè)置于醫(yī)療施設(shè)等上設(shè)置的洗滌池 的水槽1下方的收納部2中，并能夠從收納部2拉出。該情況下，在清 洗內(nèi)窺鏡時(shí)，能夠?qū)⑶逑床?1從水槽1下方的收納部2中拉出，將內(nèi) 窺鏡置于清洗槽21的規(guī)定位置而清洗內(nèi)窺鏡?？衫龅那逑床?l也 可以在洗滌池的水槽l下方的收納部2中i殳置多個(gè)。
權(quán)利要求
1.一種內(nèi)窺鏡清洗方法，其特征在于，生成酸性水，向所述酸性水的一部分加入比該酸性水pH值高的水而生成稀釋酸性水，使所述稀釋酸性水與所述內(nèi)窺鏡的外部表面接觸以清洗所述內(nèi)窺鏡的外部表面，將所述酸性水的另一部分從所述內(nèi)窺鏡的管道口送入所述內(nèi)窺鏡的管道的內(nèi)部以清洗所述管道的內(nèi)部。
2. —種內(nèi)窺鏡清洗方法，其特征在于， 生成pH值為2至5且氯殘留濃度為50至300ppm的酸性水，向所述酸性水的 一部分加入pH值為6以上的水，生成pH值為2.3 至5,7且氯殘留濃度為10至60卯m的稀釋酸性水，使所述稀釋酸性水與所述內(nèi)窺鏡的外部表面接觸以清洗內(nèi)窺鏡 的外部表面，將所述酸性水的另 一部分從所述內(nèi)窺鏡的管道口送入所述內(nèi)窺 鏡的管道的內(nèi)部以清洗所述管道的內(nèi)部。
3. —種清洗裝置，其特征在于，具有電解槽、酸性水箱、稀釋水供給部、酸性水稀釋箱、清洗 槽和高濃度水供給部，所述電解槽被設(shè)置成能夠生成酸性水，所述酸性水箱能夠?qū)υ谒鲭娊獠壑猩傻乃鏊嵝运M(jìn)行蓄 水，并將所蓄的所述酸性水的一部分供給到所述酸性水稀釋箱，將 所述酸性水的另 一部分供給到所述高濃度水供給部，所述稀釋水供給部被設(shè)置成能夠向所述酸性水稀釋箱供給稀釋水，所述酸性水稀釋箱能夠?qū)乃鏊嵝运涔┙o的所述酸性水的 一部分和從所述稀釋水供給部供給的稀釋水混合并進(jìn)行收納，并且所述酸性水稀釋箱具有能夠?qū)λ鱿♂屗嵝运M(jìn)行排水的排水口 ，所述清洗槽具有將從所述酸性水稀釋箱的排水口排出的所述稀 釋酸性水蓄留在內(nèi)部的結(jié)構(gòu)，所述高濃度水供給部被設(shè)置成能夠?qū)?人所述酸性水箱供給的所 述酸性水的另 一 部分從所述管道連接口送入所述清洗槽的內(nèi)部。 .
4. 一種內(nèi)窺鏡清洗裝置，其特征在于，具有電解槽、酸性水箱、稀釋水供給部、酸性水稀釋箱和高濃 度水供給部，所述電解槽被設(shè)置成能夠生成酸性水，所述酸性水箱能夠?qū)υ谒鲭娊獠壑猩傻乃鏊嵝运M(jìn)行蓄 水，并將所蓄的所述酸性水的一部分供給到所述酸性水稀釋箱，將 所述酸性水的另一部分供給到所述高濃度水供給部，所述稀釋水供給部被設(shè)置成能夠向所述酸性水稀釋箱供給pH值為6以上的稀釋水，所述酸性水稀釋箱能夠?qū)乃鏊嵝运涔┙o的所述酸性水的 一部分和從所述稀釋水供給部供給的稀釋水混合并進(jìn)行收納，并且 所述酸性水稀釋箱具有能夠?qū)λ鱿♂屗嵝运M(jìn)行排水的排水口 ，所述高濃度水供給部被設(shè)置成具有能夠與內(nèi)窺鏡的管道口連接 的管道連接口，并且能夠從所述管道連接口對(duì)從所述酸性水箱供給 的所述酸性水的另 一部分進(jìn)行送水。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠抑制內(nèi)窺鏡的劣化且有效地進(jìn)行清洗的內(nèi)窺鏡清洗方法、清洗裝置以及內(nèi)窺鏡清洗裝置。電解槽(11)能夠由自來(lái)水生成pH值為2至5且氯殘留濃度為50至300ppm的酸性水。酸性水箱(14)能夠?qū)λ嵝运钏?，并將其一部分供給到酸性水稀釋箱(17)，將另一部分供給到高濃度水供給部(20)。稀釋水供給部(16)能夠?qū)⑾♂屗┙o到酸性水稀釋箱(17)。酸性水稀釋箱(17)能夠在來(lái)自酸性水箱(14)的酸性水的一部分中加入來(lái)自稀釋水供給部(16)的稀釋水，并調(diào)節(jié)成pH值為2.3至5.7且氯殘留濃度為10至60ppm的稀釋酸性水。高濃度水供給部(20)能夠?qū)乃嵝运?14)供給的酸性水的另一部分從管道連接口(20c)送入內(nèi)窺鏡的管道口。
文檔編號(hào)A61B1/12GK101600385SQ20078004255
公開(kāi)日2009年12月9日 申請(qǐng)日期2007年8月24日 優(yōu)先權(quán)日2006年11月16日
發(fā)明者中山武久, 菅野稔 申請(qǐng)人:菅野稔