專利名稱：人臉皮膚分析儀的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種皮膚分析儀，更具體地說，本實用新型涉及一種用于 分析人的面部皮膚的分析儀。
背景技術：
化妝品市場的繁榮，體現(xiàn)了我國人民生活極大提高。由于化妝品質(zhì)量參差 不齊，而產(chǎn)品技術監(jiān)督部門缺少有效的檢測手段，影響消費者對化妝品的理性 認識和選購，已經(jīng)成為我國化妝品市場健康發(fā)展的制約因素。因此，目前急需開發(fā)一種人臉皮膚分析儀用來填補我國的市場空白。本實 用新型是有效解決此問題的技術方法之一。實用新型內(nèi)容本實用新型為了滿足目前我國市場對人臉皮膚分析儀的需要，提供了一種 由環(huán)形光源、漫透射器、涂層均勻性檢測器、光學成像記錄系統(tǒng)等構成的人臉 皮膚分析儀。具體技術方案如下。本實用新型的人臉皮膚分析儀包括機殼、異型光源、漫透射器、單波長激 發(fā)光源、光學成像記錄系統(tǒng)、人臉固定可旋轉(zhuǎn)支架、紅斑分析系統(tǒng)和計算機處 理裝置，除機殼和計算機處理裝 臉面向異型光源，異型光源的垂直中心線穿過人臉中部，所述漫透射器布置在 人臉和異型光源之間使異型光源的光均勻地照射在人臉上，單波長激發(fā)光源布 置在人臉周邊和漫透射器前，漫透射器后面依次布置紅斑分析系統(tǒng)、光學成像 系統(tǒng)、成像記錄系統(tǒng)。漫透射器、紅斑分析系統(tǒng)、光學成像系統(tǒng)和成像記錄系 統(tǒng)擁有同一中心軸，計算機處理裝置對光學成像記錄系統(tǒng)記錄的數(shù)據(jù)進行整理 和處理。所述異型光源的顏色溫度選自2856 6000K，電功率為6、 8、 12或18W，使用輸出功率可調(diào)的直流電源供電實現(xiàn)發(fā)光強度可調(diào)。所述漫透射器是異型白色漫透射器，由工程塑料制成。所述單波長激發(fā)光源采用3 W黑光型高壓汞燈作激發(fā)光源，發(fā)射波長為365 nm的單色輻射。所述光學成像記錄系統(tǒng)采用600萬像素的CCD成像光學系統(tǒng)。該高分辨率 的光學成像記錄系統(tǒng)可以如實地記錄人臉皮膚上的細部特征。所述人臉固定可旋轉(zhuǎn)支架可左右旋轉(zhuǎn)45度。通過旋轉(zhuǎn)該固定支架可以達到 對人臉面部的各個部位的成像，可以全面地分析整個臉部的皮膚屋里特征。所述紅斑分析系統(tǒng)由650 750 nm波長的窄帶濾光器和偏振器組成。采用光譜分離技術，有效地將紅斑從黑色沉著背景中分離出來。所述計算機處理裝置將被攝錄下來的面部的物理形狀、紋理、皮膚粗糙度、 色斑和色素沉著等參數(shù)進行面積、數(shù)量、粗糙度、色度和黑白度或灰度的計算。本實用新型的人臉皮膚分析儀使用顏色溫度在預定范圍內(nèi)的光源，對人臉 皮膚進行均勻照射，用光學成像系統(tǒng)將人臉皮膚的顏色、紋理、色素沉著和斑 痕數(shù)量、形狀和面積記錄下來，根據(jù)CIA (國際照明學會)關于色度和黑白密 度的定義，通過計算機裝置進行計算、分析、數(shù)據(jù)整理和儲存，達到對某種化 妝品或某個人使用某種化妝品的效果的技術分析，從而可以滿足科研、化妝品 市場技術監(jiān)督和檢驗化妝品效果的目的。

圖1表示本實用新型的人臉皮膚分析儀的剖面前視圖。 符號說明1、光學成像記錄系統(tǒng)；2、光學成像系統(tǒng)；3、窄帶濾光片；4、偏振器；5、 異型光源；6、漫透射器；7、單波長激發(fā)光源；8、人臉固定可旋轉(zhuǎn)支架。
具體實施方式
下面參照圖1詳細地解釋本實用新型的人臉皮膚分析儀。本實用新型的人臉皮膚分析儀包括機殼、異型光源5、漫透射器6、單波長 激發(fā)光源7、光學成像記錄系統(tǒng)l、人臉固定可旋轉(zhuǎn)支架8、紅斑分析系統(tǒng)和計 算機處理裝置。除機殼和計算機處理裝置外的構成部件放在機殼內(nèi)。布置所述 構成部件使得在分析人臉皮膚時，受試者的下顎放在所述人臉固定可旋轉(zhuǎn)支架8 上，人臉面向異型光源5，異型光源5的垂直中心線穿過人臉中部。所述漫透射 器6布置在人臉和異型光源5之間使異型光源5的光均勻地照射在人臉上。單 波長激發(fā)光源7布置在人臉周邊和漫透射器6前。紅斑分析系統(tǒng)位于漫透射器6 后面。光學成像系統(tǒng)1位于紅斑分析系統(tǒng)之后。成像記錄系統(tǒng)1位于光學成像 系統(tǒng)2之后。漫透射器6、紅斑分析系統(tǒng)、光學成像系統(tǒng)2和成像記錄系統(tǒng)1 擁有同一中心軸。計算機處理軟件對光學成像記錄系統(tǒng)1記錄的數(shù)據(jù)進行整理 和處理。所述異型光源5的顏色溫度選自2856 6000 K，電功率為6、 8、 12或18 W， 使用輸出功率可調(diào)的直流電源供電實現(xiàn)發(fā)光強度可調(diào)。所述漫透射器6是異型白色漫透射器，由工程塑料制成。由異型光源5發(fā) 射的光經(jīng)漫透射器6均勻照射，再經(jīng)光學成像系統(tǒng)成像，由光學成像記錄系統(tǒng) 記錄下來。
所述單波長激發(fā)光源7釆用3 W黑光型高壓汞燈作激發(fā)光源，發(fā)射波長為 365 nm的單色輻射。所述光學成像記錄系統(tǒng)1釆用600萬像素的CCD成像光學系統(tǒng)。該高分辨 率的光學成像記錄系統(tǒng)可以如實地記錄人臉皮膚上的細部特征。所述人臉固定可旋轉(zhuǎn)支架8可左右旋轉(zhuǎn)45度。通過旋轉(zhuǎn)該固定支架8可以 達到對人臉面部的各個部位的成像，可以全面地分析整個臉部。所述紅斑分析系統(tǒng)主要由650 750 nm波長的窄帶濾光器3和偏振器4組 成。采用光譜分離技術，有效地將紅斑從黑色沉著背景中分離出來。所述計算機處理裝置將被攝錄下來的面部的物理形狀、紋理、皮膚粗糙度、 色斑和色素沉著等參數(shù)進行面積、數(shù)量、粗糙度、色度和黑白度或灰度的計算。在檢測面部涂層均勻度時，關閉異型光源5，接通單波長激發(fā)光源7，通過 窄帶濾光片3、光學成像系統(tǒng)2和光學成像記錄系統(tǒng)1將涂層激發(fā)出的可見光記 錄下來，然后利用面部涂層的均勻程度。紅斑分析是十分重要的，由于不同波長的太陽紫外輻射可引發(fā)人類皮膚變 紅或黑，顏色疊加，很難分辨。使用除單波長激發(fā)光源7外的全部構成部件， 可以將紅斑完全地記錄下來，利用計算機處理裝置可將其色度值計算出來。
權利要求1. 一種人臉皮膚分析儀，其特征在于，所述人臉皮膚分析儀包括機殼、異 型光源、漫透射器、單波長激發(fā)光源、光學成像記錄系統(tǒng)、人臉固定可旋轉(zhuǎn)支 架、紅斑分析系統(tǒng)和計算機處理裝置，除機殼和計算機處理裝置外的構成部件 放在機殼內(nèi)，布置所述構成部件使得在分析人臉皮膚時，受試者的下顎放在所 述人臉固定可旋轉(zhuǎn)支架上，人臉面向異型光源，異型光源的垂直中心線穿過人 臉中部，所述漫透射器布置在人臉和異型光源之間使異型光源的光均勻地照射 在人臉上，單波長激發(fā)光源布置在人臉周邊和漫透射器前，漫透射器后面依次 布置紅斑分析系統(tǒng)、光學成像系統(tǒng)、成像記錄系統(tǒng)，漫透射器、紅斑分析系統(tǒng)、 光學成像系統(tǒng)和成像記錄系統(tǒng)擁有同一中心軸，計算機處理裝置對光學成像記 錄系統(tǒng)記錄的數(shù)據(jù)進行整理和處理。
2. 如權利要求1所述的人臉皮膚分析儀，其特征在于，所述異型光源的顏 色溫度選自2856 6000 K，電功率為6、 8、 12或18 W，使用輸出功率可調(diào)的直流電源供電實現(xiàn)發(fā)光強度可調(diào)。
3. 如權利要求1所述的人臉皮膚分析儀，其特征在于，所述漫透射器是異 型白色漫透射器，由工程塑料制成。
4. 如權利要求1所述的人臉皮膚分析儀，其特征在于，所述單波長激發(fā)光 源采用3 W黑光型高壓汞燈作激發(fā)光源，發(fā)射波長為365 nm的單色輻射。
5. 如權利要求1所述的人臉皮膚分析儀，其特征在于，所述光學成像記錄 系統(tǒng)采用600萬像素的CCD成像光學系統(tǒng)。
6. 如權利要求1所述的人臉皮膚分析儀，其特征在于，所述人臉固定可旋 轉(zhuǎn)支架可左右旋轉(zhuǎn)45度。
7. 如權利要求1所述的人臉皮膚分析儀，其特征在于，所述紅斑分析系統(tǒng) 由650 750 nm波長的窄帶濾光器和偏振器組成。
專利摘要本實用新型的人臉皮膚分析儀屬于皮膚分析儀的技術領域，為了滿足目前我國市場對人臉皮膚分析儀的需要，提供了一種由機殼、異型光源、漫透射器、單波長激發(fā)光源、光學成像記錄系統(tǒng)、人臉固定可旋轉(zhuǎn)支架、紅斑分析系統(tǒng)和計算機處理裝置構成的人臉皮膚分析儀。漫透射器布置在人臉和異型光源之間使異型光源的光均勻地照射在人臉上，單波長激發(fā)光源布置在人臉周邊和漫透射器前，漫透射器后面依次布置紅斑分析系統(tǒng)、光學成像系統(tǒng)、成像記錄系統(tǒng)，它們擁有同一中心軸，計算機處理裝置對光學成像記錄系統(tǒng)記錄的數(shù)據(jù)進行整理和處理。本人臉皮膚分析儀可以對某種化妝品或某個人使用某種化妝品的效果進行技術分析，滿足科研、化妝品市場技術監(jiān)督和檢驗化妝品效果的目的。
文檔編號A61B5/00GK201019736SQ20072010344
公開日2008年2月13日 申請日期2007年2月2日 優(yōu)先權日2007年2月2日
發(fā)明者于家琳, 劉新志 申請人:北京大北華光科技發(fā)展有限責任公司