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彩繪貼膜全覆蓋頭盔的制作方法

文檔序號:12524887閱讀:1565來源:國知局
彩繪貼膜全覆蓋頭盔的制作方法與工藝

本實用新型涉及一種保護頭部的頭盔,具體涉及于摩托車和跑車頭盔、工地用安全帽等。



背景技術:

目前頭盔上的圖案一般都是通過繪制制作,其制作復雜,效率低,不符合大批量生成的需求。也有通過在頭盔上貼上具有圖案的貼紙,但由于頭盔表面是球面體,使貼紙難于平滑完整覆蓋上去,因此目前只能局部性采用,即采用幾塊貼膜分別貼在頭盔表面的局部位置上,不能完全覆蓋,因此容易脫離,使用效果并不理想。



技術實現(xiàn)要素:

本實用新型的目的是,為了解決現(xiàn)有頭盔存在上述的技術問題,提供一種全面覆蓋貼膜的頭盔。

本實用新型的目的可以通過以下技術方案實現(xiàn):

彩繪貼膜全覆蓋頭盔,包括頭盔本體和貼膜層,所述的貼膜層由多塊帶組合圖案的貼模拼湊而成,各貼膜之間間隙采用原子灰涂層彌合相互連接形成一體覆蓋在頭盔本體整體外表面上。

本實用新型的目的還可以通過以下技術方案實現(xiàn):

進一步的,所述的貼膜分成中間塊、左側塊和右側塊三大塊,中間塊覆蓋在頭盔本體中間位置,即中間塊為在頭盔本體頂部位置外表面上前后覆蓋的貼膜,左側塊和右側塊分別位于頭盔本體的左右兩側,設在中間塊的兩側,覆蓋在頭盔本體兩側的外表面上。

進一步的,所述的原子灰涂層厚度與貼膜的厚度相對應,形成平滑過渡的彌合層,在原子灰涂層上繪制與貼膜相對應的圖案,使各貼膜和原子灰涂層形成頭盔本體上的一整體覆蓋層。

本實用新型的有益效果:

1、本實用新型的貼膜層由多塊帶組合圖案的貼模拼湊而成,各貼膜之間間隙采用原子灰涂層彌合相互連接形成一體覆蓋在頭盔本體整體外表面上。因此使貼膜在頭盔上形成一個平滑的整體,由此避免現(xiàn)有技術采用繪制方式制作圖案效率低、成本高,即本實用新型使用簡單,制作效率高,更適合批量生產。

2、本實用新型的貼膜分成中間塊、左側塊和右側塊三大塊,由此避免一塊或多塊貼膜拼湊時不平滑,且各貼膜之間產生間距大的技術問題。

3、本實用新型各貼膜之間間隙采用原子灰涂層彌合,可更好地提高各貼膜的彌合效果,形成一體化結構,同時更好地避免貼膜容易脫落。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖2為圖1的側視圖。

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型作進一步的詳細說明。

參照圖1和圖2所述的彩繪貼膜全覆蓋頭盔,包括頭盔本體1和貼膜層2,所述的貼膜層2由多塊帶組合圖案的貼模3拼湊而成,各貼膜3之間間隙采用原子灰涂層4彌合相互連接形成一體覆蓋在頭盔本體1整體外表面上。

具體實施中,所述的貼膜3分成中間塊31、左側塊32和右側塊33三大塊,中間塊31覆蓋在頭盔本體1中間位置,即中間塊31為在頭盔本體1頂部位置外表面上前后覆蓋的貼膜,左側塊32和右側塊33分別位于頭盔本體1的左右兩側,設在中間塊31的兩側,覆蓋在頭盔本體1兩側的外表面上。即:所述的左側塊32、右側塊33與中間塊31的對接位置設在頭盔本體兩側上部位置,具體對接位置在頭盔本體1頂部與兩側的最大弧度過渡的中間位置處,這樣有效地控制連接位置的平滑度或彌合效果,可縮小各貼膜之間彌合間的間隙,僅僅存在細小的間隙,甚至無間隙。所述的原子灰涂層4厚度與貼膜3的厚度相對應,形成平滑過渡的彌合層,在原子灰涂層4上繪制與貼膜3相對應的圖案,使各貼膜3和原子灰涂層4形成頭盔本體1上的一整體覆蓋層。

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