具有穿刺元件的氣霧生成系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種用于將氣霧遞送到用戶的包括氣霧生成裝置和氣霧生成制品的 氣霧生成系統(tǒng)，并且特別涉及一種用于將氣霧狀的煙堿鹽顆粒遞送到用戶的吸煙裝置。本 發(fā)明還涉及一種用于接收氣霧生成制品的氣霧生成裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] W0 2008/121610 A1公開了用于將煙堿遞送到受試者的裝置和方法，其中，遞送增 強(qiáng)化合物與呈氣相的煙堿反應(yīng)以形成煙堿鹽顆粒的氣霧。為了保留住遞送增強(qiáng)化合物，可 以設(shè)置將遞送增強(qiáng)化合物吸附在其上的吸附元件。揮發(fā)性的遞送增強(qiáng)化合物可被在不通過 氧化、水解或其它有害反應(yīng)而降解的情況下通過密封住該遞送增強(qiáng)化合物被定位于其中的 隔間進(jìn)行存儲(chǔ)。
[0003] 然而，為了獲得煙堿與遞送增強(qiáng)化合物氣霧的更為完全的反應(yīng)，需要解決呈氣相 的反應(yīng)劑的混合的問題。
[0004] 由此，提供使揮發(fā)性的遞送增強(qiáng)化合物與煙堿或其它藥劑能夠在該氣霧生成系統(tǒng) 的使用期間充分混合的這種氣霧生成系統(tǒng)會(huì)是合乎要求的。
[0005] 提供一種用于將煙堿或其它藥劑遞送到在W0 2008/121610 A1中公開的這類的用 戶的氣霧生成系統(tǒng)同樣會(huì)是合乎要求的，其中，提高了揮發(fā)性的遞送增強(qiáng)化合物和煙堿或 其它藥劑中的一者或兩者在存儲(chǔ)期間的存留率。提供一種用于將煙堿或其它藥劑遞送到在 W0 2008/121610 A1中公開的這類的用戶的氣霧生成系統(tǒng)同樣會(huì)是合乎要求的，其中，維持 了揮發(fā)性的遞送增強(qiáng)化合物和煙堿或其它藥劑中的一者或兩者在存儲(chǔ)期間的穩(wěn)定性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種氣霧生成系統(tǒng)，該氣霧生成系統(tǒng)包括與氣霧 生成制品協(xié)作的氣霧生成裝置。該氣霧生成制品包括密封的第一隔間，該密封的第一隔間 包括管狀多孔元件和被吸附在該管狀多孔元件上的遞送增強(qiáng)化合物；和第二隔間，該第二 隔間包括揮發(fā)性液體。該氣霧生成裝置包括：外部殼體，該外部殼體適于接收氣霧生成制 品；和細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu)件，該細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu)件用于刺穿氣霧生成制品的第一隔間和第二隔間。 該細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu)件包括：穿刺部分，該穿刺部分鄰近于細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu)件的遠(yuǎn)側(cè)端；軸部；和 阻塞部分，該阻塞部分鄰近于細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu)件的近側(cè)端。該穿刺部分具有大于該軸部的直 徑的最大直徑，并且該阻塞部分具有外徑，使得它在該氣霧生成制品被接收在該裝置中時(shí) 裝配在該制品的管狀多孔元件內(nèi)。
[0007] 這可通過控制通過該氣霧生成系統(tǒng)的氣流來改進(jìn)遞送增強(qiáng)化合物與揮發(fā)性液體 的混合。
[0008] 如在本文中所使用的那樣，術(shù)語(yǔ)"氣霧生成裝置"指的是一種與氣霧生成制品相互 作用以產(chǎn)生氣霧的氣霧生成裝置，該氣霧可被通過用戶的嘴直接吸入到用戶的肺中。
[0009] 如在本文中所使用的那樣，對(duì)于"吸附"，它表示該遞送增強(qiáng)化合物被吸附在管狀 多孔元件的表面上，或者被吸收在該管狀多孔元件中，或者既被吸附在該管狀多孔元件上 又被吸收在該管狀多孔元件中。
[0010] 該氣霧生成系統(tǒng)可還包括位于氣霧生成制品的第一隔間的上游的至少一個(gè)進(jìn)氣 口和位于氣霧生成制品的第二隔間的下游的至少一個(gè)排氣口，該至少一個(gè)進(jìn)氣口和該至少 一個(gè)排氣口被設(shè)置成在氣霧生成制品被接收在氣霧生成裝置中時(shí)限定氣流路徑，該氣流路 徑從至少一個(gè)進(jìn)氣口圍繞該氣霧生成裝置的細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu)件的阻塞部分經(jīng)由氣霧生成制 品的第一隔間的管狀多孔元件并且圍繞氣霧生成裝置的細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu)件的軸部經(jīng)由該氣 霧生成制品的第二隔間延伸到至少一個(gè)排氣口。第二隔間可位于該第一隔間的下游，使得 在使用中，被抽吸通過氣霧生成制品的氣流穿過第一隔間并且隨后穿過第二隔間。
[0011] 在替代實(shí)施例中，第二隔間優(yōu)選地包括管狀多孔元件，并且第二隔間可位于第一 隔間的上游，使得在使用中，被抽吸通過氣霧生成制品的氣流穿過第二隔間并且隨后穿過 第一隔間。在該替代實(shí)施例中，第二隔間包括管狀多孔元件，該管狀多孔元件具有被吸附在 該管狀多孔元件上的揮發(fā)性液體。該阻塞部分裝配在該第二隔間的該管狀多孔元件內(nèi)。
[0012] 在該替代實(shí)施例中，該氣霧生成系統(tǒng)可還包括位于氣霧生成制品的第二隔間的上 游的至少一個(gè)進(jìn)氣口和位于氣霧生成制品的第一隔間的下游的至少一個(gè)排氣口，該至少一 個(gè)進(jìn)氣口和該至少一個(gè)排氣口被設(shè)置成在氣霧生成制品被接收在氣霧生成裝置中時(shí)限定 氣流路徑，該氣流路徑從至少一個(gè)進(jìn)氣口圍繞該氣霧生成裝置的細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu)件的阻塞部 分經(jīng)由氣霧生成制品的第二隔間的管狀多孔元件并且圍繞氣霧生成裝置的細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu) 件的軸部經(jīng)由該氣霧生成制品的第一隔間延伸到至少一個(gè)排氣口。
[0013] 如在本文中所使用的那樣，術(shù)語(yǔ)"上游"、"下游"以及"遠(yuǎn)側(cè)"和"近側(cè)"用于關(guān)于在 其使用期間被抽吸通過根據(jù)本發(fā)明的氣霧生成制品、氣霧生成裝置和氣霧生成系統(tǒng)的空氣 的方向描述氣霧生成制品、氣霧生成裝置和氣霧生成系統(tǒng)的部件或部件的多個(gè)部分的相對(duì) 位置。將理解到的是，在被用于描述該細(xì)長(zhǎng)的穿刺構(gòu)件的部件的相對(duì)位置時(shí)，使用術(shù)語(yǔ)"遠(yuǎn) 偵r和"近側(cè)"，使得該穿刺部分位于遠(yuǎn)側(cè)（"自由"）端，并且該阻塞部分位于被連接至該裝 置的近側(cè)（"固定"）端。
[0014] 如在本文中所使用的那樣，術(shù)語(yǔ)"縱向"用于描述位于氣霧生成制品或氣霧生成裝 置的下游或近側(cè)端與相對(duì)的上游或遠(yuǎn)側(cè)端之間的方向，并且術(shù)語(yǔ)"橫向"用于描述與縱向方 向垂直的方向。
[0015] 當(dāng)用戶在氣霧生成制品的近側(cè)端或嘴端上抽吸時(shí)，氣霧生成制品的上游端和下游 端被相對(duì)于氣流進(jìn)行限定?？諝獗辉谶h(yuǎn)側(cè)端或上游端抽吸到氣霧生成制品中，向下游穿過 氣霧生成制品并且在近側(cè)端或下游端離開該氣霧生成制品。
[0016] 如在本文中所使用的那樣，術(shù)語(yǔ)"進(jìn)氣口"用于描述空氣可被通過其抽吸到氣霧生 成系統(tǒng)中的一個(gè)或多個(gè)開口。
[0017] 如在本文中所使用的那樣，術(shù)語(yǔ)"排氣口"用于描述空氣可被通過其抽出該氣霧生 成系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)開口。
[0018] 在這種實(shí)施例中，第一隔間和第二隔間被從進(jìn)氣口到排氣口連續(xù)地設(shè)置在該氣霧 生成系統(tǒng)內(nèi)。即，第一隔間位于進(jìn)氣口的下游，第二隔間位于第一隔間的下游并且排氣口位 于第二隔間的下游。在使用中，氣流被通過進(jìn)氣口抽吸到氣霧生成系統(tǒng)中，向下游通過第一 隔間和第二隔間并且通過排氣口抽吸出氣霧生成系統(tǒng)。
[0019] 在替代實(shí)施例中，第二隔間和第一隔間被從進(jìn)氣口到排氣口連續(xù)地設(shè)置在該氣霧 生成系統(tǒng)內(nèi)。即，第二隔間位于進(jìn)氣口的下游，第一隔間位于第二隔間的下游并且排氣口位 于第一隔間的下游。在使用中，氣流被通過進(jìn)氣口抽吸到氣霧生成系統(tǒng)中，向下游通過第二 隔間和第一隔間并且通過排氣口抽吸出該氣霧生成系統(tǒng)。
[0020] 如在本文中所使用的那樣，對(duì)于"連續(xù)地"，它表示第一隔間和第二隔間被設(shè)置在 氣霧生成制品內(nèi)，使得在使用中，被抽吸通過氣霧生成制品的氣流穿過第一隔間和第二隔 間中的一個(gè)并隨后穿過第一隔間和第二隔間中的另一個(gè)。遞送增強(qiáng)化合物蒸氣被從第一隔 間中的該遞送增強(qiáng)化合物釋放到被抽吸通過氣霧生成制品的氣流中，并且揮發(fā)性液體蒸氣 被從第二隔間釋放到被抽吸通過氣霧生成制品的氣流中。遞送增強(qiáng)化合物蒸氣與呈氣相的 揮發(fā)性液體蒸氣反應(yīng)以形成氣霧，該氣霧被遞送到用戶。
[0021] 該穿刺構(gòu)件優(yōu)選地被沿著該氣霧生成裝置的中央縱向軸線設(shè)置在該外部殼體內(nèi)。
[0022] 該阻塞部分優(yōu)選地具有與該管狀多孔元件的內(nèi)徑相關(guān)的直徑，使得通過該氣霧生 成系統(tǒng)的大多數(shù)氣流流過該管狀多孔元件。這樣一來，遞送增強(qiáng)化合物可被更為高效地夾 帶在空氣中。為了影響該氣流，在該阻塞部分具有小于該管狀多孔元件的內(nèi)徑的直徑的情 況下，通過該阻塞部分和該管狀多孔元件的內(nèi)表面定界的通道的抽吸阻力大于該管狀多孔 元件的抽吸阻力。該阻塞部分的直徑可介于該管狀多孔元件的內(nèi)徑的約90%與約100%之 間。
[0023] 在優(yōu)選實(shí)施例中，該阻塞部分具有直徑，使得它在該管狀多孔元件內(nèi)形成干涉配 合。如在本文中所使用的那樣，術(shù)語(yǔ)"干涉配合"用于指代基本上防止在具有"干涉配合"的 部件之間存在氣流的配合。該阻塞部分的直徑可介于該管狀多孔元件的內(nèi)徑的約100%與 約150 %之間、優(yōu)選地介于約110 %與約140 %之間。在優(yōu)選實(shí)施例中，該阻塞部分的直徑為 該管狀多孔元件的內(nèi)徑的約133%。
[0024] 該管狀多孔元件的內(nèi)徑優(yōu)選地介于約2mm與約5mm之間、更為優(yōu)選地介于約2. 5_ 與約3. 5_之間。在優(yōu)選實(shí)施例中，該管狀多孔元件的內(nèi)徑為約3_。
[0025] 該阻塞部分的直徑優(yōu)選地介于約1. 5mm與約7. 5mm之間、更為優(yōu)選地介于約3mm 與約5mm之間。在優(yōu)選實(shí)施例中，該阻塞部分的直徑為約4mm。
[0026] 該穿刺部分的最大直徑優(yōu)選地等于或小于該阻塞部分的直徑。更為優(yōu)選地，該穿 刺部分的最大直徑介于該阻塞部分的直徑的約75%與約100%之間，并且仍然更為優(yōu)選地 介于該阻塞部分的約90%與約100%之間。
[0027] 該穿刺部分的最大直徑優(yōu)選地介于該軸部的直徑的約105%與約125%之間。更 為優(yōu)選