本申請(qǐng)涉及霧化裝置，特別涉及一種電子霧化裝置。

背景技術(shù)：

1、電子霧化設(shè)備中，為了確保霧化液輸送順暢，通常會(huì)設(shè)置回氣結(jié)構(gòu)。目前的回氣結(jié)構(gòu)一般分為兩種：第一種回氣結(jié)構(gòu)直接采用直接小孔或小槽回氣，這種回氣結(jié)構(gòu)上無(wú)單向閥控油；第二種回氣結(jié)構(gòu)采用小孔或小槽回氣，并在小孔及小槽上設(shè)計(jì)單向閥或迷宮結(jié)構(gòu)以避免漏液?；貧饨Y(jié)構(gòu)漏液已成為霧化設(shè)備漏液的主要途徑。前述的第一種回氣結(jié)構(gòu)的回氣性能良好，但回氣結(jié)構(gòu)處容易漏液。第二種回氣結(jié)構(gòu)的防漏液效果較好，但設(shè)置單向閥或迷宮結(jié)構(gòu)會(huì)導(dǎo)致回氣壓力變大，回氣壓力通常可達(dá)200pa，會(huì)導(dǎo)致抽吸時(shí)下油不暢進(jìn)而導(dǎo)致口感偏干或糊味問(wèn)題，使用體驗(yàn)不佳。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。為此，本申請(qǐng)?zhí)岢鲆环N電子霧化裝置，能夠降低霧化液從回氣通道泄漏的概率。

2、本申請(qǐng)實(shí)施例的電子霧化裝置，具有用于儲(chǔ)存霧化液的儲(chǔ)油倉(cāng)，所述電子霧化裝置包括殼體和安裝于所述殼體內(nèi)的支架，所述支架設(shè)置有下油通道和回氣通道，所述下油通道與所述儲(chǔ)油倉(cāng)連通，回氣通道的一端與所述儲(chǔ)油倉(cāng)連通，所述回氣通道的另一端連通大氣；，所述回氣通道的表面設(shè)置有疏水涂層，霧化液與所述下油通道的接觸角小于90°，霧化液易于通過(guò)所述下油通道，霧化液與所述疏水涂層的接觸角大于90°且小于180°，以使霧化液在疏水涂層上呈液珠狀。

3、進(jìn)一步地，所述疏水涂層包括sio2納米粒子和含氟丙烯酸酯聚合物，所述sio2納米粒子與所述含氟丙烯酸酯聚合物的質(zhì)量比為n：1，n＞1.2。

4、進(jìn)一步地，n＝1.4。

5、進(jìn)一步地，所述電子霧化裝置還包括第一密封件，所述第一密封件至少部分套接于所述支架，所述支架靠近所述儲(chǔ)油倉(cāng)的一端設(shè)置有第一回氣槽和與所述第一回氣槽相交的第二回氣槽，所述第一密封件的內(nèi)壁與所述第一回氣槽和所述第二回氣槽限定出所述回氣通道。

6、進(jìn)一步地，所述支架還設(shè)置有第三回氣槽及第四回氣槽，所述第三回氣槽的一端與所述第二回氣槽連接，所述第三回氣槽的另一端橫向延伸且與所述第四回氣槽的一端相交。

7、進(jìn)一步地，所述回氣通道的寬度為0.2±0.03mm，所述回氣通道的高度為0.2±0.03mm。

8、進(jìn)一步地，所述支架設(shè)置有進(jìn)油孔，所述進(jìn)油孔與所述下油通道遠(yuǎn)離所述儲(chǔ)油倉(cāng)的一端連接，所述進(jìn)油孔的表面具有親水性。

9、進(jìn)一步地，所述疏水涂層的表面粗糙度小于所述下油通道的表面粗糙度。

10、進(jìn)一步地，所述回氣通道和所述下油通道設(shè)置在同一個(gè)零件，以簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)。

11、進(jìn)一步地，所述回氣通道連接所述下油通道，并通過(guò)所述下油通道連接大氣。

12、進(jìn)一步地，所述進(jìn)油孔設(shè)置于所述支架的其中一個(gè)側(cè)面，所述回氣通道設(shè)置于所述支架的另一側(cè)面。

13、進(jìn)一步地，所述電子霧化裝置還包括加熱部件及導(dǎo)油部件，所述支架設(shè)置有與所述進(jìn)油孔連通的安裝腔，所述導(dǎo)油部件安裝于所述安裝腔內(nèi)且與所述進(jìn)油孔正對(duì)，所述加熱部件安裝于所述導(dǎo)油部件遠(yuǎn)離所述進(jìn)油孔的一側(cè)。

14、進(jìn)一步地，所述支架具有連接通道，所述連接通道的一端與所述安裝腔連通，所述回氣通道的另一端與所述回氣通道遠(yuǎn)離所述儲(chǔ)油倉(cāng)的一端連通。

15、本申請(qǐng)實(shí)施例的電子霧化裝置，至少具有如下有益效果：通過(guò)在回氣通道設(shè)置疏水涂層，使得回氣通道具有疏水性。由于電子霧化裝置的回氣通道的尺寸通常較小，在回氣通道的疏水作用下，霧化液很難直接進(jìn)入到回氣通道，從而能夠降低霧化液從回氣通道滲漏的概率。同時(shí)，相較于設(shè)置有單向閥或迷宮結(jié)構(gòu)的回氣結(jié)構(gòu)，本申請(qǐng)中的回氣通道不設(shè)單向閥或迷宮結(jié)構(gòu)，而是通過(guò)在回氣通道的表面設(shè)置疏水涂層，既有效解決霧化液從回氣通道滲漏的問(wèn)題，也能夠減小回氣壓力，有助于抽吸時(shí)下油通暢，克服了在回氣結(jié)構(gòu)中設(shè)置單向閥或迷宮結(jié)構(gòu)導(dǎo)致的口感偏干或糊味問(wèn)題，利于提升電子霧化裝置的使用體驗(yàn)；霧化液與下油通道的接觸角小于90°，對(duì)液體具有良好的潤(rùn)濕性，液體沿著下油通道表面滲流，霧化液流動(dòng)流暢，易于通過(guò)所述下油通道，有助于加速霧化液下油速度，降低下油不足造成干燒的風(fēng)險(xiǎn)；疏水涂層與霧化液的接觸角大于90°且小于180°，對(duì)液體的潤(rùn)濕性能較差，霧化液在疏水涂層形成難以進(jìn)入回氣通道的液珠狀，且液珠難以向回氣通道表面四周擴(kuò)散和滲流，液體在回氣通道處液滴流動(dòng)緩慢，甚至停滯不流動(dòng)，從而儲(chǔ)油倉(cāng)存儲(chǔ)的霧化液難以進(jìn)入回氣通道，減小回氣漏油的風(fēng)險(xiǎn)。

16、本申請(qǐng)的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本申請(qǐng)的實(shí)踐了解到。

技術(shù)特征：

1.一種電子霧化裝置，具有用于存儲(chǔ)霧化液的儲(chǔ)油倉(cāng)，其特征在于，電子霧化裝置包括殼體和安裝于所述殼體內(nèi)的支架，所述支架設(shè)置有下油通道和回氣通道，所述下油通道與所述儲(chǔ)油倉(cāng)連通，所述回氣通道的一端與儲(chǔ)油倉(cāng)連通，所述回氣通道的另一端用于連通大氣；所述回氣通道的表面設(shè)置有疏水涂層，所述霧化液與下油通道的接觸角小于90°，所述霧化液與所述疏水涂層的接觸角大于90°且小于180°，以使所述霧化液在所述疏水涂層上呈液珠狀。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子霧化裝置，其特征在于，所述疏水涂層包括sio2納米粒子和含氟丙烯酸酯聚合物，所述sio2納米粒子與所述含氟丙烯酸酯聚合物的質(zhì)量比為n：1，n＞1.2。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子霧化裝置，其特征在于，n＝1.4。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的電子霧化裝置，其特征在于，所述電子霧化裝置還包括第一密封件，所述第一密封件至少部分套接于所述支架，所述支架靠近所述儲(chǔ)油倉(cāng)的一端設(shè)置有第一回氣槽和與所述第一回氣槽相交的第二回氣槽，所述第一密封件的內(nèi)壁與所述第一回氣槽和所述第二回氣槽限定出所述回氣通道。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子霧化裝置，其特征在于，所述支架還設(shè)置有第三回氣槽及第四回氣槽，所述第三回氣槽的一端與所述第二回氣槽連接，所述第三回氣槽的另一端橫向延伸且與所述第四回氣槽的一端相交。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子霧化裝置，其特征在于，所述回氣通道的寬度為0.2±0.03mm，所述回氣通道的高度為0.2±0.03mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1的電子霧化裝置，其特征在于，所述疏水涂層的表面粗糙度小于下油通道的表面粗糙度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1的電子霧化裝置，其特征在于，所述回氣通道和所述下油通道設(shè)置在同一個(gè)零件。

9.根據(jù)權(quán)利要求1的電子霧化裝置，其特征在于，所述回氣通道連接所述下油通道，并通過(guò)下油通道連接大氣。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)涉及一種電子霧化裝置，涉及霧化裝置技術(shù)領(lǐng)域。其中，電子霧化裝置具有儲(chǔ)油倉(cāng)，電子霧化裝置包括殼體和安裝于殼體內(nèi)的支架，支架設(shè)置有下油通道和回氣通道，下油通道與儲(chǔ)油倉(cāng)連通，回氣通道的一端與儲(chǔ)油倉(cāng)連通，另一端與大氣連通，回氣通道的表面設(shè)置有疏水涂層，霧化液與下油通道的接觸角小于90°，霧化液易于通過(guò)下油通道，霧化液與疏水涂層的接觸角大于90°且小于180°，以使霧化液在疏水涂層上呈液珠狀。同時(shí)，由于電子霧化裝置的回氣通道的尺寸通常較小，在回氣通道的疏水作用下，霧化液很難直接進(jìn)入到回氣通道，從而能夠降低霧化液從回氣通道滲漏的概率。通過(guò)疏水涂層以降低滲漏概率的同時(shí)，也利于降低回氣壓力。

技術(shù)研發(fā)人員：翟公高,張海波,汪泉,黃翔
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市卓力能技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/26