專利名稱：描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置及描畫(huà)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置及描畫(huà)裝置，特別涉及與印刷基板、半導(dǎo)體基板、液晶基板等基板的制造相關(guān)的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置及描畫(huà)裝置。
背景技術(shù)：
以往，眾所周知有如下的直接描畫(huà)裝置(直描裝置)，該直描裝置通過(guò)掃描并照射激光等曝光用光，連續(xù)對(duì)印刷基板、半導(dǎo)體基板、液晶基板等描畫(huà)對(duì)象物(下面，還簡(jiǎn)稱為基板)的局部進(jìn)行曝光，由此描畫(huà)所希望的電路圖等來(lái)形成電路圖的裝置。直描裝置根據(jù)描畫(huà)數(shù)據(jù)來(lái)描畫(huà)電路圖，該描 畫(huà)數(shù)據(jù)是基于電路圖的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)來(lái)轉(zhuǎn)換的描畫(huà)數(shù)據(jù)，且具有直描裝置能夠處理的描述形式。其中，在如上述那樣的基板中，會(huì)產(chǎn)生彎曲、畸變、伴隨前工序處理的應(yīng)變等變形，但一般而言，不考慮這些變形而作成設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，因而即使直接利用轉(zhuǎn)換后的描畫(huà)數(shù)據(jù)來(lái)描畫(huà)電路圖，也會(huì)與之前形成的電路圖的位置關(guān)系之間產(chǎn)生偏差而導(dǎo)致得不到足夠的描畫(huà)品質(zhì)，因此不能提高成品率。因此，關(guān)于這種直描裝置提出了如下技術(shù)進(jìn)行被稱為局部對(duì)準(zhǔn)(localalignment)的修正處理，并利用修正后的該描畫(huà)數(shù)據(jù)來(lái)進(jìn)行描畫(huà)，被稱為局部對(duì)準(zhǔn)的所述修正處理是指，預(yù)先測(cè)定作為描畫(huà)對(duì)象的基板的形狀，并根據(jù)得到的測(cè)定結(jié)果計(jì)算基板的各點(diǎn)的位移，由此修正描畫(huà)數(shù)據(jù)本身，使得描畫(huà)數(shù)據(jù)本身與該位移相匹配。在日本特開(kāi)2008-3441號(hào)公報(bào)(文獻(xiàn)I)中，根據(jù)特定四角形的四個(gè)頂點(diǎn)的位置信息，來(lái)計(jì)算描畫(huà)數(shù)據(jù)的修正量，該特定四角形包圍作為對(duì)象的描畫(huà)數(shù)據(jù)。另外，在日本特開(kāi)2010-204421號(hào)公報(bào)(文獻(xiàn)2)中，將作為對(duì)象的整體描畫(huà)區(qū)域分割成多個(gè)小區(qū)域，基于對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置，根據(jù)基板的形狀來(lái)再配置各小區(qū)域，由此合成與各小區(qū)域相對(duì)應(yīng)的描畫(huà)內(nèi)容來(lái)生成描畫(huà)數(shù)據(jù)。在文獻(xiàn)1、2中記載的技術(shù)中，由于只根據(jù)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置變化而來(lái)修正了描畫(huà)數(shù)據(jù)，并未考慮描畫(huà)對(duì)象物即要制造的基板的最終使用方式，因而有時(shí)在后工序中發(fā)生不良或成品率劣化。例如，在利用印刷基板的組合法(Build Up Method)的情況下，若針對(duì)因蝕刻及沖壓等變形發(fā)生要因而發(fā)生的應(yīng)變，對(duì)每次描畫(huà)的數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，則因該修正的積累而導(dǎo)致有可能使最終形成的圖案與安裝于該圖案上的部件的大小不匹配?；蛘?，在對(duì)一個(gè)描畫(huà)對(duì)象物描畫(huà)所謂帶有多個(gè)面的圖案的情況下，若基于整個(gè)描畫(huà)區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置變化來(lái)將該整個(gè)描畫(huà)區(qū)域看做一個(gè)圖案而進(jìn)行修正，則不能恰當(dāng)?shù)剡M(jìn)行修正，所述帶有多個(gè)面的圖案是指，排列配置有多個(gè)尺寸比該描畫(huà)對(duì)象物小的圖案的圖案。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，該描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置基于基板定位標(biāo)記的位置信息，來(lái)對(duì)用于在基板上進(jìn)行描畫(huà)的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，根據(jù)要制造的基板來(lái)選擇修正方法，由此能夠與后工序及用途等使用方式相適合地對(duì)描畫(huà)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正。本發(fā)明的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，基于基板的定位標(biāo)記的位置信息，對(duì)用于在基板上進(jìn)行描畫(huà)的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，該描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置的特征在于，具有圖像數(shù)據(jù)輸入接收部，其接收所輸入的用于在描畫(huà)基板上進(jìn)行描畫(huà)的圖像數(shù)據(jù)；定位標(biāo)記位置輸入部，其輸入基板的定位標(biāo)記的位置信息；多個(gè)數(shù)據(jù)修正部，這些各數(shù)據(jù)修正部基于所接收的定位標(biāo)記的位置信息，利用各不相同的算法修正描畫(huà)數(shù)據(jù)；修正方法選擇部，其對(duì)所述多個(gè)數(shù)據(jù)修正部進(jìn)行選擇使用，來(lái)對(duì)描畫(huà)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正。若使用本發(fā)明，根據(jù)要制造的基板來(lái)選擇修正方法，由此能夠與后工序及用途等使用方式相適合地對(duì)描畫(huà)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正。作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方式，還具有信息輸入部，該信息輸入部輸入用于選擇修正方法的修正信息；所述修正方法選擇部根據(jù)由所述信息輸入部輸入的修正信息來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。此時(shí)，優(yōu)選所述圖像數(shù)據(jù)輸入接收部，從用于作成圖像數(shù)據(jù)的圖案作成裝置接收所輸入的圖像數(shù)據(jù)；所述信息輸入部，在向圖像數(shù)據(jù)輸入部輸入圖像數(shù)據(jù)的同時(shí)，輸入來(lái)自所述圖案作成裝置的修正信息。作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方式，所述修正方法選擇部，根據(jù)所接收的描畫(huà)數(shù)據(jù)的圖像是否含有多個(gè)相同的單片圖案，來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。作為本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選方式，所述修正方法選擇部，根據(jù)所接收的描畫(huà)數(shù)據(jù)的圖像是否整體為單一圖案的圖像，來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。進(jìn)而，作為本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選方式，所述修正方法選擇部，根據(jù)所接收的描畫(huà)數(shù)據(jù)的圖像是否含有多個(gè)相同的單片圖案并且還包含其他圖案，來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。本發(fā)明還提供一種描畫(huà)裝置，該描畫(huà)裝置具有光源；所述描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置；調(diào)制部，其根據(jù)由所述描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置修正后的描畫(huà)數(shù)據(jù)，來(lái)調(diào)制來(lái)自所述光源的光；掃描部，其將由所述調(diào)制部調(diào)制后的光照射在基板上，并掃描該基板。在描畫(huà)裝置中，則能夠根據(jù)要制造的基板來(lái)選擇修正方法，由此能夠與后工序及用途等使用方式相適合地對(duì)描畫(huà)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正。通過(guò)參照附圖來(lái)進(jìn)行如下說(shuō)明，來(lái)使所述的目的和其他目的、特征、方式以及優(yōu)點(diǎn)更加明確。


圖I是示出了本發(fā)明的實(shí)施方式的描畫(huà)裝置I的概略結(jié)構(gòu)的圖。圖2A 圖2G是示出了描畫(huà)數(shù)據(jù)和基板的應(yīng)變的圖。圖3A、圖3B是示出了基板表面的測(cè)定點(diǎn)的偏移和圖案的修正例的圖。圖4A、圖4B是示出了基板表面的測(cè)定點(diǎn)的偏移和圖案的修正例的圖。圖5A、圖5B是示出了基板表面的測(cè)定點(diǎn)的偏移和圖案的修正例的圖。圖6是示出了制造印刷基板的方法的概要的流程圖。圖7是示出了在步驟S14中選擇修正量計(jì)算方法的流程圖。附圖標(biāo)記的說(shuō)明I描畫(huà)裝置2數(shù)據(jù)處理裝置3曝光裝置4圖案設(shè)計(jì)裝置5 鍵盤(pán)20轉(zhuǎn)換部、
21A描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部A21B描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部B32工作臺(tái)33 光源33a調(diào)制部34拍攝部M、M’對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(測(cè)定點(diǎn))P、C1、C2、PS、PL 圖案(單 片圖案)
具體實(shí)施例方式描畫(huà)裝置的結(jié)構(gòu)圖I是示出了本發(fā)明的實(shí)施方式的描畫(huà)裝置I的概略結(jié)構(gòu)的圖。描畫(huà)裝置I是直接描畫(huà)裝置(直描裝置)，通過(guò)照射出作為曝光用光的激光LB并利用該激光LB進(jìn)行掃描，來(lái)對(duì)印刷基板、半導(dǎo)體基板、液晶基板等作為描畫(huà)對(duì)象即基板S的局部連續(xù)進(jìn)行曝光，由此在基板S上描畫(huà)所希望的電路圖的曝光圖像。描畫(huà)裝置I主要由以下的結(jié)構(gòu)構(gòu)成，這些結(jié)構(gòu)是數(shù)據(jù)處理裝置2，其生成描畫(huà)數(shù)據(jù)DD，并且，還對(duì)所需的數(shù)據(jù)進(jìn)行修正；曝光裝置3，其基于描畫(huà)數(shù)據(jù)DD，進(jìn)行實(shí)際的描畫(huà)(曝光)；鍵盤(pán)5，其作為向數(shù)據(jù)處理裝置2輸入信息的信息輸入部。此外，不需以一體方式設(shè)置數(shù)據(jù)處理裝置2和曝光裝置3，只要能夠在這兩者之間收發(fā)數(shù)據(jù)，就可以兩者物理地分開(kāi)設(shè)置兩者。數(shù)據(jù)處理裝置2由所謂的微型計(jì)算機(jī)構(gòu)成，該微型計(jì)算機(jī)具有計(jì)算電路、存儲(chǔ)裝置等，還內(nèi)置有包含各種程序等的軟件。數(shù)據(jù)處理裝置2特別具有轉(zhuǎn)換部20和描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21A、21B(在后面詳細(xì)闡述)，由此根據(jù)需要利用它們將初始描畫(huà)數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成描畫(huà)數(shù)據(jù)DD,所述轉(zhuǎn)換部20包含特定程序，該特定程序用于將作為向量數(shù)據(jù)的圖案數(shù)據(jù)DP轉(zhuǎn)換成作為光柵數(shù)據(jù)的初始描畫(huà)數(shù)據(jù)，所述描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21A、21B (在后面詳細(xì)闡述)包含用于計(jì)算修正量的程序，該修正量用于將該初始掃描數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成實(shí)際用于掃描(曝光)的描畫(huà)數(shù)據(jù)DD。并且，數(shù)據(jù)處理裝置2基于例如利用CAD等圖案設(shè)計(jì)裝置4作成的作為電路圖的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的圖案數(shù)據(jù)DP，來(lái)生成作為曝光裝置3的處理數(shù)據(jù)的描畫(huà)數(shù)據(jù)DD。一般而言，圖案數(shù)據(jù)DP被描述為多角形(polygon)等向量數(shù)據(jù)。另一方面，由于曝光裝置3基于描述為光柵數(shù)據(jù)的描畫(huà)數(shù)據(jù)DD來(lái)進(jìn)行曝光，因而數(shù)據(jù)處理裝置2需要將圖案數(shù)據(jù)DP轉(zhuǎn)換成光柵數(shù)據(jù)，因此，首先利用轉(zhuǎn)換部20進(jìn)行所需的轉(zhuǎn)換而得到初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D1、D2。進(jìn)一步，在本實(shí)施方式的描畫(huà)裝置I中，在需要曝光第二層及第二層以上的層的情況下，在后述的方式中利用描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21A、21B對(duì)初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2進(jìn)行修正處理，在此基礎(chǔ)上生成掃描數(shù)據(jù)DD。由此，即使在基板S產(chǎn)生變形的情況下，也能夠在基板S上描畫(huà)具有所希望特性的電路圖。曝光裝置3根據(jù)從數(shù)據(jù)處理裝置2接收到的描畫(huà)數(shù)據(jù)DD，對(duì)基板S進(jìn)行描畫(huà)。曝光裝置3主要具有描畫(huà)控制器31，其控制各部的動(dòng)作；工作臺(tái)32，其用于放置基板S ;光源33，其出射激光LB ;拍攝裝置34，其作為拍攝部，拍攝放置在工作臺(tái)32上的基板S的被描畫(huà)面Sa0在曝光裝置3中，工作臺(tái)32和光源33中的至少一個(gè)裝置能夠在主掃描方向和副掃描方向上移動(dòng)，所述主掃描方向和副掃描方向是相互正交的水平二軸方向。由此，在將基板3放置在工作臺(tái)32上的狀態(tài)下，能夠使工作臺(tái)32和光源33在主掃描方向上進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，并且，使光源33將激光LB照射至該基板3。在圖I中，表示用于使工作臺(tái)32移動(dòng)的掃描部35。或者，進(jìn)一步，既可以使工作臺(tái)32能夠在水平面上旋轉(zhuǎn)移動(dòng)，也可以使光源33能夠在垂直方向上移動(dòng)。能夠根據(jù)成為描畫(huà)對(duì)象的基板S的種類(lèi)等，來(lái)適當(dāng)決定所使用的激光LB的種類(lèi)。首先,光源33例如具有DMD (digital micromirror device :數(shù)字微鏡器件)等的調(diào)制部33a，由此使得由光源33照射出的激光LB接受調(diào)制部33a的調(diào)制，并且，使得從光源33出射的激光LB(調(diào)制后)對(duì)工作臺(tái)32上的基板S進(jìn)行照射。更具體而言，在進(jìn)行描畫(huà)之前，首先，利用描畫(huà)控制器31，根據(jù)針對(duì)每個(gè)像素位置設(shè)定了是否進(jìn)行曝光的描畫(huà)數(shù)據(jù)DD的描述內(nèi)容，來(lái)進(jìn)行特定的設(shè)定，該特定的設(shè)定是指，針對(duì)每個(gè)調(diào)制部33a的調(diào)制單位， 對(duì)激光LB的照射進(jìn)行開(kāi)通(on)/關(guān)閉(off)的設(shè)定。在光源33相對(duì)于工作臺(tái)32 (相對(duì)于放置在該工作臺(tái)32上的基板S)在主掃描方向上進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)的期間，根據(jù)這樣的開(kāi)通/關(guān)閉設(shè)定，來(lái)從光源33出射激光LB，由此對(duì)工作臺(tái)32上的基板S照射基于描畫(huà)數(shù)據(jù)DD進(jìn)行了調(diào)制的激光LB。若使激光LB在主掃描方向上針對(duì)某個(gè)位置進(jìn)行掃描，由此完成針對(duì)該位置的曝光，則使光源33在副掃描方向上僅相對(duì)移動(dòng)規(guī)定距離,并再次使激光LB在主掃描方向上針對(duì)該位置進(jìn)行掃描。通過(guò)重復(fù)進(jìn)行上述處理，來(lái)在基板S上形成基于描畫(huà)數(shù)據(jù)DD的圖像(曝光圖像)。拍攝裝置34的主要用于拍攝對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M (將后述)，該對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M作為用于定位的測(cè)定點(diǎn)，且形成在放置于工作臺(tái)32上的基板S的表面上，即，形成在被描畫(huà)面Sa上。利用描畫(huà)控制器31對(duì)這樣的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的拍攝圖像進(jìn)行圖像處理，由此對(duì)檢測(cè)出各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置坐標(biāo)(位置信息)進(jìn)行計(jì)算，并如上述那樣向數(shù)據(jù)處理裝置2提供這樣的位置坐標(biāo)來(lái)作為標(biāo)記拍攝數(shù)據(jù)DM。當(dāng)然，拍攝裝置34為了其他的目的而進(jìn)行拍攝。此外，關(guān)于基板S的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形成方式，只要能夠準(zhǔn)確地確定其位置即可，不特別限定。例如，既可以采用使用貫通孔等由機(jī)械加工形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的方式，也可以采用使用通過(guò)印刷工藝或光刻法工藝等刻畫(huà)圖形而得到的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的方式。在本實(shí)施方式中，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)據(jù)與作為第一層圖案的銅布線圖案一起被包含在第一層的圖案數(shù)據(jù)DPl中，在形成銅布線圖案時(shí)，同時(shí)在基板S的表面上形成該對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成。<修正處理的基本概念>下面，接著對(duì)在生成描畫(huà)數(shù)據(jù)DD時(shí)進(jìn)行的修正處理，說(shuō)明其基本概念。一般而言，假定生成了沒(méi)有變形并且被描畫(huà)面平坦的理想形狀的基板，來(lái)作成圖案數(shù)據(jù)DP，但在在實(shí)際情況下，基板上會(huì)產(chǎn)生彎曲、畸變以及伴隨前工序的處理的應(yīng)變等變形。此時(shí)，即使原樣按照在圖案數(shù)據(jù)DP中設(shè)定的配置位置，在基板S上描畫(huà)電路圖，也無(wú)法得到所希望的產(chǎn)品，因此，需要進(jìn)行局部對(duì)準(zhǔn)處理，來(lái)形成與基板S上產(chǎn)生的應(yīng)變等的狀態(tài)相符的電路圖，該局部對(duì)準(zhǔn)處理是指，根據(jù)基板S的狀態(tài)來(lái)對(duì)電路圖的形成位置坐標(biāo)進(jìn)行轉(zhuǎn)換的處理。坦言之，在本實(shí)施方式中生成描畫(huà)數(shù)據(jù)DD時(shí)進(jìn)行的修正處理，是坐標(biāo)轉(zhuǎn)換處理。圖2A 2G是用于說(shuō)明在曝光裝置3的局部對(duì)準(zhǔn)處理中的圖案數(shù)據(jù)DP、DP2之間的關(guān)系的圖。在此，目的在于，針對(duì)基板S，按照?qǐng)D2A、圖2B的順序，對(duì)圖2A示出的包含對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的圖案數(shù)據(jù)DPl和圖2B示出的圖案數(shù)據(jù)DP2進(jìn)行曝光，由此最終形成圖2C所示的圖案，即，在所生成的該圖案中，分別包含在這兩個(gè)圖案數(shù)據(jù)DP1、DP2中的圓C1、C2，成為
相重疊的位置關(guān)系。此外，就這樣重疊兩個(gè)圖案數(shù)據(jù)而形成圖案的情況而言，例如可考慮以下情況等，這些情況是指，形成了印刷基板的銅布線圖案和與其重疊的防焊層圖案的情況，形成了多層印刷基板的布線圖案的第一層和第二層的情況，形成了雙面印刷基板的表面布線圖案和背面布線圖案的情況(此時(shí)，在從背面一側(cè)曝光背面布線圖案的情況下，圖案為翻面圖案)。 現(xiàn)在，考慮如下情況基于圖案數(shù)據(jù)DPl形成印刷基板S的銅布線圖案，并基于圖案數(shù)據(jù)DP2形成與該銅布線圖案相重疊的防焊層圖案，由此制造印刷基板S。此時(shí)，首先在印刷基板S的整個(gè)表面上形成的銅層上，形成光致抗蝕劑膜，并在該光致抗蝕劑膜上利用基于圖案數(shù)據(jù)DPl而生成的描畫(huà)數(shù)據(jù)DD進(jìn)行曝光、顯影及蝕刻處理，由此形成銅布線圖案。接著，在該印刷基板S的銅布線圖案上，通過(guò)涂布或?qū)訅禾幚?laminate)來(lái)形成防焊層，并利用基于圖案數(shù)據(jù)DP2而生成的描畫(huà)數(shù)據(jù)DD，進(jìn)行曝光及顯影處理。然而，在該情況下，在形成銅布線圖案的過(guò)程中，由于實(shí)施顯影、蝕刻以及與它們伴隨的水洗、加熱干燥等工序，因而這些工序會(huì)導(dǎo)致在印刷基板S上產(chǎn)生伸縮及應(yīng)變，從而產(chǎn)生如圖2D那樣的印刷基板S和圖案的變形。若針對(duì)該印刷基板S，原樣基于圖案數(shù)據(jù)DP2的圖形來(lái)生成描畫(huà)數(shù)據(jù)DD進(jìn)而進(jìn)行曝光，則最終形成的圖案會(huì)成為如圖2E示出那樣的圖案，分別包含在兩個(gè)圖案數(shù)據(jù)DP1、DP2中的圓C1、C2的位置關(guān)系會(huì)產(chǎn)生偏差，因此不能形成目的圖案。因此，在該情況下，如圖2F所示，考慮印刷基板S的變形(S卩，形成在印刷基板S上的圖案數(shù)據(jù)DPl的變形、位移)，通過(guò)修正而使其變形為圖案數(shù)據(jù)DP2’，而不是原樣按照該圖案數(shù)據(jù)DP2進(jìn)行曝光。并且，基于變形后的該圖案數(shù)據(jù)DP2’生成描畫(huà)數(shù)據(jù)DD來(lái)進(jìn)行曝光，由此最終使圖案成為圖2G那樣的圖案?；谛拚搱D案數(shù)據(jù)DP2的變形是局部對(duì)準(zhǔn)處理。此外，例如能夠以如下方法來(lái)識(shí)別印刷基板S的變形，S卩，以形成在印刷基板S上的位置指標(biāo)(例如對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M)作為基準(zhǔn)點(diǎn)(測(cè)定點(diǎn))來(lái)進(jìn)行拍攝等處理，由此讀取該基準(zhǔn)點(diǎn)，通過(guò)識(shí)別該基準(zhǔn)點(diǎn)的位移來(lái)識(shí)別印刷基板S的變形。此外，在圖案數(shù)據(jù)DP2中不包含對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M，但在圖2F中為了表示位置關(guān)系而描畫(huà)了對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M。此外，在圖2D中，描畫(huà)出只有圓Cl的位置發(fā)生了移動(dòng)的情況，該圓Cl是形成在印刷基板S上的圖案數(shù)據(jù)DPl的圖案，另外，在圖2F中，也描畫(huà)出只有圓C2的位置發(fā)生了移動(dòng)的情況，該圓C2是修正后的圖案數(shù)據(jù)DP2’的圖案。但是，在實(shí)際處理中，圖案數(shù)據(jù)DPl的圓Cl不僅位置發(fā)生移動(dòng)，其形狀也會(huì)發(fā)生變形，因此，優(yōu)選針對(duì)與其對(duì)應(yīng)的修正后的圖案數(shù)據(jù)DP2’的圓C2，還進(jìn)行如下修正處理，在該修正處理中，不僅移動(dòng)圓C2的位置而使其與圓Cl一致，而且還改變?cè)搱AC2的形狀而使其與圓Cl 一致。<三種修正處理>在本描畫(huà)裝置中，就用于修正圖像的方法而言，內(nèi)置有基于三個(gè)修正方式的三個(gè)算法。并且，裝置的操作員能夠根據(jù)要制造的基板的種類(lèi)、要描畫(huà)的圖像的內(nèi)容等，來(lái)任意選擇并應(yīng)用三個(gè)修正算法。這些修正算法是如下三種算法。第一算法“整體應(yīng)變修正”就該“整體應(yīng)變修正”而言，為了掌握基板的變形，針對(duì)基板的整個(gè)描畫(huà)區(qū)域來(lái)排列測(cè)定點(diǎn)(在這里是對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M)，并測(cè)定出測(cè)定點(diǎn)的位置變化，由此根據(jù)整個(gè)描畫(huà)區(qū)域的測(cè)定點(diǎn)的位置變化，來(lái)針對(duì)該各測(cè)定點(diǎn)計(jì)算修正量，由此修正描畫(huà)整個(gè)描畫(huà)區(qū)域。例如，可考慮如下方式如圖3A所示，將用5行X5列的25個(gè)黑點(diǎn)表示的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M，排列在一個(gè)基板S表面的格子位置上，所述5行X 5列的25個(gè)黑點(diǎn)遍及該基板S的大致整個(gè)表面，由此使這些對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M與整個(gè)描畫(huà)區(qū)域相對(duì)應(yīng)，從而在該基板S表面上形成如圖3A示出那樣的4行X4列的合計(jì)16個(gè)矩形圖案P。此時(shí)，通過(guò)實(shí)際拍攝基板S的表面來(lái)對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的位置進(jìn)行測(cè)定的結(jié)果，是從初始位置偏移到在圖3B中用“ + ”字標(biāo)記表示的M’的位置的情況。在該情況下，根據(jù)遍及該整個(gè)描畫(huà)區(qū)域I的各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M至M’的位 置變化，來(lái)計(jì)算各圖案P的位置及形狀，由此對(duì)如圖3B示出那樣的在描畫(huà)區(qū)域中的各圖案P的位置及形狀進(jìn)行修正。若采用該“整體應(yīng)變修正”如圖3B那樣，S卩，原來(lái)是矩形的圖案P的形狀變形為基于其位置被描畫(huà)成菱形或弧形。該修正算法例如適用于在一個(gè)基板上描畫(huà)一個(gè)大的電路圖的情況。此外，關(guān)于該“整體應(yīng)變修正”的程序的內(nèi)容，因已提出了多個(gè)方案而眾所周知，例如，能夠利用在日本特開(kāi)2008-3441號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2010-204421號(hào)公報(bào)等中公開(kāi)的技術(shù)。算法2 單片保持修正”就該“單片保持修正”而言，在描畫(huà)區(qū)域描畫(huà)含有一種或多種要素圖像(下面，稱為單片圖案)的圖像的情況下，為了掌握基板的變形，遍及基板S的整個(gè)描畫(huà)區(qū)域來(lái)排列對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M，并測(cè)定對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的位置變化，由此根據(jù)遍及基板S的整個(gè)區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的位置變化，來(lái)對(duì)各單片圖案的位置和朝向(例如將單片圖案的中心位置和以該中心位置作為中心的旋轉(zhuǎn)角度)進(jìn)行修正，但修正描畫(huà)后，不使各單片圖案的形狀本身變形。例如，可考慮如下方式如圖4A所示，將用5行X5列的25個(gè)黑點(diǎn)表示的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M，排列在一個(gè)基板S表面的格子位置上，所述5行X 5列的25個(gè)黑點(diǎn)遍及該基板S表面的大致整個(gè)表面，由此使這些對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M與整個(gè)描畫(huà)區(qū)域相對(duì)應(yīng)，從而在該基板S表面形成如圖4A示出那樣的4行X4列的合計(jì)16個(gè)矩形單片圖案P(該基板S與在圖3A中示出的基板相同)。此時(shí)，通過(guò)實(shí)際拍攝基板S的表面來(lái)對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的位置進(jìn)行測(cè)定的結(jié)果，是從初始的位置偏移到在圖4B中用“ + ”字標(biāo)記表示的M’的位置的情況。在該情況下，根據(jù)在該描畫(huà)區(qū)域I的整個(gè)區(qū)域內(nèi)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M至M’的位置變化，來(lái)分別計(jì)算應(yīng)該作為各單片圖案P中心位置的坐標(biāo)(在圖4B中用小圓點(diǎn)表示的位置)，并將各單片圖案P的中心點(diǎn)分別移動(dòng)至計(jì)算出的這些位置上，并且使該單片圖案P繞著中心點(diǎn)旋轉(zhuǎn)，從而修正其朝向。由于不使各單片圖案P自身變形，因而適用于需按照設(shè)計(jì)尺寸制造各單片圖案P的情況等。此夕卜，在下面的說(shuō)明中，由于說(shuō)明單片圖案的形狀為矩形的情況，因而稱為“矩形保持修正”。若采用該“矩形保持修正”，則如圖4B所示，修正后的單片圖案P的形狀與原來(lái)的矩形相同，并未發(fā)生變化。此外，在圖4B中，為了說(shuō)明方便，還在圖上表示了該情況。就“矩形保持修正”的程序而言，可考慮如下的程序。即，針對(duì)包圍各單片圖案P的四個(gè)測(cè)定點(diǎn)M，例如在XY坐標(biāo)上計(jì)算該四個(gè)測(cè)定點(diǎn)M的位置變化量的平均值，由此將該平均值作為該單片圖案P的中心位置的移動(dòng)量，另外，針對(duì)相同的四個(gè)測(cè)定點(diǎn)M，計(jì)算從原來(lái)的單片圖案P的中心位置觀察的角度變化量的平均值，由此將該平均值作為該單片圖案P的旋轉(zhuǎn)角度。算法3 整體應(yīng)變修正和矩形保持修正的并用”就該“整體應(yīng)變修正和矩形保持修正的并用”而言，在描畫(huà)區(qū)域中包含多種要素圖像的情況等下，并用上述的“整體應(yīng)變修正”和“矩形保持修正”，對(duì)某些區(qū)域應(yīng)用“整體應(yīng)變修正”，對(duì)其他區(qū)域應(yīng)用“矩形保持修正”。例如，如圖5A所不,將用5行X 5列的25個(gè)黑點(diǎn)表不的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M,排列在一個(gè)基板S表面的格子位置上，所述5行X5列的25個(gè)黑點(diǎn)遍及該基板S的大致整個(gè)表面，由此使這些對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M與整個(gè)描畫(huà)區(qū)域相對(duì)應(yīng)，在該基板S表面包含有一個(gè)大的單片圖案PL和排列成2X4的8個(gè)小的單片圖案PS的情況下，對(duì)小的單片圖案PS排列成2X4的區(qū)域應(yīng)用“矩形保持修正”，對(duì)大的單片圖案PL的區(qū)域應(yīng)用“整體應(yīng)變修正”。在應(yīng)用該算法的情況下，在應(yīng)用了“矩形保持修正”的區(qū)域，小的單片圖案PS的形狀在進(jìn)行修正之后不發(fā)生變化，在應(yīng)用了“整體應(yīng)變修正”的區(qū)域，大的單片圖案PL的形狀通過(guò)修正而從原來(lái)形狀發(fā)生了變化。此時(shí)，若通過(guò)實(shí)際拍攝基板S的表面來(lái)對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的位置進(jìn)行測(cè)定的結(jié)果，是從初始的設(shè)置偏移到在圖5B中用“ + ”字標(biāo)記表示的M’的位置的情況，則修正的結(jié)果是修正為在圖5B中示出那樣的情況。該算法適用于在要描畫(huà)的圖像中包含用途各不相同的多種單片圖案的情況等。為了根據(jù)之前闡述的三個(gè)修正方式的修正算法來(lái)計(jì)算修正量，本描畫(huà)裝置I具備具有兩種修正程序的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21A、21B。在這里，描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21A包含用于計(jì)算“整體應(yīng)變修正”的修正值的程序，描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21B包含用于計(jì)算“矩形保持修正”的修正值的程序。<印刷基板的制造工序>下面，對(duì)使用本發(fā)明的描畫(huà)裝置I在基板上描畫(huà)電路圖來(lái)制造印刷基板方法的概要進(jìn)行說(shuō)明。在這里，在樹(shù)脂基臺(tái)的單面印刷布線基板上形成銅布線圖案，并在其上形成防焊層的圖案。圖6是示出了由數(shù)據(jù)處理裝置2執(zhí)行的該方法的控制程序的整體概要(包括裝置的動(dòng)作的概要)的流程圖?！葱纬傻谝粚訄D案〉首先，由作為圖案作成裝置的圖案設(shè)計(jì)裝置4預(yù)先設(shè)計(jì)要作成的印刷基板的銅布線圖案以及要在其上面形成的防焊層圖案，并將銅布線圖案的數(shù)據(jù)作為第一層圖案數(shù)據(jù)DP1，將防焊層圖案的數(shù)據(jù)作為第二層圖案數(shù)據(jù)DP2，由此將這些數(shù)據(jù)存儲(chǔ)至圖案設(shè)計(jì)裝置4內(nèi)的未圖示的存儲(chǔ)裝置。此外，此時(shí)在考慮基板S表面有XY坐標(biāo)時(shí)，還在第一層圖案數(shù)據(jù)DPl上排列16個(gè)以上的“ + ”字型的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記Ma，這些對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記Ma分別在X、Y的方向上相互隔開(kāi)規(guī)定間隔，并且在各方向上至少排列4個(gè)以上。首先，將作成的圖案數(shù)據(jù)DPl發(fā)送至數(shù)據(jù)處理裝置2，并由數(shù)據(jù)處理裝置2讀入該圖案數(shù)據(jù)DPl (步驟S I)。接著，描畫(huà)裝置I的操作員根據(jù)作成的圖案數(shù)據(jù)DPl的內(nèi)容，使用 鍵盤(pán)5輸入用于以后進(jìn)行修正處理的修正信息(在后面詳細(xì)闡述)。數(shù)據(jù)處理裝置2將所接收的修正信息存儲(chǔ)至內(nèi)部的存儲(chǔ)裝置(未圖示)(步驟Sla)。接著，在數(shù)據(jù)處理裝置2利用作為圖像數(shù)據(jù)輸入接收部的轉(zhuǎn)換部20，接收所輸入的作為圖像數(shù)據(jù)的圖案數(shù)據(jù)DPl (即，讀入)，將讀入的圖案數(shù)據(jù)DPl轉(zhuǎn)換成初始描畫(huà)數(shù)據(jù)Dl (步驟Slb)，該初始描畫(huà)數(shù)據(jù)Dl是指曝光裝置3能夠處理的光柵形式的數(shù)據(jù)，在此基礎(chǔ)上，原樣將該初始描畫(huà)數(shù)據(jù)Dl作為描畫(huà)數(shù)據(jù)DD發(fā)送至曝光裝置3的描畫(huà)控制器31 (步驟S2)。S卩，由于在這里是描畫(huà)第一層的處理，因而在基于初始描畫(huà)數(shù)據(jù)Dl進(jìn)行曝光之前，尚未在基板S上形成圖案，不存在應(yīng)變等，因此不需修正數(shù)據(jù)，不進(jìn)行修正，而原樣將圖案數(shù)據(jù)DPl的初始描畫(huà)數(shù)據(jù)Dl作為描畫(huà)數(shù)據(jù)DD0此外，進(jìn)行轉(zhuǎn)換至該光柵形式的處理的轉(zhuǎn)換部20能夠利用公知的技術(shù)。若描畫(huà)裝置I接收到描畫(huà)數(shù)據(jù)DD，則將作為描畫(huà)對(duì)象物的基板S搬入曝光裝置3，且以相對(duì)于工作臺(tái)32定位的狀態(tài)將該基板S固定在該工作臺(tái)32上(步驟S3)?；錝是在樹(shù)脂基臺(tái)的單面上形成有銅層的印刷基板，在將該基板S搬入曝光裝置3時(shí)，為了對(duì)該銅層刻畫(huà)圖形而在該銅層上形成有光致抗蝕劑膜。此外，向曝光裝置3搬入基板S或后述的 搬出基板S的處理，可以由未圖示的搬送裝置根據(jù)描畫(huà)控制器31的指示來(lái)進(jìn)行，也可以由操作員用手工作業(yè)進(jìn)行。若將該基板S搬入描畫(huà)裝置3，則描畫(huà)控制器31通過(guò)控制光源33的調(diào)制部33a、工作臺(tái)32等，根據(jù)初始描畫(huà)數(shù)據(jù)Dl來(lái)照射調(diào)制的激光LB，由此進(jìn)行描畫(huà)處理，來(lái)對(duì)基板S刻畫(huà)圖形(步驟S4)。具體而言，在形成于基板S的表面的光致抗蝕劑膜上，形成基于初始描畫(huà)數(shù)據(jù)Dl的感光部分。若描畫(huà)初始描畫(huà)數(shù)據(jù)Dl的處理結(jié)束，則從曝光裝置3搬出基板S (步驟S5)。在對(duì)多個(gè)基板S進(jìn)行同樣的處理的情況下，通過(guò)對(duì)處理的基板個(gè)數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)，來(lái)判斷對(duì)規(guī)定個(gè)數(shù)的處理是否結(jié)束(步驟S6)，若未結(jié)束則返回步驟S2。若結(jié)束則進(jìn)入步驟S7。將完成了曝光裝置3的描畫(huà)處理的基板S搬運(yùn)至未圖示的顯影裝置，對(duì)其實(shí)施顯影、蝕刻以及伴隨這些處理的水洗、熱處理等處理(步驟S7)。并且，若該步驟S7結(jié)束，則通過(guò)對(duì)基板S表面的銅層刻畫(huà)圖形而形成了規(guī)定的布線圖案，至此結(jié)束形成第一層圖案的處理?！葱纬傻诙訄D案〉接著，在基板S上形成第二層圖案，但首先將通過(guò)在步驟S7中形成了規(guī)定布線圖案的基板S搬運(yùn)至未圖示的覆膜形成裝置，利用涂布或?qū)訅旱确椒?，在該基板S的整個(gè)表面覆膜而形成防焊層(步驟S8)。另一方面，圖案設(shè)計(jì)裝置4將由圖案設(shè)計(jì)裝置4在步驟SI中作成的防焊層圖案的數(shù)據(jù)(第二層圖案數(shù)據(jù)DP2)發(fā)送至數(shù)據(jù)處理裝置2，數(shù)據(jù)處理裝置2讀入該第二層圖案數(shù)據(jù)DP2 (步驟S9)。數(shù)據(jù)處理裝置2將該第二層圖案數(shù)據(jù)DP2轉(zhuǎn)換成曝光裝置3能夠處理的光柵形式的數(shù)據(jù)即初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2。為了后述的修正處理，將該初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2存儲(chǔ)至數(shù)據(jù)處理裝置2的內(nèi)部存儲(chǔ)裝置(未圖示)中，而不是將其直接發(fā)送至描畫(huà)裝置I的描畫(huà)控制器31 (步驟S10)。再次將在步驟S8中形成了防焊層的基板8搬入描畫(huà)裝置1，并與步驟S3同樣地，以相對(duì)于工作臺(tái)32定位的狀態(tài)將該基板8固定在該工作臺(tái)32上(步驟Sll)。接著，由拍攝裝置34拍攝固定在工作臺(tái)32上的基板S，并將拍攝得到的圖像作為標(biāo)記拍攝數(shù)據(jù)DM，經(jīng)由描畫(huà)控制器31將其發(fā)送至數(shù)據(jù)處理裝置2 (步驟S12)。具體而言，在該實(shí)施方式中，拍攝裝置34拍攝朝向基板S上側(cè)的整個(gè)感光膜面(描畫(huà)面)，但這是為了如后述那樣對(duì)形成在基板S的描畫(huà)面上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的位置進(jìn)行檢測(cè)，因而只要能夠拍攝需要的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M即可，勿需一定拍攝整個(gè)基板S。數(shù)據(jù)處理裝置2的位置計(jì)算部23，通過(guò)對(duì)接收到的標(biāo)記拍攝數(shù)據(jù)DM進(jìn)行處理，來(lái)識(shí)別并提取形成在基板S表面上的全部對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M，并對(duì)其位置進(jìn)行檢測(cè)(步驟S13)。由于與進(jìn)行描畫(huà)時(shí)(步驟S3)同樣地，將基板S相對(duì)于工作臺(tái)32定位而進(jìn)行固定，因而若基板S未發(fā)生變形及應(yīng)變，則曝光裝置3檢測(cè)出與描畫(huà)時(shí)的位置相同的位置，但是，實(shí)際上常常因描畫(huà)處理之后的顯影、蝕刻等處理而導(dǎo)致在基板S上產(chǎn)生變形及應(yīng)變，因此會(huì)檢測(cè)出對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的一部分或全部位置的偏移。因此，接著，數(shù)據(jù)處理裝置2計(jì)算這樣的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的位置偏移量(步驟S13a)此外，關(guān)于用于該計(jì)算處理的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的原來(lái)的位置信息，可以在步驟Sla中作為輸入的修正信息來(lái)進(jìn)行輸入，或者也可以讀入圖案數(shù)據(jù)DPl時(shí)(步驟SI)從圖案設(shè)計(jì)裝置4讀入。接著，數(shù)據(jù)處理裝置2根據(jù)特定算法，針對(duì)這樣的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的位置偏移，即，針對(duì)基板S的變形、應(yīng)變等，來(lái)對(duì)下一個(gè)要曝光的初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2計(jì)算修正量，并根據(jù)這樣的修正量進(jìn)行修正處理，由此得到完成修正的描畫(huà)數(shù)據(jù)DD (步驟S15)，所述特定算法是基于特 定修正信息的算法，該特定修正信息是指，操作員考慮形成在該基板S上的圖案的內(nèi)容、排列方式及基板S的用途等而設(shè)定的修正信息(步驟S14)。并且，通過(guò)該修正處理，針對(duì)具有此前基于初始描畫(huà)數(shù)據(jù)Dl而形成的銅布線圖案的基板S表面的變形及應(yīng)變，對(duì)此后要描畫(huà)的初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2進(jìn)行修正，并基于完成修正的該描畫(huà)數(shù)據(jù)DD進(jìn)行描畫(huà)，由此消除或減少此前形成的銅布線圖案與本次形成的防焊層圖案的位置關(guān)系的偏差。由此，可得到足夠的描畫(huà)品質(zhì)、制品品質(zhì)。在本實(shí)施方式中，作為以數(shù)據(jù)處理裝置2為主的結(jié)構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，該描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置對(duì)用于在基板上進(jìn)行描畫(huà)的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行修正。此外，對(duì)包含該步驟S14的修正處理，在后面詳細(xì)闡述。接著，數(shù)據(jù)處理裝置2將在步驟S15中得到的完成修正的描畫(huà)數(shù)據(jù)DD發(fā)送至曝光裝置3的描畫(huà)控制器31，描畫(huà)控制器31通過(guò)控制光源33的調(diào)制部33a、工作臺(tái)32等，來(lái)照射基于該描畫(huà)數(shù)據(jù)DD調(diào)制后的激光LB而進(jìn)行描畫(huà)處理，由此在基板S上刻畫(huà)圖形(步驟S16)。具體而言，基于描畫(huà)數(shù)據(jù)DD，來(lái)在形成于基板S表面的防焊層上形成感光部分。若基于描畫(huà)數(shù)據(jù)DD的描畫(huà)處理結(jié)束，則從曝光裝置3搬出基板S (步驟S17)。在對(duì)多個(gè)基板S進(jìn)行同樣處理的情況下，通過(guò)對(duì)處理的基板個(gè)數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)，來(lái)判斷對(duì)規(guī)定個(gè)數(shù)的處理是否結(jié)束(步驟S18)，若未結(jié)束則返回步驟S11。若結(jié)束則進(jìn)入步驟S19。將完成了曝光裝置3的描畫(huà)處理的基板S搬運(yùn)至未圖示的顯影裝置等，對(duì)其實(shí)施顯影等的形成圖案所需的處理(步驟S19)。并且，若該步驟S19結(jié)束，則通過(guò)對(duì)基板S表面的銅層上的防焊層刻畫(huà)圖形而形成了規(guī)定的防焊層圖案，至此結(jié)束形成第二層圖案的處理。<修正處理的詳細(xì)內(nèi)容>接著，說(shuō)明對(duì)本發(fā)明的上述步驟S14中由初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2計(jì)算修正量的處理概要。圖7是示出了步驟S14的子程序的詳細(xì)內(nèi)容的圖。在該步驟S14中，根據(jù)在特定修正信息中指定的算法來(lái)計(jì)算修正量，該特定修正信息是指，操作員考慮形成于該基板S上的圖案的內(nèi)容、排列方式、基板S的用途等而在此前輸入設(shè)定的修正信息。具體而言，修正方法選擇部22首先按照修正信息，判斷應(yīng)用此前闡述的三種修正算法中的哪一種算法(步驟S140)。在這里，若對(duì)在此前結(jié)合圖6說(shuō)明的步驟Sla中預(yù)先由操作員輸入設(shè)定的修正信息的內(nèi)容進(jìn)行說(shuō)明，則在采用前述的第一算法“整體應(yīng)變修正”的情況下，輸入該算法的編號(hào)“I”。在采用算法2 矩形保持修正”的情況下，輸入該算法的編號(hào)“2”和要保持的矩形的形狀。另外，在采用算法3 整體應(yīng)變修正和矩形保持修正的并用”的情況下，除了輸入該算法的編號(hào)“3”之外，還輸入在基板S上應(yīng)用“整體應(yīng)變修正”的區(qū)域和應(yīng)用“矩形保持修正”的區(qū)域的其坐標(biāo)來(lái)指定各應(yīng)用區(qū)域，并且，輸入在“矩形保持修正”中要保持的矩形的形狀。并且，在該步驟S140中，從存儲(chǔ)裝置讀出所輸入的算法的編號(hào)，并根據(jù)該算法的編號(hào)是哪一個(gè)編號(hào)，來(lái)判斷指定了哪一種算法。并且，根據(jù)步驟S140的判斷，在輸入了算法的編號(hào)“I”的情況下進(jìn)入步驟S141，在輸入了 “2”的情況下進(jìn)入步驟S142，在輸入了 “3”的情況下進(jìn)入步驟S143。在步驟S141中，利用包含“整體應(yīng)變修正”的程序的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21A，來(lái)計(jì)算 用于對(duì)初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2實(shí)施整體應(yīng)變修正的修正量。并且，返回圖6，通過(guò)對(duì)初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2進(jìn)行修正，來(lái)計(jì)算描畫(huà)數(shù)據(jù)DD (步驟S15)，并基于修正后的該描畫(huà)數(shù)據(jù)DD來(lái)描畫(huà)第二層(步驟S16)。在步驟S142中，利用包含“矩形保持修正”的程序的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21B，來(lái)計(jì)算用于對(duì)初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2實(shí)施矩形保持修正的修正量。并且，返回圖6，通過(guò)對(duì)初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2進(jìn)行修正，來(lái)計(jì)算描畫(huà)數(shù)據(jù)DD (步驟S15)，并基于修正后的該描畫(huà)數(shù)據(jù)DD來(lái)描畫(huà)第二層(步驟S16)。另外，在步驟S143中，基于預(yù)先輸入設(shè)定的在基板S上應(yīng)用“整體應(yīng)變修正”的區(qū)域和應(yīng)用“矩形保持修正”的區(qū)域，首先利用描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21A，針對(duì)該“整體應(yīng)變修正”應(yīng)用區(qū)域計(jì)算初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2中的該“整體應(yīng)變修正”應(yīng)用區(qū)域的修正值，并將計(jì)算結(jié)果存儲(chǔ)至未圖示的內(nèi)部存儲(chǔ)裝置。接著，進(jìn)入步驟S144，利用描畫(huà)數(shù)據(jù)修正部21B，針對(duì)“矩形保持修正”應(yīng)用區(qū)域計(jì)算初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2中的該“矩形保持修正”應(yīng)用區(qū)域的修正值，并將計(jì)算結(jié)果存儲(chǔ)至未圖示的內(nèi)部存儲(chǔ)裝置。然后，返回圖6，通過(guò)對(duì)初始描畫(huà)數(shù)據(jù)D2進(jìn)行修正，來(lái)計(jì)算描畫(huà)數(shù)據(jù)DD (步驟S15)，并基于修正后的該描畫(huà)數(shù)據(jù)DD來(lái)描畫(huà)第二層(步驟S16)。這樣，在圖7中，利用步驟S14的整個(gè)子程序，來(lái)選擇使用數(shù)據(jù)修正部而對(duì)描畫(huà)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，并根據(jù)在特定修正信息中指定的算法來(lái)計(jì)算修正量，由此能夠?qū)崿F(xiàn)與基板S用途及圖案相對(duì)應(yīng)的最佳修正，該特定修正信息是指，操作員考慮形成于該基板S上的圖案的內(nèi)容、排列方式、基板S的用途等而在此前輸入設(shè)定的修正信息。<變形例>在上述實(shí)施方式中，設(shè)有鍵盤(pán)5，該鍵盤(pán)5作為操作員判斷并輸入用于選擇修正方法的修正信息的信息輸入部，但并不限定于此，例如在將由圖案設(shè)計(jì)裝置4作成的圖案數(shù)據(jù)DP發(fā)送至數(shù)據(jù)處理裝置2時(shí)，也可以由圖案設(shè)計(jì)裝置4判斷用于修正該圖案數(shù)據(jù)DP的恰當(dāng)方法，并作成表示判斷出的方法的修正信息，將該修正信息與圖案數(shù)據(jù)DP—起輸入至該數(shù)據(jù)處理裝置2。另外，在上述實(shí)施方式中，數(shù)據(jù)處理裝置2的修正方法選擇部22基于接收的用于選擇修正方法的修正信息來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部21A、21B，但并不限定于此，例如也可以由數(shù)據(jù)處理裝置2自身分析所接收的圖案數(shù)據(jù)DP，并識(shí)別有無(wú)單片圖案以及種類(lèi)，由此選定優(yōu)選的修正方法，并對(duì)可選擇使用與該修正方法相對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)修正部的程序進(jìn)行組合。另外，在上述實(shí)施方式中，由拍攝裝置34拍攝放置在工作臺(tái)32上的基板S的表面，數(shù)據(jù)處理裝置2通過(guò)分析拍攝得到的該圖像來(lái)計(jì)算定位標(biāo)記即對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記M的位置信息(即，拍攝裝置34和數(shù)據(jù)處理裝置2的位置計(jì)算部23，成為定位標(biāo)記位置輸入部，該定位標(biāo)記位置輸入部用于輸入定位標(biāo)記的位置信息)，但并不限定于此，也可以用其他的方法輸入定位標(biāo)記。另外，在上述實(shí)施方式中，從“整體應(yīng)變修正”、“單片保持修正”、“整體應(yīng)變修正和單片保持修正的并用”的三個(gè)算法中，根據(jù)用途來(lái)選擇適當(dāng)?shù)乃惴?，但也可以使用其他的算法?！葱Ч?如上所述，若采用本發(fā)明，則能夠根據(jù)要制造的基板來(lái)選擇修正方法，由此能夠與后工序及用途等使用方式相適合地對(duì)描畫(huà)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，且能夠使用修正后的該描畫(huà)數(shù)據(jù)來(lái)進(jìn)行描畫(huà)。雖然詳細(xì)描述說(shuō)明了本發(fā)明，但所述說(shuō)明僅為例示，并非限制。因此，只要不脫離本發(fā)明的范圍，就能夠?qū)崿F(xiàn)多種變形或方式。
權(quán)利要求
1.一種描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，基于基板的定位標(biāo)記的位置信息，對(duì)用于在基板上進(jìn)行描畫(huà)的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，該描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置的特征在于， 具有: 圖像數(shù)據(jù)輸入接收部，其接收所輸入的用于在描畫(huà)基板上進(jìn)行描畫(huà)的圖像數(shù)據(jù)， 定位標(biāo)記位置輸入部，其輸入基板的定位標(biāo)記的位置信息， 多個(gè)數(shù)據(jù)修正部，這些各數(shù)據(jù)修正部基于被輸入的定位標(biāo)記的位置信息，利用各不相同的算法來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)， 修正方法選擇部，其對(duì)所述多個(gè)數(shù)據(jù)修正部進(jìn)行選擇使用，來(lái)對(duì)描畫(huà)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正。
2.根據(jù)權(quán)利要求I記載的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，其特征在于， 還具有信息輸入部，該信息輸入部輸入用于選擇修正方法的修正信息； 所述修正方法選擇部根據(jù)由所述信息輸入部輸入的修正信息來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2記載的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，其特征在于， 所述圖像數(shù)據(jù)輸入接收部，從用于作成圖像數(shù)據(jù)的圖案作成裝置接收所輸入的圖像數(shù)據(jù)； 所述信息輸入部，伴隨著向圖像數(shù)據(jù)輸入接收部輸入圖像數(shù)據(jù)的輸入動(dòng)作，輸入來(lái)自所述圖案作成裝置的修正信息。
4.根據(jù)權(quán)利要求I記載的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，其特征在于， 所述修正方法選擇部，根據(jù)被輸入的描畫(huà)數(shù)據(jù)，判斷要選擇的數(shù)據(jù)修正部。
5.根據(jù)權(quán)利要求2記載的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，其特征在于， 所述修正方法選擇部，根據(jù)被輸入的描畫(huà)數(shù)據(jù)的圖像是否含有多個(gè)相同的單片圖案，來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。
6.根據(jù)權(quán)利要求2記載的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，其特征在于， 所述修正方法選擇部，根據(jù)被輸入的描畫(huà)數(shù)據(jù)的圖像是否整體為單一圖案的圖像，來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。
7.根據(jù)權(quán)利要求2記載的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，其特征在于， 所述修正方法選擇部，根據(jù)被輸入的描畫(huà)數(shù)據(jù)的圖像是否含有多個(gè)相同的單片圖案并且還包含其他圖案，來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。
8.根據(jù)權(quán)利要求I至7中任一項(xiàng)記載的描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置，其特征在于， 所述定位標(biāo)記位置輸入部具有 拍攝部，其拍攝所述基板； 位置計(jì)算部，其根據(jù)所述拍攝部拍攝得到的圖像，來(lái)計(jì)算所述基板的定位標(biāo)記的位置信息。
9.一種描畫(huà)裝置，其特征在于， 具有 光源， 描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置， 調(diào)制部，其根據(jù)由所述描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置修正后的描畫(huà)數(shù)據(jù)，來(lái)調(diào)制來(lái)自所述光源的光， 掃描部，其將由所述調(diào)制部調(diào)制后的光照射在基板上，來(lái)掃描該基板；所述描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置具有 圖像數(shù)據(jù)輸入接收部，其接收所輸入的用于在描畫(huà)基板上進(jìn)行描畫(huà)的圖像數(shù)據(jù)， 定位標(biāo)記位置輸入部，其輸入基板的定位標(biāo)記的位置信息， 多個(gè)數(shù)據(jù)修正部，這些各數(shù)據(jù)修正部基于被輸入的定位標(biāo)記的位置信息，利用各不相同的算法來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)， 修正方法選擇部，其對(duì)所述多個(gè)數(shù)據(jù)修正部進(jìn)行選擇使用，來(lái)對(duì)描畫(huà)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正。
10.根據(jù)權(quán)利要求9記載的描畫(huà)裝置，其特征在于， 所述描畫(huà)數(shù)據(jù)修正裝置還具有信息輸入部，該信息輸入部輸入用于選擇修正方法的修正信息； 所述修正方法選擇部根據(jù)由所述信息輸入部輸入的修正信息來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。
11.根據(jù)權(quán)利要求10記載的描畫(huà)裝置，其特征在于， 所述圖像數(shù)據(jù)輸入接收部，從用于作成圖像數(shù)據(jù)的圖案作成裝置接收所輸入的圖像數(shù)據(jù)； 所述信息輸入部，伴隨著向圖像數(shù)據(jù)輸入接收部輸入圖像數(shù)據(jù)的輸入動(dòng)作，輸入來(lái)自所述圖案作成裝置的修正信息。
12.根據(jù)權(quán)利要求9記載的描畫(huà)裝置，其特征在于， 所述修正方法選擇部，根據(jù)被輸入的描畫(huà)數(shù)據(jù)，判斷要選擇的數(shù)據(jù)修正部。
13.根據(jù)權(quán)利要求10記載的描畫(huà)裝置，其特征在于， 所述修正方法選擇部，根據(jù)被輸入的描畫(huà)數(shù)據(jù)的圖像是否含有多個(gè)相同的單片圖案，來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。
14.根據(jù)權(quán)利要求10記載的描畫(huà)裝置，其特征在于， 所述修正方法選擇部，根據(jù)被輸入的描畫(huà)數(shù)據(jù)的圖像是否整體為單一圖案的圖像，來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。
15.根據(jù)權(quán)利要求10記載的描畫(huà)裝置，其特征在于， 所述修正方法選擇部，根據(jù)被輸入的描畫(huà)數(shù)據(jù)的圖像是否含有多個(gè)相同的單片圖案并且還包含其他圖案，來(lái)選擇數(shù)據(jù)修正部。
16.根據(jù)權(quán)利要求9至15中任一項(xiàng)記載的描畫(huà)裝置，其特征在于， 所述定位標(biāo)記位置輸入部具有 拍攝部，其拍攝所述基板； 位置計(jì)算部，其根據(jù)所述拍攝部拍攝得到的圖像，來(lái)計(jì)算所述基板的定位標(biāo)記的位置信息。
全文摘要
提供一種掃描數(shù)據(jù)修正裝置及描畫(huà)裝置。在掃描數(shù)據(jù)修正裝置中，修正方法選擇部根據(jù)所接收的修正信息對(duì)多個(gè)數(shù)據(jù)修正部進(jìn)行選擇使用，來(lái)對(duì)描畫(huà)數(shù)據(jù)進(jìn)行修正。描畫(huà)裝置基于修正后的該描畫(huà)數(shù)據(jù)(DD)，對(duì)基板進(jìn)行描畫(huà)。這樣一來(lái)，根據(jù)要制造的基板來(lái)選擇修正方法，由此，能夠以與后續(xù)工序或用途等事宜方式相適合的方式來(lái)修正描畫(huà)數(shù)據(jù)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102681355SQ201210068688
公開(kāi)日2012年9月19日 申請(qǐng)日期2012年3月12日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月18日
發(fā)明者八坂智, 山田亮 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)屏制造株式會(huì)社