本實(shí)用新型涉及種植灌溉系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種林下石斛種植灌溉系統(tǒng)。
背景技術(shù):
目前林下石斛的灌溉較多的是使用頂噴,即簡單的通過水泵連接水管,通過水管上的噴頭進(jìn)行澆水。由于這種設(shè)計(jì)過程中并沒有考慮到壓力,流量等問題,而且林下土地不平整,多事山坡,這回造成有較大高度差的幾處噴頭流量不相同,地處的噴頭壓力大,流量大,覆蓋范圍廣,高出的噴頭壓力小,流量小,覆蓋范圍也小,這樣不能保證澆水的質(zhì)量,造成局部澆水過多和過少。要解決這種問題首先是要保證水管上的所有噴頭的壓力和流量都一樣,這樣澆水才均勻。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的就在于為了解決上述問題而提供一種林下石斛種植灌溉系統(tǒng)。
本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)上述目的:
本實(shí)用新型包括A區(qū)和B區(qū)兩個灌溉區(qū),所述A區(qū)灌溉區(qū)分為11個灌溉小區(qū),所述B區(qū)灌溉區(qū)分為19個灌溉小區(qū),所述A區(qū)灌溉區(qū)和所述B區(qū)灌溉區(qū)的高差相對較大,最高點(diǎn)相差25m,所述A區(qū)灌溉區(qū)和所述B區(qū)灌溉區(qū)通過輸水主管貫穿,所述輸水主管上連接田間干管和田間支管分布灌溉,水流入口從所述A區(qū)灌溉區(qū)和所述B區(qū)灌溉區(qū)的兩端進(jìn)行入水,其入口處均依次連接有立式管道離心泵、砂石過濾器和兩套疊片過濾器,所述A區(qū)灌溉區(qū)入口端還設(shè)置有免電源式比例注肥泵。
本實(shí)用新型優(yōu)選的,所述輸水主管選擇HDPE管,管徑為De125、De110,沿基地道路地埋鋪設(shè)。
本實(shí)用新型優(yōu)選的,所述田間干管選擇LDPE管,管徑為De50,垂直等高線地表鋪設(shè)。
本實(shí)用新型優(yōu)選的,所述田間支管選擇LDPE管,管徑為De20,平行等高線地表鋪設(shè)。
本實(shí)用新型的有益效果在于:
本實(shí)用新型提供一種林下石斛種植灌溉系統(tǒng),整個基地分為A區(qū)和B區(qū)兩個灌溉區(qū),其中A區(qū)分為11個灌溉小區(qū),B區(qū)分為19個灌溉小區(qū),A區(qū)和B區(qū)單獨(dú)灌溉;灌溉時,每次可同時開啟同一個區(qū)內(nèi)的兩個電磁閥灌溉兩個灌溉小區(qū);施肥時,如果需要全比例施肥,則每次只能開啟一個電磁閥,如果不要求,則每次可同時開啟同一個區(qū)內(nèi)的兩個電磁閥為兩個灌溉小區(qū)同時施肥,本實(shí)用新型能夠全面灌溉及施肥,灌溉和施肥較為均勻,設(shè)計(jì)較為合理。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型所述一種林下石斛種植灌溉系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明:
如圖1所示:本實(shí)用新型包括A區(qū)灌溉區(qū)1和B區(qū)灌溉區(qū)2,A區(qū)灌溉區(qū)1分為11個灌溉小區(qū),B區(qū)灌溉區(qū)2分為19個灌溉小區(qū),A區(qū)灌溉區(qū)1和B區(qū)灌溉區(qū)2的高差相對較大,最高點(diǎn)相差25m,A區(qū)灌溉區(qū)1和B區(qū)灌溉區(qū)2通過輸水主管4貫穿,輸水主管4上連接田間干管9和田間支管10分布灌溉,水流入口從A區(qū)灌溉區(qū)1和B區(qū)灌溉區(qū)2的兩端進(jìn)行入水,其入口處均依次連接有立式管道離心泵5、砂石過濾器6和兩套疊片過濾器7,A區(qū)灌溉區(qū)1入口端還設(shè)置有免電源式比例注肥泵8,輸水主管4選擇HDPE管,管徑為De125、De110,沿基地道路地埋鋪設(shè),田間干管9選擇LDPE管,管徑為De50,垂直等高線地表鋪設(shè),田間支管10選擇LDPE管,管徑為De20,平行等高線地表鋪設(shè)。
本基地灌溉方式為微噴,選用5429D旋轉(zhuǎn)微噴頭,噴頭間距3.5m,支管間距3.5m。該噴頭參數(shù):流量120L/h,射程4.0m,壓力200-300KPa,微噴安裝采用地插的形式,地插桿選用碳鋼地插桿,長度為1m,毛管長1.5m;根據(jù)水泵和實(shí)際情況,首部安裝一臺水泵智能變頻控制柜,田間控制方式為電磁閥自動控制。每個灌溉小區(qū)安裝一個電磁閥,實(shí)現(xiàn)園區(qū)灌溉的自動化。
灌溉時,需要調(diào)節(jié)水泵壓力,當(dāng)灌溉A區(qū)時,壓力調(diào)節(jié)到300-350KPa,當(dāng)灌溉B區(qū)時,壓力調(diào)節(jié)到550-600KPa。B區(qū)只做主管道,但是后期還會安裝灌溉,由于壓力的原因,以后在安裝支管時在高差大于10m時中間需要安裝減壓閥,保證系統(tǒng)的安全。
綜上所述,本實(shí)用新型提供一種林下石斛種植灌溉系統(tǒng),整個基地分為A區(qū)和B區(qū)兩個灌溉區(qū),其中A區(qū)分為11個灌溉小區(qū),B區(qū)分為19個灌溉小區(qū),A區(qū)和B區(qū)單獨(dú)灌溉;灌溉時,每次可同時開啟同一個區(qū)內(nèi)的兩個電磁閥灌溉兩個灌溉小區(qū);施肥時,如果需要全比例施肥,則每次只能開啟一個電磁閥,如果不要求,則每次可同時開啟同一個區(qū)內(nèi)的兩個電磁閥為兩個灌溉小區(qū)同時施肥,本實(shí)用新型能夠全面灌溉及施肥,灌溉和施肥較為均勻,設(shè)計(jì)較為合理。
本領(lǐng)域技術(shù)人員不脫離本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)和精神,可以有多種變形方案實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型,以上所述僅為本實(shí)用新型較佳可行的實(shí)施例而已,并非因此局限本實(shí)用新型的權(quán)利范圍,凡運(yùn)用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變化,均包含于本實(shí)用新型的權(quán)利范圍之內(nèi)。