本實用新型涉及屋頂綠化領(lǐng)域,更具體地,涉及一種表面帶有凹槽的草坪生態(tài)氈。
背景技術(shù):
目前的城市園林綠化和人工草坪種植中,主要是將花、草的種子或莖段設(shè)置在草坪生態(tài)氈內(nèi),由于草坪生態(tài)氈內(nèi)自帶有基質(zhì)養(yǎng)分層,所以在澆水充足的情況下草坪生態(tài)氈內(nèi)的種子或莖段能夠進行正常的生長發(fā)育過程。但是,現(xiàn)有的草坪生態(tài)氈的頂部都是平整的,若在澆水時水速過快且澆水的角度是傾斜的,則部分水源會沖出或流出草坪生態(tài)氈的表面,造成水資源的浪費。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本實用新型為解決以上現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供了一種表面帶有凹槽的草坪生態(tài)氈,該草坪生態(tài)氈的頂面上開設(shè)有凹槽,在澆水時凹槽能夠?qū)A斜下沖的水源的水速進行緩沖,從而使得絕大部分的水源能夠留在草坪生態(tài)氈的頂面上,并滲入草坪生態(tài)氈內(nèi)部,從而能夠達到節(jié)約水資源的目的。
為實現(xiàn)以上實用新型目的,采用的技術(shù)方案是:
一種表面帶有凹槽的草坪生態(tài)氈,包括氈體,所述氈體的頂面上設(shè)置有若干條凹槽。
優(yōu)選地,所述氈體的上側(cè)邊緣和下側(cè)邊緣經(jīng)過整形處理使得上側(cè)邊緣和下側(cè)邊緣呈波浪狀。
優(yōu)選地,所述氈體的左側(cè)邊緣和右側(cè)邊緣經(jīng)過平整化處理使其左側(cè)邊緣和右側(cè)邊緣呈直線狀。
優(yōu)選地,所述氈體的頂面上開設(shè)有n組凹槽,每組凹槽包括2條凹槽,分別為第一凹槽和第二凹槽,第一凹槽和第二凹槽呈波浪狀;第一凹槽與第二凹槽之間為平行設(shè)置,第一凹槽與第二凹槽接觸交匯使得第一凹槽與第二凹槽形成DNA雙螺旋形狀的結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選地,所述氈體的頂面上開設(shè)有兩組凹槽。
優(yōu)選地,所述兩組凹槽之間為平行設(shè)置。
優(yōu)選地,所述兩組凹槽之間留有間距。
優(yōu)選地,所述兩組凹槽為水平設(shè)置,兩組凹槽的左右兩端與氈體左右兩側(cè)的邊緣連接。
優(yōu)選地,所述每條凹槽的槽寬為10cm,深為1cm。
優(yōu)選地,所述氈體的長為2m,寬為1m。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的有益效果是:
本實用新型的草坪生態(tài)氈的頂面上開設(shè)有凹槽,在澆水時凹槽能夠?qū)A斜下沖的水源的水速進行緩沖,從而使得絕大部分的水源能夠留在草坪生態(tài)氈的頂面上,并滲入草坪生態(tài)氈內(nèi)部,從而能夠達到節(jié)約水資源的目的。
附圖說明
圖1為草坪生態(tài)氈的俯視圖。
具體實施方式
附圖僅用于示例性說明,不能理解為對本專利的限制;
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型做進一步的闡述。
實施例1
如圖1所示,表面帶有凹槽2的草坪生態(tài)氈,包括氈體1,氈體1的長為2m,寬為1m;氈體1的上側(cè)邊緣和下側(cè)邊緣經(jīng)過整形處理使得上側(cè)邊緣和下側(cè)邊緣呈波浪狀,而氈體1的左側(cè)邊緣和右側(cè)邊緣經(jīng)過平整化處理使其左側(cè)邊緣和右側(cè)邊緣呈直線狀,所述氈體1的頂面上設(shè)置有若干條凹槽2。
本實用新型的草坪生態(tài)氈的頂面上開設(shè)有凹槽2,在澆水時凹槽2能夠?qū)A斜下沖的水源的水速進行緩沖,從而使得絕大部分的水源能夠留在草坪生態(tài)氈的頂面上,并滲入草坪生態(tài)氈內(nèi)部,從而能夠達到節(jié)約水資源的目的。
實施例2
本實施例在實施例1的基礎(chǔ)上對開設(shè)的凹槽2的結(jié)構(gòu)做進一步的限定,具體如圖1所示,氈體1的頂面上開設(shè)有兩組凹槽2,兩組凹槽2為水平設(shè)置,兩組凹槽2的左右兩端與氈體1左右兩側(cè)的邊緣連接,每組凹槽2包括2條凹槽2,分別為第一凹槽21和第二凹槽22,每條凹槽2的槽寬為10cm,深為1cm;第一凹槽21和第二凹槽22呈波浪狀;第一凹槽21與第二凹槽22之間為平行設(shè)置,第一凹槽21與第二凹槽22接觸交匯使得第一凹槽21與第二凹槽22形成DNA雙螺旋形狀的結(jié)構(gòu)。
其中,如圖1所示,兩組凹槽2之間留有間距。
顯然,本實用新型的上述實施例僅僅是為清楚地說明本實用新型所作的舉例,而并非是對本實用新型的實施方式的限定。對于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等,均應(yīng)包含在本實用新型權(quán)利要求的保護范圍之內(nèi)。