專利名稱：在噴射床裝置中生產(chǎn)農(nóng)藥顆粒的制作方法
在噴射床裝置中生產(chǎn)農(nóng)藥顆粒本發(fā)明涉及一種生產(chǎn)包含農(nóng)藥的顆粒的方法，包括在噴射床裝置的近似圓形氣體/原料料流區(qū)域中將含農(nóng)藥噴霧液噴霧至所述原料的粒子表面，以及在氣體料流中干燥和造粒。此外，本發(fā)明涉及可通過所述方法獲得的包含農(nóng)藥的顆粒，其中所述顆粒具有至少0. 85的圓度。優(yōu)選特征與其他優(yōu)選特征的組合包括在本發(fā)明范圍內(nèi)。包含農(nóng)藥的顆粒通常是已知的WO 2007/048851公開了包含液體或低熔聚烷氧基化物和基于較高分子量磺酸鹽的載體且呈流化床顆粒形式的固體作物保護組合物。
WO 2008/065051公開了一種通過霧化農(nóng)藥和基質(zhì)助劑的溶液而生產(chǎn)微溶性農(nóng)藥的顆粒狀固溶體的方法，其中流化床噴霧造?？捎糜诟稍?。DE 2627065公開了一種生產(chǎn)固體除草劑顆粒的方法，其中將除草劑水溶液引入固體稀釋劑粒子的流化床中。US 5，883，047公開了一種通過使水溶液或水分散體進行流化床造粒而生產(chǎn)作物保護組合物顆粒的方法。通過流化床方法生產(chǎn)顆粒的已知方法具有許多缺點。形成堆密度低的不是非常密實的顆粒。所述顆粒呈附聚物狀，得到不是非常抗磨的含塵配制劑。熱敏性農(nóng)藥如唑菌胺酯(pyraclostrobin)受到損壞。對于經(jīng)濟生產(chǎn)而言生產(chǎn)率(每單位時間的顆粒kg數(shù))不夠聞。因此，本發(fā)明目的在于找到一種能克服上述缺點的顆粒生產(chǎn)方法。該目的通過一種生產(chǎn)包含農(nóng)藥的顆粒的方法實現(xiàn)，所述方法包括在噴射床裝置的近似圓形氣體/原料料流區(qū)域中將含農(nóng)藥噴霧液噴霧至所述原料的粒子表面，以及在氣體料流中干燥和造粒。噴射床裝置通常是已知的，例如由DE 10 2004 024 681、WO 2004/101132、US2005/0152815 或 EP I 325 775 已知。它們例如可由 Glatt Ingenieurtechnik GmbH,Weimar以ProCell型系列市購。優(yōu)選如WO 2007/017159圖I所公開的噴射床裝置，其通過參考并入本文。該噴射床裝置的常規(guī)功能模式描述于第7頁第4行至第12頁第20行并通過參考并入本文。WO 2004/101132公開了一種將液體弓I入噴射床裝置的固體流中的一般方法，其中液體經(jīng)由噴嘴引入噴射床中。近似圓形氣體/原料料流優(yōu)選為近似圓筒形的。在大多數(shù)情況下，其此時圍繞優(yōu)選大致平行于噴射床裝置的一個或多個縫隙開口的縱軸流動。為了將含農(nóng)藥噴霧液造粒，將所需量的加工氣體經(jīng)由至少一個(但也優(yōu)選僅一個)輸入空氣腔(基本上具有大致矩形橫截面和限定側(cè)壁)而引入。引入的加工氣體(例如空氣或氮氣)具有-20° C至250° C的溫度。在輸入空氣腔中，加工氣體被分配并經(jīng)由一個或多個(尤其是兩個)(優(yōu)選扁長的、大致平行于水平方向而設(shè)置)縫隙開口以一個或多個(優(yōu)選兩個)氣體射流形式進入加工區(qū)。加工氣體料流(優(yōu)選水平地進入縫隙開口 )優(yōu)選通過一個或多個(優(yōu)選兩個)偏轉(zhuǎn)部件(其可調(diào)節(jié)且優(yōu)選設(shè)計應(yīng)使得其用來實現(xiàn)對加工氣體的彎曲引導，即，在輸入料流區(qū)中大致垂直和朝向噴射床裝置的縱向平面通過至少一個縫隙形開口，以及在輸出料流區(qū)(通入加工區(qū)的區(qū)域)中大致平行于縱向平面向上)向上偏轉(zhuǎn)至加工區(qū)中并在每種情況下以自由射流形式流入所述裝置。該設(shè)置可獲得特別均勻的粒子料流，特別是如果回流通過所述粒子被回流區(qū)的側(cè)壁阻礙并側(cè)向進入氣體料流而進行。此外，裝置橫截面可任選在膨脹區(qū)中加大，使得加工氣體料流的速度向上穩(wěn)定減小。氣體在膨脹區(qū)上方經(jīng)由輸出空氣部分作為廢氣離開所述裝置，任選至少一個除塵設(shè)備如一個或多個過濾筒和/或織物過濾元件等可以整合到輸出空氣部分中。在加工區(qū)中有適量的含農(nóng)藥粒子(“原料”)，其通過加工氣體射流被向上夾帶。在加工區(qū)的上部區(qū)域中以及位于它上方的膨脹區(qū)中，氣體速度減小，使得向上流動的粒子從氣體射流側(cè)向流出并回落到加工區(qū)中。加工區(qū)在下部區(qū)域中被一個或優(yōu)選多個(這里為兩個)傾斜側(cè)壁限制。由于該側(cè)向傾斜，使粒子在重力作用下通過回流區(qū)朝向氣體入口縫隙輸送，在那里它們隨后再被加工氣體夾帶到加工區(qū)中。優(yōu)選可通過符合工藝要求的優(yōu)選縫隙形氣體入口縫隙建立壓差，并由此可實現(xiàn)氣體進入的均勻性和可能存在的死區(qū)的減少。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，建立的流入橫截面可優(yōu)選更小，這意味著可更精確地調(diào)節(jié)流化條件。通過該機制，在一個或多個(優(yōu)選兩個)近似圓形(優(yōu)選大致近似圓筒形，即圓筒形或大致圓筒形)氣體/原料料流中形成非常均勻的固體循環(huán)。這里，每個近似圓形氣體/原料料流由向上料流和朝向加工氣體入口的回流組成。因此，即使在加工區(qū)中粒子的量非常少的情況下，在每個偏轉(zhuǎn)部件上方的錐芯區(qū)域中也存在高的粒子密度。在該區(qū)域中設(shè)置一個或多個噴嘴，它們與加工氣體射流同方向地起作用，向上噴淋并用于引入含農(nóng)藥噴霧液。氣體/原料料流的溫度在大多數(shù)情況下至多為比農(nóng)藥的熔點低1° C，優(yōu)選至多為比農(nóng)藥的熔點低5° C，尤其是至多為比農(nóng)藥的熔點低10° C。在另一實施方案中，氣體/原料料流的溫度在大多數(shù)情況下為25-150° C，優(yōu)選30-120° C。通過錐芯區(qū)域中高的粒子負載量，在霧化區(qū)中得到對于傳熱和傳質(zhì)而言非常有利的條件。還確保液體盡可能沉積在粒子上并且后者由此均勻地在粒子表面被潤濕。均勻潤濕以及同時在霧化區(qū)和回流區(qū)之間的高固體循環(huán)確保在原料粒子上形成非常均勻的液膜。通過硬化工藝，液體硬化并且固體保留在粒子表面。顆粒由此非常一致且均勻地生長，這得到非常窄的粒度分布和均勻的粒子結(jié)構(gòu)。引入加工區(qū)的加工氣體可將部分粒子以及微粒材料和灰塵作為固體負載的輸出空氣從加工區(qū)排出。為分離這些粒子，可使用至少一個任選整合到輸出空氣部分中作為除塵設(shè)備的過濾系統(tǒng)或在所述裝置下游連接的一個或多個其他類型的除塵設(shè)備。在整合除塵設(shè)備的情況下，例如可利用壓縮空氣脈沖將擋住的粒子作為分離的固體回輸?shù)郊庸^(qū)。與帶有整合過濾設(shè)備的流化床裝置相反，通過將向上流動的加工氣體料流基本限定并且待回輸?shù)牧Ｗ佑纱四軌蛟跉怏w射流之外可靠地下落而使回輸灰塵更容易。在氣體入口縫隙附近的抽吸作用額外地促進該機制?；蛘?，可將與輸出空氣分離的粒子回輸?shù)郊庸^(qū)。為此，在傾斜側(cè)壁的下部區(qū)域中可設(shè)置一個或多個特性高度不同的供料。由于在氣體入口縫隙附近高的加工氣體射流速度，細粒被吸入并輸送至霧化區(qū)，在那里它們用液體潤濕并參與生長過程。在優(yōu)選的實施方案中，一個或多個(優(yōu)選兩個)任選安裝的導向板(優(yōu)選大致平行于縫隙開口)可支撐氣體射流，提高抽吸作用和改善固體向霧化區(qū)的供料。所出現(xiàn)的任何附聚作用得以最小化，因為在霧化區(qū)內(nèi)流速非常高且由此出現(xiàn)比流化床中更高的分離力。由此粒子被分離并生長而得到極具球形的顆粒。加工區(qū)中加工氣體的流動分布也導致通過任選整合的過濾設(shè)備而回輸?shù)郊庸^(qū)的細粒不回落到霧化區(qū)。這防止細粒粘附和由此造成的附聚物形成過程。對于連續(xù)的工藝控制，所述裝置可任選配備一個或多個不同的固體供料系統(tǒng)。由此例如可以將粒子引入工藝中，所述粒子可通過粉碎例如過大顆粒獲得和/或由過小顆粒組成。然后這些粒子用作造粒晶種或用作起始裝料以縮短開工時間。此外，待埋入顆粒中的一種或多種添加劑可以固體形式引入工藝中。此外，所述裝置可配備一個或多個出料元件以便能夠從加工區(qū)取出粒子。這例如可通過至少一個溢流和/或通過至少一個容積出料機構(gòu)進行，其為旋葉部件，研磨/篩分循 環(huán)，或重力分級器如供入分級氣體的之字形分級器或上升管分級器。該出料元件優(yōu)選為研磨/篩分循環(huán)。這里，篩分材料可通過兩個篩根據(jù)細材料、有用材料和粗材料被分離。粗材料可在磨機中研磨之后再輸送至篩分或直接輸送至噴射床裝置的加工區(qū)。在加工區(qū)中可任選安裝一個或多個粉碎部件，但優(yōu)選安裝在回流區(qū)的傾斜側(cè)壁上，以通過粉碎產(chǎn)生足夠細的材料作為用于造粒工藝的晶種。此外，可任選使用一個或多個回流區(qū)對每種情況下一個或多個加熱器和/或其他傳熱部件進行定位。例如，所述裝置壁可設(shè)計成夾套式，以便其例如在利用液體或氣體傳熱介質(zhì)的情況下用來加熱或冷卻所述壁。由此可獲得最佳表面溫度以避免例如產(chǎn)物沉積。在加工區(qū)中或在位于其上方的裝置部分-膨脹區(qū)和輸出氣體部分-中，可任選設(shè)置一個或多個噴嘴，其優(yōu)選向上噴淋，但也可部分向上噴淋。這里，除了通過噴嘴霧化外或代替通過噴嘴霧化，還可噴入噴霧液，例如通過在所述裝置中噴霧干燥/噴霧固化，以得到造粒晶種，尤其是在初始階段。或者，可通過部分噴淋部件噴入呈有機或無機涂布劑(尤其是隔離劑)形式的添加劑或呈液體形式的其他組分并由此(至少基本上)被均勻地埋入顆粒結(jié)構(gòu)中。如果噴嘴經(jīng)過被加熱的輸入空氣腔，則液體輸送部分可任選配備隔熱材料或者一個或多個不同的冷卻或加熱系統(tǒng)，以防止對液體配制劑造成損壞。所用噴嘴優(yōu)選為雙流體噴嘴，其中同時噴入氣體和噴霧液。壓力可為至少I. I巴，優(yōu)選至少2. 0巴，特別優(yōu)選至少2.5巴，尤其是至少3.0巴。雙料(two-component)噴嘴是有利的，因為它們允許更高的固含量和更高的噴霧液粘度并可由此得到更高通過量。特別是在含分散劑噴霧液的情況下，這是有利的，因為分散劑增加粘度。含農(nóng)藥噴霧液包含至少一種呈溶解、懸浮、乳化和/或熔融形式的農(nóng)藥。所述農(nóng)藥優(yōu)選以溶解、懸浮或乳化形式，尤其是以懸浮或溶解形式存在于噴霧液中。所述噴霧液可包含溶劑如水。所述噴霧液的粘度在20° C下可為至多5000mPas，優(yōu)選至多2500mPas。含農(nóng)藥噴霧液優(yōu)選具有至少20重量％，優(yōu)選至少30重量％，尤其是至少40重量％的固含量。固含量的上限通過噴霧液粘度調(diào)節(jié)，其應(yīng)為仍可泵送的。因此，噴霧液可具有至多70重量％，優(yōu)選至多65重量％，尤其是至多60重量％的固含量。噴霧液在大多數(shù)情況下包含至少I重量％,優(yōu)選至少5重量％，尤其是至少10重量％農(nóng)藥。噴霧液在大多數(shù)情況下包含至少5重量％，優(yōu)選至少12重量％，尤其是至少18重量％分散劑。含農(nóng)藥噴霧液優(yōu)選包含至少一種分散劑。所述分散劑優(yōu)選為陰離子表面活性劑。合適的分散劑例如為來自磺酸鹽、硫酸鹽、磷酸鹽或羧酸鹽的堿金屬、堿土金屬或銨鹽?；撬猁}的實例為烷基芳基磺酸鹽、二苯基磺酸鹽、a -烯烴磺酸鹽、木素磺酸鹽、脂肪酸和油的磺酸鹽、乙氧基化烷基酚的磺酸鹽、縮合萘的磺酸鹽、十二烷基和十三烷基苯的磺酸鹽、萘和烷基萘的磺酸鹽、磺基琥珀酸鹽或磺基琥珀酰胺酸鹽。硫酸鹽的實例為脂肪酸和油的硫酸鹽、乙氧基化烷基酚的硫酸鹽、醇的硫酸鹽、乙氧基化醇的硫酸鹽或脂肪酸酯的硫酸鹽。磷酸鹽的實例為磷酸鹽的酯。羧酸鹽的實例為烷基羧酸鹽和羧化醇或烷基酚乙氧基化物。特別優(yōu)選磺酸鹽的堿金屬、堿土金屬或銨鹽，特別優(yōu)選木素磺酸鹽(例如木素磺酸鈉)和縮合萘 的磺酸鹽(例如萘磺酸鹽-甲醛縮聚物的鈉鹽)。所述顆粒優(yōu)選包含至少兩種分散劑。所述顆粒包含通常5-70重量％，優(yōu)選10-50重量％，尤其是20_45重量％分散劑?？烧{(diào)節(jié)噴霧液的濃度，應(yīng)使得在所述顆粒中達到所需濃度。術(shù)語農(nóng)藥涉及至少一種選自殺真菌劑、殺蟲劑、殺線蟲劑、除草劑、安全劑和/或生長調(diào)節(jié)劑的活性成分。優(yōu)選的農(nóng)藥為殺真菌劑、殺蟲劑、除草劑和生長調(diào)節(jié)劑。也可使用來自兩種或更多種上述類別的農(nóng)藥的混合物。本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員熟悉該類農(nóng)藥，其例如可在 Pesticide Manual,第 14 版(2006), The British Crop Protection Council, London中找到。合適的殺真菌劑為A)嗜球果傘素類臆卩密菌酯(azoxystrobin)、醚菌胺(dimoxystrobin)、烯月虧菌酯(enestroburin)、氟喃菌酯(fluoxastrobin)、亞胺菌(kresoxim-methyl)、叉氨苯酸胺(metominostrobin)、月虧醚菌胺(orysastrobin)、唳氧菌酯(picoxystrobin)、唑菌胺酯、唑胺菌酯(pyrametostrobin)、口坐菌酉旨(pyraoxystrobin)、pyribencarb、月虧菌酉旨(trifloxystrobin)、2~[鄰_((2，5- 二甲基苯氧基亞甲基)苯基)-3_甲氧基丙烯酸甲酯、2-(2-(3-(2，6- 二氯苯基)-1-甲基亞烯丙基氨基氧甲基)苯基)-2-甲氧亞氨基-N-甲基乙酰胺；B)羧酰胺類-羧酰苯胺類苯霜靈(benalaxyl)、精苯霜靈(benalaxyl_M)、麥銹靈(benodanil)、bixafen、卩定酸菌胺(boscalid)、萎鎊靈(carboxin)、呋菌胺(fenfuram) >環(huán)酸菌胺(fenhexamid)、氟酸胺(fIutolaniI)、呋卩比唑靈(furametpyr)、isopyrazam、異噻菌胺(isotianil)、kiralaxyl、丙氧滅繡胺(mepronil)、甲霜靈(metalaxyl)、精甲霜靈(metalaxyl-M) (mefenoxam)、甲呋酰胺(ofurace) 霜靈(oxadixyl)、氧化萎銹靈(oxycarboxin)、戍苯批菌胺(penflufen) (N_ (2-(1, 3-二甲基丁基)苯基)-1,3-二甲基-5-氟-IH-卩比唑-4-甲酰胺)、卩比噻菌胺(penthiopyrad)、sedaxane、葉枯酞(tecloftalam)、溴氟唑菌(thifIuzamide)、噻酸菌胺(tiadinil)、2_ 氨基 _4_ 甲基噻唑-5-甲酰苯胺、N-(3’，4’，5’-三氟聯(lián)苯-2-基)-3-二氟甲基-I-甲基-IH-吡唑-4-甲酰胺、N-(4’_三氟甲硫基聯(lián)苯-2-基)-3-二氟甲基-I-甲基-IH-吡唑-4-甲酰胺、N-(2-(l，3，3-三甲基丁基)苯基)-1,3-二甲基-5-氟-IH-吡唑-4-甲酰胺；-羧酸嗎啉化物烯酰嗎啉(dimethomorph)、氟嗎啉(flumorph)、丁卩比嗎啉(pyrimorph)；-苯甲酰胺類氟聯(lián)苯菌(fIumetover)、氟卩比菌胺(fIuopicolide)、氟卩比菌酰胺(fluopyram)、苯酉先菌胺(zoxamid)；-其他羧酰胺類氯環(huán)丙酰胺(carpropamid)、雙氯氰菌胺(diclocymet)、雙炔酰細卽,(HdJOEaPOP)賦細卽,(q&oeTPIT3)鋈卽稍frH -9Oi-稍遯^+ 銶鋈卽 I 〔8 寸Os(IIUOSdUaJ)迕志&, (TTgXOIPnIJ)ftfkM: I 〔卜寸00〕(auJJOJIJP)賦贓修銶修嚳-〔9寸Os(IJUm^iJJAd) - J #^M,(UJJAdT3su)収科域，(EJJAdJUedI)^^#,(auozeJJaJ)sl #,(IOST-^§J) #^,(eTJO+JmIJTP)肴滅 H , (IIUJPOJdA。)盤#E ,(PITJTdnq)賦細#鵝=銶盤#I 〔9 寸Os^ 盤習〔稍 I igs^r^^frH-c ^lssfr lslgVc,盤習〔稍 I 遯勃難r咪稍frM -C <-(稍掛M-寸YLOVC, (XOUSJAd)靼竭盤，(EmIJSnIJ)鍇盤滅銶盤習 I 〔寸寸 Os
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鏑勃N^,(IO§UI*rHpp*lHt)勸 0 勃 V (UOJI*rHpp*rHt)匾勃川，(3I0SU03SPS) 0HM, (eI-Hosusnq 芑)觀 0 貧，(eI-Hosuselufs)勃Mtg, (^ozpusofl^ojd) 0 00E, (eI-Hozpu8*rHdoJd)st^M , (eI-Hozpu8§d)S悔貧,(I-HozspnqoI-Hopd)S轅餓,01-Hozcduooodxo , (I-H*rHucdpnqofohlu) 0 0 , (oI-Hozcduoopolu) ft S , (OIOZcduood*rH)姊S 勃駕汝,(eI-H〇zmI8§q*rHlu*rH)S0 0 , (eI-Hiu 目 J 勸S[TJ, QOJjtnI-HJ)勸S_ ,(① IOS=SnIJ)S型M, (aJ0zm!8UJnbnIJ)匾細勃#, (aJOSU8nq§J)S掛fig, (aJ0ZT3u8JX0da)細slBf,(〒aJOZT3uo3JUIP)s S裝,(eJOSU8JUJP) S裝，(3I0SU80USP)勃 0 ,(① I0SU80JS。)勸勃 , (0 J OZmIOCmEOJq)S0 繼，(IOUTnJfnIq) lgs川掛釤，(3I0ZT3U8T3ZT3)勃氐川-〔6eos
銶勃G 〔Si〕-ifr(稍-c-盤習-S-N , (IJOT^TTs)鍇細響型，(3UJPA;mI+Ja^xo)*lt:p, (PjlOJdJPUI) Wfi
罔 h/lo< 898藝 ZST Zo(fenoxanil)、滅菌丹(folpet)、惡喹酸(oxolinic acid)、粉病靈(piperalin)、丙氧喹啉(proquinazid)、咯喹酮(pyroquilon)、喹氧靈(quinoxyfen)、唑菌嗪(triazoxide)、三環(huán)唑(tricyclazole)、2_ 丁氧基_6_碘_3_丙基苯并批喃-4-酮、5_氯_1_ (4，6_ 二甲氧基啼啶-2-基)-2-甲基-IH-苯并咪唑、5-氯-7- (4-甲基哌啶-I-基)-6- (2，4，6-三氟苯基)[1，2，4]三唑并[1，5-a]嘧啶、5-乙基-6-辛基[1，2，4]三唑并[1，5_a]嘧啶_7_基胺；E)氨基甲酸鹽類和二硫代氨基甲酸鹽類-硫代-和二硫代氨基甲酸鹽福美鐵(ferbam)、代森猛鋅(mancozeb)、代森猛(maneb)、威百畝(metam)、磺菌威(methasulphocarb)、代森聯(lián)(metiram)、甲基代森鋅(propineb)、福美雙(thiram)、代森鋅(zineb)、福美鋅(ziram)；-氛基甲酸鹽乙霉威(diethofencarb)、苯嚷菌胺(benthiavalicarb)、異丙菌胺(iprovalicarb)、百維靈(propamocarb)、霜霉威鹽酸鹽(propamocarbhydrochloride)、valiphenal、N-(l-(l-(4-氰基苯基)乙磺?；?丁 _2_基)氨基甲酸4_氟苯基酯； F)其他殺真菌劑-胍類多果定(dodine)、多果定游離堿、雙胍鹽(guazatin)、雙胍辛胺(guazatin acetate)、雙狐辛醋酸鹽(iminoctadine)、雙狐辛胺三乙酸鹽(iminoctadinetriacetate)、雙八狐鹽(iminoctadine tris (albesilate))；-抗生素類春雷素(kasugamycin)、水合春雷素(kasugamycinhydrochloridehydrate)、多氧霉素(polyoxins)、鏈霉素(streptomycin)、井網(wǎng)霉素(validamycin A)；-硝基苯基衍生物樂殺螨(binapacryl)、氯硝胺(dicloran)、敵螨通(dinobuton)、敵螨普(dinocap)、異丙消(nitrothal-isopropyl)、四氯硝基苯(tecnazene)；-有機金屬化合物三苯錫基鹽，例如薯痕錫(fentinacetate)、三苯錫氯(fentin chloride)、毒菌錫(fentin hydroxide)；-含硫雜環(huán)化合物二噻農(nóng)(dithianon)、稻痕靈(isoprothiolane)；-有機磷化合物克痕散(edifenphos)、藻菌磷(fosetyl)、三乙膦酸銀(fosety 1-aluminum)、異稻痕凈(iprobenfos)、亞磷酸及其鹽如膦酸氫媽、定菌磷(pyrazophos)、甲基立枯憐(tolclofos-methyl)；-有機氯化合物百菌清(chlorothalonil)、抑菌靈(dichlofIuanid)、雙氯酷(dichlorphen)、磺菌胺(fIusulfamide)、六氯苯(hexachlorobenzene)、戊菌隆(pencycuron)、五氯酷(pentachlorophenol)及其鹽、四氯苯酞(phthalide)、五氯硝基苯(quintozene)、甲基托布津(thiophanate-methyl)、對甲抑菌靈(tolylfIuanid)、N- (4-氯-2-硝基苯基)-N-乙基-4-甲基苯磺酰胺；-無機活性成分亞磷酸及其鹽、波爾多液(Bordeaux混合物)、銅鹽如醋酸銅、氫氧化銅、王銅(copper oxychloride)、堿式硫酸銅、硫；-其他聯(lián)苯、拌棉醇(bronopol)、環(huán)氟菌胺(cyfIufenamid)、清菌脲(cymoxanil)、二苯胺、苯菌酮(metrafenone)、米多霉素(mildiomycin)、喹啉銅(oxine-copper)、調(diào)環(huán)酸 I丐(prohexadione-calcium)、螺巧悉茂胺(spiroxamine)、對甲抑菌靈、N-(環(huán)丙基甲氧亞氨基-(6-二氟甲氧基-2，3-二氟苯基)甲基)-2-苯基乙酰胺、N’-(4-(4-氯-3-三氟甲基苯氧基)-2，5-二甲基苯基)-N-乙基-N-甲基甲脒、N’-(4-(4-氟-3-三氟甲基苯氧基)-2，5-二甲基苯基)-N-乙基-N-甲基甲脒、N’-(2-甲基-5-三氟甲基-4-(3-三甲基硅烷基丙氧基)苯基)-N-乙基-N-甲基甲脒、N’-(5-二氟甲基-2-甲基-4-(3-三甲基硅烷基丙氧基)苯基)-N-乙基-N-甲基甲脒、2-{1-[2-(5-甲基-3-三氟甲基吡唑-I-基)乙酰基]哌啶_4-基}噻唑-4-甲酸甲基-(1，2，3，4-四氫萘-I-基)酰胺、2-{1-[2-(5_甲基-3-三氟甲基吡唑-I-基)乙?；鵠哌啶-4-基}噻唑-4-甲酸甲基-(R)-l，2，3，4-四氫萘-I-基酰胺、乙酸6-叔丁基-8-氟-2，3-二甲基喹啉-4-基酯、甲氧基乙酸6-叔丁基-8-氟-2，3-二甲基喹啉-4-基酯、N-甲基-2-{l-[2-(5-甲基-3-三氟甲基-IH-吡唑-I-基)乙?；鵠哌啶-4-基}-N-[(IR)-1，2，3，4-四氫萘-I-基]-4-噻唑甲酰胺。合適的生長調(diào)節(jié)劑為脫落酸(abscisicacid)、先甲草胺(amidochlor)、啼 P定醇(ancymidol)、節(jié)胺基票呤(6-benzylaminopurine)、油菜素內(nèi)酯(brassinolide)、地樂胺(butralin)、 矮壯素陽離子(chlormequat)(矮壯素(chlormequat chloride))、氯化膽堿(cholinechloride)、環(huán)丙酸酰胺(cyclanilide)、丁酰肼(daminozide)、敵草克(dikegulac)、噻節(jié)因(dimethipin)、2，6- 二甲基卩比卩定(2，6-dimethylpuridine)、乙烯利(ethephon)、抑芽敏(flumetralin)、呋啼醇(flurprimidol) ^ 達草氟(fIuthiacet)、調(diào)卩比脲(forchlorfenuron)、九二 0(gibberellic acid)、抗倒胺(inabenfid)、口引哚 _3_ 乙酸、抑芽丹(maleichydrazide)、氟草磺(mef Iuidide)、助壯素陽離子(mepiquat)(助壯素(mepiquat chloride))、環(huán)戊唑菌、萘乙酸、N_6_節(jié)基腺票呤、多效唑、調(diào)環(huán)酸(prohexadione)(調(diào)環(huán)酸I丐)、茉莉酸丙酯(prohydro jasmon)、賽二唑素(thidiazuron)、抑芽唑(triapenthenol)、脫葉憐(tributyIphosphorotrithioate)、2，3，5_ 三碘苯甲酸、抗倒酯(trinexapac-ethyl)和烯效唑。合適的除草劑為-乙酰胺類乙草胺(acetochlor)、甲草胺(alachlor)、丁草胺(butachlor)、克草胺(dimethachlor)、噻吩草胺(dimethenamid)、氟噻草胺(fIufenacet)、苯噻草胺(mefenacet)、異丙甲草胺(metolachlor)、卩比草胺(metazachlor)、草萘胺(napropamide)、萘丙胺(naproanilide)、烯草胺(pethoxamid)、丙草胺(pretilachlor)、撲草胺(propachlor)、噻醚草胺(thenylchlor) 氨基酸類似物雙丙氨酰膦(bilanafos)、草甘膦(glyphosate)、草銨膦(glufosinate)、草硫膦(sulfosate)；-芳氧基苯氧基丙酸酯類炔草酯(clodinafop)、氰氟草酯(cyhalofop-butyl)、唑禾草靈(fenoxaprop)、卩比氟禾草靈(fluazifop)、卩比氟氯禾靈(haloxyfop)、惡唑酰草
胺(metamifop)、喔草酯(propaquizafop)、喹禾靈(quizalofop)、喹禾靈(四氫糠基酯)(quizalofop-P-tefuryl)；-聯(lián)吡啶類敵草快陽離子(diquat)、對草快陽離子(paraquat)；-氨基甲酸酯類和硫代氨基甲酸酯類黃草靈(asulam)、蘇達滅(butylate)、長殺草(carbetamide)、異苯敵草(desmedipham)、哌草丹(dimepiperate)、撲草滅(eptam) (EPTC)、禾草畏(esprocarb)、草達滅(molinate)、坪草丹(orbencarb)、苯敵草(phenmedipham)、節(jié)草丹(prosulfocarb)、稗草畏(pyributicarb)、殺草丹(thiobencarb)、野麥畏(triallate)；
-環(huán)己二酮類丁氧環(huán)酮(butroxydim)、烯草酮(clethodim)、噻草酮 (cycloxydim)、環(huán)苯草酮(profoxydim)、稀禾定(sethoxydim)、醌月虧草(tepraloxydim)、月虧 草酮(tralkoxydim)；_ 二硝基苯胺類氟草胺(benfluralin)、丁氟消草(ethalfluralin)、黃草消 (oryzalin)、胺硝草(pendimethalin)、氨基丙氟靈(prodiamine)、氟樂靈(trifluralin)；-二苯基醚類氟鎖草醚(acifluorfen)、苯草醚(aclonifen)、治草醚(bifenox)、 氯甲草(diclofop)、氯氟草醚(ethoxyfen)、氟黃胺草醚(fomesafen)、乳氟禾草靈 (lactofen)、乙氧氟草醚(oxyf luorfen)；-輕基節(jié)腈類溴苯腈(bromoxynil)、敵草腈(dichlobenil)、碘苯腈(ioxynil)；-咪唑啉酮類咪草酯(imazamethabenz)、咪草卩定酸(imazamox)、甲基咪草煙 (imazapic)、滅草煙(imazapyr)、滅草喹(imazaquin)、咪草煙(imazethapyr)；-苯氧基乙酸類稗草胺(clom印ix)p)、2，4-二氯苯氧基乙酸(2，4-D)、2，4-DB、 2，4-滴丙酸(dichlorprop)、MCPA、2 甲 4 氯乙硫酯(MCPA-thioethyl)、MCPB、2 甲 4 氯丙酸 (mecoprop)；-卩比嗪類殺草敏(chloridazon)、氟_嗪草酯(flufenpyr-ethyl)、達草氟、達草 滅(norflurazon)、達草止(pyridate)；_卩比卩定類氨草唳(aminopyralid)、二氯皮考啉酸(clopyralid)、卩比氟草胺 (diflufenican)、氟硫草定(dithiopyr)、氟草同(fluridone)、氟草煙(fluroxypyr)、毒莠 定(picloram)、氟卩比酰草胺(picolinafen)、噻氟卩定草(thiazopyr)；-磺酰脲類磺氨黃隆(amidosulfuron)、四唑黃隆(azimsulfuron)、節(jié)啼黃 隆(bensulfuron)、氯啼黃隆(chlorimuron-ethyl)、綠黃隆(chlorsulfuron)、醚黃隆 (cinosulfuron)、環(huán)丙黃隆(cyclosulfamuron)、乙氧啼黃隆(ethoxysulfuron)、P定啼 黃隆(flazasulfuron)、氟卩比橫隆(f lucetosulfuron)、氟卩定黃隆(f lupyrsulfuron)、酉先 胺橫隆(foramsulfuron)、卩比氯黃隆(halosulfuron)、卩定咪黃隆(imazosulfuron)、甲基 碘橫隆(iodosulfuron)、甲橫胺橫隆(mesosulfuron)、甲黃隆(metsulfuron-methyl)、 煙啼黃隆(nicosulfuron)、環(huán)丙氧黃隆(oxasulfuron)、氟啼黃隆(primisulfuron)、 氟丙黃隆(prosulfuron)、卩比啼黃隆(pyrazosulfuron)、玉啼黃隆(rimsulfuron)、啼 黃隆(sulfometuron)、乙黃黃隆(sulfosulfuron)、噻黃隆(thifensulfuron)、醚苯黃 隆(triasulfuron)、苯黃隆(tribenuron)、三氟卩定磺隆(trif loxysulfuron)、氟胺磺隆 (triflusulfuron)、三氟甲橫隆(tritosulfuron)、1_((2_ 氯-6-丙基咪唑并[l，2_b] PJi 嗪-3-基)磺酰基)-3-(4，6-二甲氧基嘧啶-2-基)脲；-三嗪類莠滅凈(ametryn)、莠去津(atrazine)、草凈津(cyanazine)、戊草津 (dimethametryn)、乙嗪草酮(ethiozine)、六嗪同(hexazinone)、苯嗪草(metamitron)、賽 克津(metribuzin)、撲草凈(prometryn)、西瑪津(simazine)、特丁津(terbuthylazine)、 去草凈(terbutryn)、苯氧丙胺津(triaziflam)；-脲類綠麥隆(chlorotoluron)、香草隆(daimuron)、敵草隆(diuron)、 伏草隆(fluometuron)、異丙隆(isoproturon)、利谷隆(linuron)、噻唑隆 (methabenzthiazuron)、丁唑隆(tebuthiuron)；_其他乙酰乳酸合成酶抑制劑雙草醚鈉鹽(bispyribac-sodium)、氯酯磺草胺(cloransulam-methyl)、唑啼磺胺(diclosulam)、雙氟橫草胺(f Iorasulam)、氟酮磺隆(f Iucarbazone)、氟唑卩定草(f Iumetsulam)、唑草磺胺(metosulam)、啼苯胺橫隆(ortho-sulfamuron)、五氟石黃草胺(penoxsulam)、丙苯石黃隆(propoxycarbazone)、丙酉旨草醚(pyribambenz-propyl)、啼苯草月虧(pyribenzoxim)、環(huán)酯草醚(pyriftalide)、月虧卩定草(pyriminobac-methyl)、pyrimisulfan、啼硫苯甲酸(pyrithiobac)、pyroxasulfone、甲氧磺草胺(pyroxsulam)；-其他胺唑草酮(amicarbazone)、三唑胺(aminotriazole)、莎稗憐(anilofos)、氟丁酉先草胺(beflubutamid)、草除靈(benazolin)、bencarbazone、呋草黃(benfuresate)、卩比草酮(benzofenap)、噻草平(bentazone)、苯并雙環(huán)酮(benzobicyclon)、除草定(bromacil)、溴丁 酰草胺(bromobutide)、氟丙啼草酯(butafenacil)、草胺憐(butamifos)、胺草唑(cafenstrole)、氟酮唑草(carfentrazone)、口引哚酮草酯(cinidon-ethlyl)、敵草索(chlorthal)、環(huán)庚草醚(cinmethylin)、異惡草酮(clomazone)、節(jié)草隆(cumyluron)、cyprosulfamide、麥草畏(dicamba)、苯敵快 (difenzoquat)、二氟卩比隆(diflufenzopyr)、稗內(nèi)胳螺抱菌(Drechslera monoceras)、敵草臆(endothal)、乙呋草黃(ethofumesate)、乙苯酸草(etobenzanid)、四唑酸草胺(fentrazamide)、氟烯草酸(flumiclorac-pentyl)、氟嗪酮(fIumioxazin)、胺草唑(f Iupoxam)、氟咯草酮(f Iuorochloridone)、呋草酮(f Iurtamone)、節(jié)草酮(indanofan)、異惡草胺(isoxaben)、異氟草(isoxaflutole)、環(huán)草定(Ienacil)、舌夂稗(propanil)、拿草特(propyzamide)、二氯喹啉酸(quinclorac)、喹草酸(quinmerac)、硝草酮(mesotrione)、甲胖酸(methylarsenic acid)、抑草生(naptalam)、塊丙
唑草(oxadiargyl)、惡草靈(oxadiazon)、氯嗪草(oxaziclomefone)、戊
唑草(pentoxazone)、唑啉草酯(pinoxaden)、雙唑草臆(pyraclonil)、卩比草醚(pyraflufen-ethyl)、pyrasulfotol、節(jié)草唑(pyrazoxyfen)、P比唑特(pyrazolynat)、滅藻醌(quinoclamine)、啼卩定月虧草醚(saf Iufenacil)、橫草酮(sulcotrione)、橫胺草唑(sulfentrazone)、特草定(terbacil)、tefuryltrione、tembotrione、thiencarbazone、topramezone、4-輕基-3-[2_(2-甲氧基乙氧基甲基)_6_三氟甲基卩比卩定_3_羰基]雙環(huán)[3. 2. I]辛-3-烯-2-酮、(3-[2-氯-4-氟-5- (3-甲基 _2，6- 二氧代 _4_三氟甲基-3，6- 二氫-2H-嘧啶-I-基)苯氧基]吡啶-2-基氧基)乙酸乙酯、6-氨基-5-氯-2-環(huán)丙基嘧P定-4-甲酸甲酯、6-氯-3-(2-環(huán)丙基-6-甲基苯氧基)_嗪-4-醇、4-氨基-3-氯-6-(4-氯苯基)-5-氟吡啶-2-甲酸、4-氨基-3-氯-6-(4-氯-2-氟-3-甲氧基苯基)吡啶-2-甲酸甲酯和4-氨基-3-氯-6-(4-氯-3- 二甲基氨基-2-氟苯基)吡啶-2-甲酸甲酯。合適的殺蟲劑為-有機(硫代)磷酸酯高滅磷(acephate)、唑卩定磷(azamethiphos)、谷硫憐(azinphos-methyl)、毒死蜱(chlorpyrifos)、甲基毒死蜱(chlorpyrifos-methyl)、毒蟲畏(chlorfenvinphos)、二嗪農(nóng)(diazinon)、敵敵畏(dichlorvos)、百治憐(dicrotophos)、樂果(dimethoate)、乙拌憐(disulfoton)、乙硫憐(ethion)、殺螟松(fenitrothion)、倍硫憐(fenthion)、異唑憐(isoxathion)、馬拉硫憐(malathion)、甲胺憐(methamidophos)、殺撲憐(methidathion)、甲基對硫憐(methyl-parathion)、速滅憐(mevinphos)、久效憐(monocrotophos)、諷吸憐(oxydemeton-methyl)、對氧RVl \2 Fln \c J h h C CHHh -L±±、y \5C / TFVj RVi \2 Fln \c J HHC-hc CHHh -L±±、y J1/ TFr RVl \2 Fln \c J CHHh -L±±、y
鯫 ■ I 雕(OSermethrin), ￥ 甚 _ I 雕 ,^甚鯫齊■蹈雕(beta-cypermethrin) > S 甚M 織廳(Neta-CyPermethrin) >滿 織 f 雕e^r+旨 0$『|口) >
- ^^r麗 | 雕(①r+ci§p3xr, _g雕(i§p3pathrinr^^
0 蹈雕(fenvalerate) > 粟寒■廳(I 曰Ip3thrin) > 鯫麯 ■ f 雕^^口) >濟■蹈雕(Permethrin) > 寒園■廳(Prallethrin) >#& (Pyrethrin) I^Ir^^0 (resmethrin) > ^ &甜麗(silaf Iuofen).麯猜 _ 蹈雕(tau-f luvalinate) >rv00 蹈雕(tef luthrin) >猜 蹈雕(tetramethrin) >0滿 蹈雕(tralomethrin) > H 麯■蹈雕(transf luthrinra戮 f 雕(p3fH-*uthrinrH戮,麗 f 雕(&曰①2口) ^
〔009SIP奸旰汴笤產(chǎn)窆巴；17^鈽傘鉺笤產(chǎn)^:謝￥繫蕹滌沛&舔(chlorfluazuronr^M 猜(cyramaz iner戮 ^(dif lubenzuronr0S (flucycloxuronr戮& (f lufensuronr戮 I知(hexaf lumuronr戮ait (IUfenUrOn) > ^賛 M (novaluron) >^&^(tef Iubenzuron) >^&^(trif Iumuron)；0 0 園(buprofezin) > 0 麗(diofenolan) > SSM (hexythiazox) >#謝 0(etoxazolerHs#(^cfgssh-1*口①)&)霖兩簿 流^逢#M講 (halofenozider￥ 講 (methoxyfenozider^^s^(tebufenoziderMJLM(azadirachtin);C)菊浮簿 ^競?cè)佚R贏麗(pyriproxyfenr*w丨W(methoprener^ ^;d)E端味蓉^ 產(chǎn)逢藏S廳(名7。&^。力§),藏,S廳(MPM*3 曰 esifen),藏&[N 雕(SPirOtetramate)；
〔0091U 丨途E蝴甚簿咎逢/ 流郭逢@&猜^目I&口r &^(&§f^^§rPtt& (imidacloprid) > & (r+n 旨 040 曰)乂^猜識S(nitenpyram) 乂 Dtt&M(acetamiprid) > &署(thiacloprid) 二 I (2- 0 _ 0 -51^,^)-2-^s^ 附(nitrimino)-3, 5丨.^, 〔I, 3, 5U ⑴ S5(triazinane)；
〔0092〕 IGABAaf郭逢薪?jīng)Q(end〇slfanr[N&*(ethiproler^si!雄(ilp3 口lH-*r賛 fllttm^(VaniliPrOle)) pyraf luprole > pyripr〇le>5l^ -1-(2, 6丨 hM丄 I 講S )-4-崗) (SUlfnamOyl)-IH- pit 13- , 猜 ^
〔0093U I H^廳別鐘s (abamectinr,M_ISJ^_ (emamectinr^^s (milbemectin) > Iepimecti ^掛^105 (SPinOSad) > ZJ_^辦爾 (SPinetOram);
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-線粒體電子傳輸鏈抑制劑(METI)I殺螨劑喹螨醚(fenazaquin)、咕螨酮(pyridaben)、卩比螨胺(tebufenpyrad)、唑蟲酸胺(tolfenpyrad)、卩密蟲胺(flufenerim)；-METI II 和 III 物質(zhì)滅螨醌(acequinocyl)、fluacyprim、滅蟻腙(hydramethylnon)；-分離劑氟唑蟲清(chlorfenapyr)；-氧化磷酸化抑制劑三環(huán)錫(cyhexatin)、殺螨硫隆(diafenthiuron)、殺螨錫(fenbutatin oxide)、克螨特(propargite)；-昆蟲脫皮(molting)抑制劑滅蜆胺(cryomazine)；-混合功能氧化酶抑制劑增效醚(piperonylbutoxide)；-鈉通道阻斷劑:嗔二挫蟲(indoxacarb)、氰氟蟲胺(metaflumizone)；
-其他benclothiaz、聯(lián)苯肼酯(bifenazate)、殺螟丹(cartap)、氟唳蟲酰胺(fIonicamid)、唳蟲丙醚(pyridalyl)、拒嗪酮(pymetrozin)、硫、硫環(huán)殺(thiocyclam)、氟蟲酸胺(flubendiamide)、氯蟲酸胺(chlorantraniliprole)、cyazypyr (HGW86)、cyenopyrafen> 批氣硫憐(fIupyrazofos)、丁氣蝴酉旨(cyflumetofen)、amidofIumet>imicyafos、雙三氟蟲服(bistrifIuron)和 pyrifluquinazon。優(yōu)選的農(nóng)藥為甲體氯氰菊酯、ametoctradin、噻草平、苯噻菌胺(benthiavalicarb-isopropyl)、唳酰菌胺、膦酸氫|丐、多菌靈、殺草敏、百菌清、H引哚酮草酯、環(huán)丙黃隆、清菌脲、麥草畏、二氟吡隆、烯酰嗎啉、醚菌胺、二噻農(nóng)、敵草隆、銳勁特、喹唑菌酮、滅菌丹、三乙膦酸鋁、咪草啶酸、甲基咪草煙、滅草煙、咪草煙、異丙定、異丙隆、雙苯嗔唑酸(isoxadifen-ethyl)、亞胺菌、代森猛鋅、高2甲4氯丙酸鉀(mecoprop-P)、助壯素、代森聯(lián)、腈菌唑、煙嘧黃隆、氟吡酰草胺、環(huán)苯草酮、調(diào)環(huán)酸鈣、丙苯磺隆鈉(propoxycarbazone-sodium)、唑菌胺酯、二氯喹啉酸、卩密唳廂草醚、乙黃黃隆、硫、卩比螨胺、福美雙、三氟甲黃隆或烯菌酮。特別優(yōu)選的農(nóng)藥為啶酰菌胺和唑菌胺酯，尤其是啶酰菌胺。顆粒可包含1-99重量％，優(yōu)選20-80重量％，特別優(yōu)選30_70重量％，尤其是40_70重量％農(nóng)藥。可調(diào)節(jié)噴霧液的濃度，應(yīng)使得在所述顆粒中達到所需濃度。本發(fā)明還涉及可通過本發(fā)明方法獲得的包含農(nóng)藥的顆粒，其中所述顆粒具有至少0. 85，優(yōu)選至少0. 88，特別優(yōu)選至少0. 90，尤其是至少0. 94的圓度。所述顆粒優(yōu)選通過本發(fā)明方法獲得。圓度描述了粒子圖像的面積(A)與圓周⑶之比。圓度(R)由R=4jiA/U2計算。根據(jù)該公式，球形粒子具有接近I的圓度，而鋸齒形的不規(guī)則粒子圖像具有接近0的圓度。圓度可借助自動化圖像分析技術(shù)如使用來自Retsch Technology的光學粒子測量系統(tǒng)CAMSIZER 測量，其允許借助數(shù)字圖像分析來同時測量粒度和粒子形狀(例如圓度)。粒度分布D50為50-5000 iim，優(yōu)選100-1000 iim。其可借助數(shù)字圖像處理如使用來自 Retsch Technology 的Camsizei*丨*'測量。相比于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明提供許多優(yōu)點在試驗中，噴射床方法相比于類似流化床方法具有顯著更高的工藝穩(wěn)定性，即各參數(shù)可在不損壞造粒工藝下改變或優(yōu)化。形成具有高的堆密度的非常密實顆粒。所述顆粒為球狀的，相比于來自流化床方法的頗具附聚物狀的顆粒。球狀使得顆粒明顯更抗磨且基本上無塵。此外，它們顯示出更好的傾倒性且具有更恒定的堆密度，由此顯著簡化可計量性(dosability)。甚至熱敏性農(nóng)藥如唑菌胺酯也可在不受熱損壞下造粒。生產(chǎn)率(每單位時間的顆粒kg數(shù))顯著高于流化床方法。這可能是由于固含量和噴霧液流速提高、輸入空氣溫度提高和/或輸入空氣體積流速提高。以下實施例闡述本發(fā)明，但不限制本發(fā)明。
實施例裝置和方法所有試驗在來自Glatt Ingenieurtechnik GmbH(Weimar)的實驗室設(shè)備 ProCell5上進行。噴射床插件“ProCell”和標準流化床插件“GF”可市購。GF插件為具有三個可能噴嘴設(shè)置的略微呈圓錐形的流化床插件。這里，可由上方、下方和通過底部進行噴霧。此夕卜，可安裝有Wurster管和具有相應(yīng)孔眼的底部。在ProCell噴射流化床插件的情況下，兩個平行空氣縫隙位于矩形給料器的底面上。噴嘴設(shè)置于這些空氣縫隙中間并由下方噴霧。存在頂部噴霧(topspray)的選擇。使用之字形分級器獲得連續(xù)和分級出料。對于兩種插件，使用來自Diisen-SchlickGmbH(Untersiemau/Coburg)的970S4系列的噴嘴并且噴霧自下而上進行。環(huán)境空氣用作加工氣體且外部壓縮空氣用作分級和噴嘴氣體。溶劑為軟水。在各試驗之前，將設(shè)備預熱到所需的流化床溫度并且啟動所有需要的設(shè)備部件。在引入顆粒的初始進料之后，將輸入空氣溫度和輸入空氣體積流速提高至所需值。提高率在這里限制為lK/min和lm3/h/min的最大值，使得該床可采用新工藝參數(shù)。在這里通過提高懸浮液質(zhì)量料流來使床溫度保持恒定。通過連續(xù)攪拌，呈懸浮液形式的噴霧液沉降得以防止。分析:粒度分布使用來自Retsch Technology GmbH 的CAMSIZER 測量。松散堆密度(loose bulk density)通過在量筒中稱量IOOml松散填充的顆粒來測量。振實堆密度(tamped bulk density)通過使量筒從限定高度處下落20次來測量。根據(jù)CIPAC方法MT-174的分散性按照如下測量在連續(xù)攪拌(300rpm)下，在燒杯中將9g顆粒分散于900ml硬水(19.2°德國硬度)中。在攪拌I分鐘之后，關(guān)閉攪拌器。再過I分鐘之后，從上部抽吸以降至90ml。在70° C下干燥殘余物至恒重。分散性(%)由 111.1*(初始重量-殘余物)/初始重量來計算。在吸出的液體中，固體量=初始重量-殘余物。因為僅90%液體被取出，取出的固體需要外推至100%液體(10/9*90%= 100%);這得到因子I. 111。實施例I具有55重量％固含量的噴霧液由27. 5重量％啶酰菌胺、5. 5重量％硫酸銨、0. 4重量％含硅氧烷消泡劑和22重量％分散劑(兩種磺酸鹽的混合物)在軟水中通過攪拌懸浮液而制備(在20° C下的粘度為215mPas)。相應(yīng)地稀釋具有更低固含量的噴霧液。啶酰菌胺為具有143° C的熔點和6mg/l的水溶性的殺真菌劑。工藝條件列于表I中并且產(chǎn)物分析列于表2中。對比試驗為了對比，將噴霧液在流化床中造粒(“C”，表I)。由CO開始，改變對比試驗的各參數(shù)。輸入空氣溫度從150° C升至170° C導致流化床因附聚的粒子而損壞。當床溫度從75° C降至60° C時,流化床同樣損壞。當輸入空氣的體積流速從120m3/h升至160m3/h時，試驗也需要被終止，因為流化床中粒子向上噴射太遠以致于達到所述裝置的頂殼。當固含量從45重量％升至55重量％時，或當噴霧液流速從58g/min升至230g/min時，流化床同樣損壞。表I:工藝條件
權(quán)利要求
1.一種生產(chǎn)包含農(nóng)藥的顆粒的方法，包括在噴射床裝置的近似圓形氣體/原料料流區(qū)域中將含農(nóng)藥噴霧液噴霧至所述原料的粒子表面，以及在氣體料流中干燥和造粒。
2.根據(jù)權(quán)利要求I的方法，其中所述氣體/原料料流的溫度至多為比所述農(nóng)藥的熔點低 I。C。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2的方法，其中所述噴霧液具有至少20重量％的固含量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項的方法，其中所述噴霧液包含分散劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項的方法，其中所述噴霧液包含至少5重量％的分散劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項的方法，其中所述分散劑為陰離子表面活性劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項的方法，其中所述噴霧液包含消泡劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項的方法，其中所述顆粒包含至少30重量％的農(nóng)藥?！?br> 9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項的方法,其中所述農(nóng)藥為甲體氯氰菊酯、ametoctradin、噻草平、苯噻菌胺、啶酰菌胺、膦酸氫鈣、殺草敏、百菌清、吲哚酮草酯、環(huán)丙黃隆、清菌脲、麥草畏、二氟吡隆、烯酰嗎啉、醚菌胺、二噻農(nóng)、敵草隆、銳勁特、喹唑菌酮、滅菌丹、三乙膦酸鋁、咪草啶酸、甲基咪草煙、滅草煙、咪草煙、異丙定、異丙隆、雙苯惡唑酸、亞胺菌、代森錳鋅、高2甲4氯丙酸鉀、助壯素、代森聯(lián)、腈菌唑、煙嘧黃隆、氟吡酰草胺、環(huán)苯草酮、調(diào)環(huán)酸鈣、丙苯磺隆鈉、唑菌胺酯、二氯喹啉酸、嘧啶肟草醚、乙黃黃隆、硫、吡螨胺、福美雙、三氟甲黃隆或烯菌酮。
10.可通過根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項的方法獲得的包含農(nóng)藥的顆粒，其中所述顆粒具有至少0. 85的圓度。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的顆粒，其中所述農(nóng)藥為啶酰菌胺或唑菌胺酯。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種生產(chǎn)包含農(nóng)藥的顆粒的方法，包括在噴射床裝置的近似圓形氣體/原料料流區(qū)域中將含農(nóng)藥噴霧液噴霧至所述原料的粒子表面，以及在氣體料流中干燥和造粒。本發(fā)明進一步涉及可通過所述方法獲得的包含農(nóng)藥的顆粒，其中所述顆粒具有至少0.85的圓度。
文檔編號A01N25/12GK102724868SQ201080059613
公開日2012年10月10日 申請日期2010年10月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月27日
發(fā)明者A·維爾納, H-M·弗里克, K-H·施奈德, S·布萊 申請人:巴斯夫歐洲公司