專利名稱：防塵薄膜組件框架及防塵薄膜組件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在制造LSI、超LSI等的半導體裝置、印刷基板或液晶顯示板等產 品時作為防塵器使用的光刻用防塵薄膜組件所使用的防塵薄膜組件框架，以及使用該框架 的防塵薄膜組件。
背景技術：
在LSI、超LSI等半導體裝置或者液晶顯示板等產品的制造過程中，會用光照射半 導體晶圓或液晶用原板以制作圖案，如果此時所使用的曝光原版有灰塵附著的話，由于該 灰塵會吸收光，使光反射，除了會讓轉印的圖案變形、使邊緣變粗糙之外，還會使基底污黑， 并損壞尺寸、品質、外觀等。另外，在本發(fā)明中，“曝光原版”是指光掩模等的光刻用掩模(簡 稱“掩?！?以及初縮掩模的總稱。因此，這些操作通常是在無塵室內進行，然而即使如此，想要經常保持曝光原版干 凈仍是相當困難。于是，采用以下方法在曝光原版表面貼合作為防塵器使用且對曝光用光 線的透光性良好的防塵薄膜組件。此時，異物并非直接附著于曝光原版表面上，而是附著于 防塵薄膜組件上，故只要在光刻時將焦點對準曝光原版的圖案，防塵薄膜組件上的異物就 不會對轉印造成影響。一般而言，防塵薄膜組件，是將由具備良好透光性的硝化纖維素、醋酸纖維素或者 氟樹脂等物質所構成的透明防塵薄膜，貼附或接合于由鋁、不銹鋼或聚乙烯等物質所構成 的防塵薄膜組件框架的上端面。然后，在防塵薄膜組件框架的下端設置用來裝設到光掩模 上而由聚丁烯樹脂、聚醋酸乙烯酯樹脂、丙烯酸樹脂或硅氧樹脂等物質所構成的粘著層，以 及以保護粘著層為目的的脫模層(隔離部)。防塵薄膜組件，是以包圍曝光原版表面上所形成的圖案區(qū)域的方式設置。防塵薄 膜組件，是用來防止異物附著于曝光原版上而設置的構件，故能夠隔離該圖案區(qū)域與防塵 薄膜組件外部，使防塵薄膜組件外部的灰塵不會附著到圖案表面上。如上所述，一般而言防塵薄膜是很薄的樹脂，如果想要張設在防塵薄膜組件框架 上而無松弛的部分，則必須在受到適當大小的張力的狀態(tài)下接合于防塵薄膜組件框架上。因此，一般所使用的角型防塵薄膜組件，在貼合防塵薄膜后，防塵薄膜組件框架會 因為防塵薄膜的張力而向內側產生若干彎曲。這個現(xiàn)象，對于在例如印刷基板或液晶顯示 板的制造過程中所使用的大型防塵薄膜組件、防塵薄膜組件框架邊長較大者，或為了減少 防塵薄膜組件貼合后曝光原版的彎曲而采用了剛性較低的框架的防塵薄膜組件中，更為顯-frh-者O另一方面，對于光掩模等曝光原版而言，為了降低成本必須盡可能確保曝光區(qū)域 的范圍大小。因此，若不盡量減少防塵薄膜組件框架向內側的彎曲程度的話，會造成可利用 的曝光區(qū)域減少這個問題。當然，采用擴大防塵薄膜組件框架的剖面積等提高剛性的方法，的確能夠解決相 關問題。但是，實際上，防塵薄膜組件框架的內側存在如上所述的曝光區(qū)域減少的問題，而對外側而言也必須確保在固定或搬運光掩模時的操作間隙。因此，一般而言，防塵薄膜組件 框架的各邊會因為這些限制而被限定成直線形狀。另外，也有使用剛性更高的材質來作為防塵薄膜組件框架的材質的方法，例如當 使用碳纖維復合材料(CFRP)或鈦金屬時，可使彎曲量比一般使用鋁合金者更小。但是，這 些基本材料價格昂貴而且加工性很差，會大幅增加成本，在現(xiàn)實中難以采用。對于這個問題，專利文獻1揭示一種防塵薄膜組件框架，其在框體的至少一對的 邊上，在中央部設置外側凸出的圓弧形狀部，并在其兩側設置外側凹入的圓弧形狀部，更在 其外側設置直線形狀部。另外，專利文獻2揭示一種防塵薄膜組件，包含防塵薄膜O)，其從防塵薄膜(2) 的厚度方向觀察面積在1，OOOcm2以上；以及框架(1)，防塵薄膜( 伴隨著拉伸應力張設 于其上，其特征為該框架(1)包含從該防塵薄膜O)的厚度方向觀察，在單一方向上彼 此相對的相對較短的一對外周圍邊；以及從該防塵薄膜O)的厚度方向觀察，在與該單一 方向垂直的另一方向上，彼此相對的相對較長的一對外周圍邊；在將該防塵薄膜O)張設 于該框架(1)上之前，該相對較長的一對外周圍邊的至少其中一方的外周圍邊，預先以向 外側凸出的方式彎曲，將作為該相對較長的外周圍邊的兩端部的第一點以及第二點以直線 連結所形成的假想直線，與位于該第一點以及該第二地點之間且位于該相對較長的外周圍 邊上的第三地點之間的關系為將該防塵薄膜O)以伴隨著拉伸應力的方式張設于該框架 (1)上，使該第三地點橫切該假想直線而該相對較長的外周圍邊變形并凹入比該假想直線 更靠內側的位置。[現(xiàn)有技術文獻][專利文獻][專利文獻1]日本專利第似86194號公報[專利文獻2]日本專利第40M239號公報

發(fā)明內容
發(fā)明要解決的問題上述專利文獻1所揭示的方法，的確是能夠將防塵薄膜組件框架的形狀在防塵薄 膜張設后仍控制在適當形狀的優(yōu)良方法，但存在以下所述的問題。S卩，防塵薄膜組件框架的凹凸形狀必須配合所張設的防塵薄膜的張力分布形狀而 設計。然而，以量產方式生產的防塵薄膜的張力不可能經常保持一定，仍會產生些許差異。 因此，當薄膜張力比設計值更大時，防塵薄膜組件框架向內側的彎曲量會變大，相反的當較 小時，則原本設計好的向外側的突出量會有剩余。通常，考慮防塵薄膜所造成的彎曲或防塵 薄膜組件的貼合誤差等因素，防塵薄膜組件的內寸公差會相對于掩模等的曝光原版的圖案 部設定保持若干剩余，由于向外側的彎曲不可能排除機械性變形，故本來就不會考慮進去。 因此，當防塵薄膜組件框架向外側變形時，在防塵薄膜組件貼合裝置或曝光機內進行處理 時可能會產生互相干涉等的問題。另外，若利用上述專利文獻2所揭示的方法，則雖然薄膜張力朝較弱方向分散，而 向外側的突出量有剩余的可能性較小。然而，由于原本就將邊的兩端部設成以圓弧方式連 接的形狀，故無論突出量多小兩端部也都會留下圓弧形狀，嚴格來說仍不算是沒有突出的形狀。如上所述，希望能夠得到一種即使防塵薄膜張設前的形狀不是向外側突出的形 狀，防塵薄膜張設后彎曲量也很少的防塵薄膜組件框架。本發(fā)明所要解決的問題在于提供一種不會因為防塵薄膜的張力差異而產生不良 情況，且防塵薄膜張力所造成的彎曲很小的防塵薄膜組件框架，以及使用該防塵薄膜組件 框架的防塵薄膜組件。用于解決問題的方案本發(fā)明的上述問題，可利用以下的手段(1)以及(4)解決。較佳實施方案O)以 及(3)也一并列出。(1) 一種防塵薄膜組件框架，其特征為在框體彼此相對的至少一對的邊上，在邊 外側面的一部分設置從兩端部朝邊中點方向延伸的非貫通凹部，(2)如(1)所記載的防塵薄膜組件框架，其僅在一對長邊上設置該凹部，(3)如(1)所記載的防塵薄膜組件框架，其在所有的邊上設置該凹部，(4) 一種防塵薄膜組件，其在(1) C3)任一項記載的防塵薄膜組件框架上張設防 塵薄膜。發(fā)明的效果若利用本發(fā)明，則即使防塵薄膜組件框架的各邊的中央部的形狀為直線狀，通過 在框體彼此相對的至少一對的邊上在邊外側面的部分位置上設置多個從兩端部朝邊中點 方向延伸的非貫通凹部的作用，也能夠控制防塵薄膜張力所造成的防塵薄膜組件框架的彎 曲形狀。由此，比起沒有凹部而呈通常剖面形狀的防塵薄膜組件框架而言，若利用本發(fā)明便 能夠減少在防塵薄膜組件框架的邊中央部產生的最大彎曲量。結果，若利用本發(fā)明，則即使 防塵薄膜張設前的形狀不是朝外側突出的形狀，也能夠得到防塵薄膜張力所導致的彎曲量 很小的防塵薄膜組件。


圖1是表示本發(fā)明一實施方案的防塵薄膜組件的基本構造的示意性剖面圖。圖2是表示本發(fā)明一實施方案的防塵薄膜組件框架的示意圖。圖3是表示在本發(fā)明的防塵薄膜組件框架上張設防塵薄膜之后的彎曲形狀的示 意俯視圖。圖4是表示在一般矩形剖面的已知的防塵薄膜組件框架上張設防塵薄膜后的彎 曲形狀的示意俯視圖。圖5是表示在張設于防塵薄膜組件框架上之前的防塵薄膜的示意俯視圖。圖6是表示本發(fā)明另一實施方案的防塵薄膜組件框架的示意概略圖。圖7是表示在防塵薄膜組件框架上張設防塵薄膜所制得的防塵薄膜組件的最大 彎曲量的評價方法的示意概略圖。附圖標記說明1防塵薄膜2接合層4粘著層
5曝光原版6氣壓調整用孔(通氣口)7除塵用過濾器10防塵薄膜組件11防塵薄膜組件框架12 凹部21本發(fā)明的防塵薄膜組件框架22已知的防塵薄膜組件框架31暫用框架32防塵薄膜33防塵薄膜的張力(長邊中央)34防塵薄膜的張力(短邊中央)35防塵薄膜的張力(角落部)41防塵薄膜組件框架42 凹部43 凹部51防塵薄膜組件52 定盤53測隙規(guī)L 邊長1 長度A-A剖面線H 厚度D 寬度h 寬度d 深度da彎曲量db彎曲量
具體實施例方式以下，說明本發(fā)明的最佳實施方案，然而本發(fā)明并非以此為限。另外，本發(fā)明對用 于液晶制造用途且一邊長度超過500mm的大型防塵薄膜組件而言特別有效果，然而應用在 用于半導體用途且一邊在150mm左右的小型防塵薄膜組件也很有效，故其用途并無特別限定。首先，用圖1說明使用本發(fā)明的防塵薄膜組件框架所構成的防塵薄膜組件的基本 構造。圖1是表示使用本發(fā)明的防塵薄膜組件框架所構成的防塵薄膜組件的基本構造 的示意性剖面圖。如圖1所示的，防塵薄膜組件10在本發(fā)明的防塵薄膜組件框架11的上端面隔著防塵薄膜貼合用接合層2張設防塵薄膜1，此時，用來將防塵薄膜組件10粘著于曝光原版 (掩?；寤蚴浅蹩s掩模)5上的粘著層4設置在防塵薄膜組件框架11的下端面，該粘著層 4的下端面以可剝離的方式貼合著墊片(未圖示)。另外，在防塵薄膜組件框架11上設置 氣壓調整用孔(通氣口)6，也可更進一步設置以除去微粒作為目的的除塵用過濾器7。以下，用圖2 圖5說明本發(fā)明的防塵薄膜組件框架11的基本實施方案。圖2是表示本實施方案的防塵薄膜組件框架的示意圖。圖2(a)是表示本實施方案 的防塵薄膜組件框架的示意俯視圖，圖2(b)是從長邊側觀察圖2(a)所示的防塵薄膜組件 框架的側視圖，圖2 (c)是從短邊側觀察圖2 (a)所示的防塵薄膜組件框架的側視圖，圖2 (d) 是圖2(b)中的A-A線段的剖面放大圖。如圖2所示的，防塵薄膜組件框架11的整體形狀是大致為矩形的框體。在張設防 塵薄膜前，防塵薄膜組件框架11并無向外側突出的形狀，其長邊以及短邊的框架部分均為 幾乎直線狀。另外，防塵薄膜組件框架11的各角落部在外側以及內側均呈R狀。該防塵薄 膜組件框架11的大小與通常的防塵薄膜組件例如半導體光刻用防塵薄膜組件、大型液晶 顯示板制造光刻步驟用防塵薄膜組件等組件相同。另外，防塵薄膜組件框架11的各角落部無須外側以及內側均為R狀，也可其中一 側為R狀，但仍宜兩側均為R狀。另外，防塵薄膜組件框架11的剖面形狀是例如大致為矩形形狀，然而本發(fā)明除了 一般的矩形剖面的框架之外，也同樣可應用于具有高低差的形狀或傾斜面的梯形剖面等其 他剖面形狀的防塵薄膜組件框架，其效果與矩形形狀剖面相同。另外，也可對矩形形狀的基 本形狀的4個角，實施斜面倒角等的倒角加工。另外，防塵薄膜組件框架11的基材，可使用以往所使用的已知材料，除了尼龍、聚 縮醛、聚醚醚酮、聚酰亞胺等的工程塑膠之外，也可使用構造用鐵鋼、工具鋼、不銹鋼、鎂合 金等的構造用金屬，其中更宜使用鋁合金。在防塵薄膜組件框架11彼此相對的兩個長邊上，在長邊外側面的部分位置上設 置了從兩端部向長邊中間點延伸的非貫通凹部12。凹部12的剖面形狀可為矩形、梯形、三 角形或這些形狀的組合，然而從加工性、洗凈性的觀點來看，宜像本實施方案這樣底部設成 半圓形。另外，凹部12的外周圍方向的終端部，也可使用加工刀具，使其形成各種形狀，然 而如果從洗凈性的觀點來看，仍宜形成圓弧狀。另外，凹部12，如本實施方案所示的，也可包 含防塵薄膜組件框架11的角落部的R形形狀部分，也可回避設置角落部的R形形狀部分， 使其不包含該形狀。另外，比起邊內側面而言，凹部12宜更設置在邊外側面上。凹部12距離防塵薄膜組件框架11的長邊的兩端的距離，宜設置成從長邊的邊長 L的約1/4處到外側端部附近，更宜設置成從長邊的邊長L的約1/5處到外側端部附近，最 好設置成從長邊的邊長L的約1/10處到外側端部附近。在該等范圍內設置凹部12，便可發(fā) 揮所期望的效果。另外，就凹部12的長度1與防塵薄膜組件框架11的長邊的邊長L的關系而言，1/ L的值宜設定在0. 03 0. 25的范圍內，更宜設定在0. 05 0. 1的范圍內。另外，凹部12的寬度h宜設定為防塵薄膜組件框架11的厚度H的20 50%。另 外，凹部12的深度d可利用防塵薄膜組件框架11的彎曲形狀作適當調整，但宜設定在防塵薄膜組件框架11的寬度D的20 50%以下，而且，宜設定在5mm以下。將凹部12的寬度 h以及深度d設定在該等范圍內，以防止防塵薄膜組件框架11的高度方向的剛性降低太多， 避免在操作或貼合防塵薄膜組件時防塵薄膜組件框架11變形。另外，也可在設置凹部12的兩端部以外的位置設置額外的凹部，設置數(shù)量、位置、 剖面形狀、長度等，可在確認過防塵薄膜張設后的最后的彎曲形狀之后再適當調整[參照 后述的圖6(a)]。在防塵薄膜組件框架11彼此相對的一對長邊上，在長邊外側面的部分位置上設 置從兩端部向長邊中間點延伸的非貫通凹部12。通過該凹部12，便能夠控制防塵薄膜張設 后的防塵薄膜組件框架11的彎曲形狀。另外，凹部12雖是為了控制防塵薄膜張設后的防 塵薄膜組件框架11的彎曲形狀這個目的而設置的，然而也可對其插入用來操作防塵薄膜 組件的工具等。因此，對于凹部12的剖面形狀或位置而言，除了考慮到防塵薄膜組件框架 11的彎曲形狀之外，更宜考慮到這些工具，再作出通盤的決定。圖3以及圖4分別是防塵薄膜張設后防塵薄膜組件框架的彎曲形狀的示意俯視 圖。若對防塵薄膜組件框架張設防塵薄膜，則如圖3以及圖4所示的，防塵薄膜組件 框架會因為防塵薄膜的張力而向內側彎曲。在此，圖3是表示本發(fā)明的防塵薄膜組件框架 21(圖2所示的防塵薄膜組件框架11)在防塵薄膜張設后的彎曲形狀。另一方面，圖4是 表示一般矩形剖面的已知防塵薄膜組件框架22在防塵薄膜張設后的彎曲形狀。另外，圖4 所示的已知防塵薄膜組件框架22，本身的形狀與圖2所示的本發(fā)明的防塵薄膜組件框架21 相同，與本發(fā)明的防塵薄膜組件框架21不同之處在于并未設置凹部，剖面形狀是一般的矩 形剖面。在圖4所示的剖面形狀為一般矩形剖面的已知形狀，防塵薄膜組件框架的彎曲形 狀為圓弧狀，各邊中央部位的彎曲程度為最大，其值設為db。相對于此，在圖3所示的設置 有凹部的本發(fā)明的方案中，就防塵薄膜組件框架的彎曲形狀而言，各邊中央部位的彎曲程 度為最大，此點相同，其值設為da，但與其說是圓弧狀，不如說是直線狀，長邊整體形成梯形 的彎曲形狀。如此利用本發(fā)明，便可讓最大彎曲量減少。圖5是表示張設到防塵薄膜組件框架上之前的防塵薄膜的概略俯視圖。一般而 言，防塵薄膜是成膜于玻璃基板上，在利用加熱機構除去溶劑之后，接合于暫用框架31上， 將其剝離。此時，防塵薄膜32上會產生因為薄膜材料與成膜基板的熱膨張系數(shù)不同所造成 的張力33、34、35。因此，暫用框架31會被該張力33、34、35往中心方向拉，暫用框架31的 各邊的中央部位附近會產生彎曲。此時，各邊的中央部位的張力33、34會形成對應所產生 的彎曲量而減少的狀態(tài)。另一方面，由于暫用框架31的角落部位的附近區(qū)域的剛性比邊長 的中央部位的剛性更高，故彎曲量較少，結果，其附近的張力35仍維持在比較高的狀態(tài)。若將張力產生高低差異的防塵薄膜張設于本發(fā)明的防塵薄膜組件框架上，則防塵 薄膜張力較高的角落附近的部位，會與防塵薄膜組件框架設有凹部的而剛性較低的部位組 合。因此，該部位的彎曲量，會比通常矩形剖面的框架更大。然而，該部分大幅彎曲可減少 施加于本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的所有邊上的張力。另外，邊中央附近張力較低的部位， 反而由剛性較高的部位承受，所以邊中央附近的彎曲形狀會變成接近直線狀，結果便能夠 降低最大彎曲量。如此利用本發(fā)明，便能夠制得防塵薄膜張力所導致的彎曲較小的防塵薄膜組件。另外，如上所述，所述凹部的配置除了各邊的兩端部之外，也可因應需要，增設于 其他位置上。然而，若是沿著整個邊長連續(xù)設置的話，只會單純的讓該邊整體的剛性降低。 因此，凹部的追加配置，宜考慮防塵薄膜組件框架的剛性。在本發(fā)明中，不要沿著整個邊長 連續(xù)設置，而是在部分位置上設置凹部，便能夠防止防塵薄膜組件框架整體剛性降低。用圖6說明一邊回避整體剛性降低一邊在其他位置增設凹部的另一實施方案。圖6是本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的另一個實施方案的示意俯視圖。圖6(a)是 本實施方案的防塵薄膜組件框架的示意俯視圖，圖6(b)是從長邊側觀察圖6(a)所示的防 塵薄膜組件框架的概略側視圖，圖6(c)是從短邊側觀察圖6(a)所示的防塵薄膜組件框架 的概略側視圖。如圖6所示的，在防塵薄膜組件框架41彼此相對的兩個長邊上，與圖2所示的方 案相同，在長邊外側面的部分位置上設置從兩端部向長邊中間點延伸的非貫通凹部42。另外，圖6所示的實施方案，在防塵薄膜組件框架41彼此相對的兩個短邊上，在短 邊外側面的部分位置上，也設置從兩端部向短邊中間點延伸的非貫通凹部43。如此，也可在防塵薄膜組件框架的所有邊，即短邊與長邊雙方，在外側面上的部分 位置上設置凹部。此時，凹部并非沿著整個邊上連續(xù)設置，而是在短邊與長邊雙方的部分位 置上設置，故能夠避免上述整體剛性降低的問題。另外，上述是針對在防塵薄膜組件框架彼此相對的一對長邊的兩端部，或是彼此 相對的一對長邊的兩端部以及彼此相對的一對短邊的兩端部的附近設置凹部的情況進行 說明，然而只要至少在彼此相對的2邊的兩端部和/或其附近設置凹部即可。S卩，只要在防 塵薄膜組件框架彼此相對的至少一對邊上，在邊外側面的部分位置上設置從兩端部朝邊中 點方向延伸的非貫通凹部即可。[實施例]以下根據實施例對本發(fā)明作具體的例示說明，然而本發(fā)明并非以此為限。(實施例)利用機械加工制作出如圖2所示的形狀的鋁合金制防塵薄膜組件框架11。 該防塵薄膜組件框架11的形狀，是各角落部的外寸為1068mmX15^mm，同部內寸為 1031mmX 1490mm的長方形，厚度H為6. 2mm,各角落部的大小在內側為R2，外側為R6。在此， 在長邊的兩端部上，如圖2(a) 圖2(d)所示的，沿著長度1 = 65mm設置寬度h = 2.4mm、 深度d = 4. Omm且最深部的半徑為1. 2mm的凹部12。將該防塵薄膜組件框架11洗凈、待其干燥后，在一方端面上涂布硅氧粘著劑作為 防塵薄膜接合劑，在另一方端面上涂布信越化學工業(yè)(股)公司制的硅氧粘著劑(商品名 KR3700)作為掩模粘著劑，然后加熱使其固化。然后，將旭硝子(股)公司制的氟系聚合物(商品名Cytop)以狹縫與旋轉式涂 布法在寬度1620mmX長度1780mmX厚度17mm的長方形石英基板上成膜，然后與形狀跟基 板外形相同的框體接合，將其剝離，接著將所得到的厚度約6μπι的防塵薄膜貼合于該防塵 薄膜組件框架11上。然后，將防塵薄膜組件框架11周圍不要的薄膜用切割器切斷除去，便 完成防塵薄膜組件。如圖7所示的，將完成的防塵薄膜組件51立在鑄鐵制的定盤52上，利用測隙規(guī)539測量長邊中央的彎曲量，得到2. Omm0另外，從側邊觀察彎曲形狀，發(fā)現(xiàn)完全沒有從框架直線 形狀突出的部分。(比較例)制作外形形狀與上述實施例完全相同，但角落部附近沒有凹部12的防塵薄膜組 件框架，并完成防塵薄膜組件。以與上述同樣的方式測量所完成的防塵薄膜組件的長邊的 彎曲量，發(fā)現(xiàn)在長邊中央部的彎曲量為3. 4mm，數(shù)值比上述實施例更大。
權利要求
1.一種防塵薄膜組件框架，其特征為在框體彼此相對的至少一對的邊上，在邊外側 面的一部分設置從兩端部朝邊中點方向延伸的非貫通凹部。
2.根據權利要求1所述的防塵薄膜組件框架，其中，僅在一對長邊上設置該凹部。
3.根據權利要求1所述的防塵薄膜組件框架，其中，在所有的邊上設置該凹部。
4.一種防塵薄膜組件，其特征為在根據權利要求1 3中任一項的防塵薄膜組件框 架上張設防塵薄膜。
全文摘要
本發(fā)明提供一種防塵薄膜組件框架及防塵薄膜組件，所述防塵薄膜組件框架不會因為防塵薄膜的張力差異而產生不良情況且防塵薄膜張力所造成的彎曲較小，所述防塵薄膜組件使用該防塵薄膜組件框架。根據本發(fā)明，在框體彼此相對的至少一對的邊上，在邊外側面的部分位置上設置從兩端部朝邊中點方向延伸的非貫通凹部的防塵薄膜組件框架，以及在該防塵薄膜組件框架上張設防塵薄膜的防塵薄膜組件，其中更宜僅在一對長邊上設置該凹部，或者是在所有的邊上設置該凹部。
文檔編號H01L21/027GK102053483SQ20101029054
公開日2011年5月11日 申請日期2010年9月20日 優(yōu)先權日2009年10月30日
發(fā)明者關原一敏 申請人:信越化學工業(yè)株式會社