技術(shù)編號(hào):9480361
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及,屬環(huán)境功能材料制備。背景技術(shù)分子印跡是制備具有預(yù)定識(shí)別功能結(jié)合位點(diǎn)三維交聯(lián)高分子的技術(shù),制備的分子印跡聚合物能對(duì)模板分子進(jìn)行選擇性地識(shí)別并且高效吸附分離;表面分子印跡技術(shù)通過(guò)把分子識(shí)別位點(diǎn)建立在基質(zhì)材料的表面,當(dāng)分子印跡聚合物用于吸附分離模板分子時(shí),基于這些“記憶”孔穴識(shí)別位點(diǎn)會(huì)專一性地鍵合模板分子,從而表現(xiàn)出高度的特異選擇性。較好的解決了傳統(tǒng)分子印跡技術(shù)整體還存在的一些嚴(yán)重缺陷,如活性位點(diǎn)包埋過(guò)深,傳質(zhì)和電荷傳遞的動(dòng)力學(xué)速率慢,吸附-脫附的動(dòng)...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。