技術(shù)編號：9374328
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。將掩模圖案轉(zhuǎn)印到基板上的曝光裝置是在半導(dǎo)體器件等的制造步驟(光刻步驟)中要使用的裝置之一。在曝光裝置中，全局對準(zhǔn)方法一般用作掩模與基板之間的對準(zhǔn)的方法。在全局對準(zhǔn)方法中，通過檢測在基板上形成的某些代表性的投射區(qū)域(樣本投射區(qū)域(sample shot reg1n))的位置并且使用通過統(tǒng)計處理檢測結(jié)果而獲得的并且用作基板上的所有投射區(qū)域中的公共指標(biāo)(index)的指標(biāo)，來執(zhí)行對準(zhǔn)。為了增加產(chǎn)量，日本專利公開N0.2005-217092已提出確定樣本投射區(qū)域的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。