技術(shù)編號(hào)：9315265
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 隨著現(xiàn)代光學(xué)、電子學(xué)、薄膜科學(xué)及航空航天等科學(xué)的飛速發(fā)展，光學(xué)元件及功能 元件的形狀越來越復(fù)雜，表面質(zhì)量的要求也越來越苛刻，超光滑表面的應(yīng)用也越來越高。超 光滑表面除了面形精度和表面粗糙度要求極高以外，還要求表面有完好的晶格結(jié)構(gòu)、無缺 陷，能消除加工損傷層。1998年，荷蘭Delft大學(xué)的F&hn Ie首先利用了 FJP技術(shù)，并將其 用在了光學(xué)元件的表面拋光上并獲得了 I. 6nm的表面粗糙度，顯示出FJP的超光滑表面加 工能力。此后，越來越多的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。