技術(shù)編號：90927
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于物理氣相沉積。在已有技術(shù)中，離子鍍是在真空條件下使鍍膜材料蒸發(fā)為金屬蒸氣，在蒸發(fā)源和工件間加一直流電壓(工件為陰極)，使工件與蒸發(fā)源之間產(chǎn)生輝光放電，金屬蒸氣原子在輝光放電電場中被電離為金屬正離子(Me+)，該金屬正離子在電場作用下高速飛向工件表面，并在工件表面上沉積結(jié)晶而形成膜。由于真空潔凈作用，離子清洗及高能粒子的注入和濺射作用，使得離子鍍的鍍膜與基體的附著力和致密度都遠優(yōu)于一般真空鍍膜(真空蒸鍍膜與真空濺射膜)和電鍍膜。但上述離子鍍技術(shù)所采用的蒸發(fā)源為點狀熱蒸發(fā)源和一般真空濺射源。前一種離子鍍技術(shù)不...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。