技術(shù)編號：8460211
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利說明穩(wěn)定的金屬化合物、"S們的組合物W及"S們的使用方法 發(fā)明領(lǐng)域 本發(fā)明設(shè)及具有改善的穩(wěn)定性的可溶性多配體取代金屬化合物W及由它們制得 的組合物和它們的使用方法。[000引發(fā)明背景 金屬氧化物膜可用于半導(dǎo)體行業(yè)中的多種應(yīng)用，如光刻硬掩膜、抗反射涂層的襯 層和電-光器件。 作為實(shí)例，光致抗蝕劑組合物用于顯微光刻法，W便制造微型電子元件，如在制造 計(jì)算機(jī)巧片和集成電路中。通常，將光致抗蝕劑組合物的薄涂層施加至基底上，如用于制造 集成電路的娃基晶片上。隨后...
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