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具有基于陽離子的導(dǎo)電氧化物元件的低電壓嵌入式存儲器的制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:8435981

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在過去的幾十年里,集成電路中的特征的縮放已經(jīng)是不斷成長的半導(dǎo)體工業(yè)背后的驅(qū)動力??s放到越來越小的特征使得能夠增大半導(dǎo)體芯片的有效不動產(chǎn)上的功能單元的密度。例如,縮小晶體管尺寸允許芯片上包含的存儲器器件的數(shù)量增加,實現(xiàn)具有更大容量的產(chǎn)品的制造。然而,對于越來越大容量的驅(qū)動并不是沒有問題。對每個器件的性能進行最優(yōu)化的必要性變得越發(fā)顯著。嵌入式SRAM和DRAM具有非易失性和軟錯誤率的問題,而嵌入式閃速存儲器在制造期間需要額外的掩模層或處理步驟,需要高電壓進行編...
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