技術(shù)編號(hào)：84194
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及。 本申請(qǐng)主張以2004年8月3日向日本申請(qǐng)的特愿2004-226735號(hào)為基礎(chǔ)的優(yōu)先權(quán)，在這里引用其內(nèi)容。 背景技術(shù)近年來(lái)，在半導(dǎo)體元件或液晶表示元件的制造中，隨著平版印刷術(shù)技術(shù)的進(jìn)步，圖案的微細(xì)化在急速發(fā)展。作為微細(xì)化的方法，通常進(jìn)行曝光光源的短波長(zhǎng)化。具體而言，以前使用以g射線、i射線為代表的紫外線，目前，使用了KrF激元激光器或ArF激元激光器的半導(dǎo)體元件的批量生產(chǎn)正在開(kāi)始。另外，對(duì)于比這些激元激光波長(zhǎng)更短的F2激元激光、電子射線、遠(yuǎn)紫外線或X射線等進(jìn)行研究。 另外，作為滿足可以再現(xiàn)微...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。