技術(shù)編號(hào)：8392691
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及真空鍍膜生產(chǎn)線領(lǐng)域，具體說(shuō)，是涉及一種真空鍍膜生產(chǎn)線用的可調(diào)式裝片裝置。背景技術(shù)鍍膜生產(chǎn)線中磁控濺射是為了再低氣壓下進(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。通過(guò)在粑陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以提高濺射率的方法，而在鍍膜中就需要特殊的裝片裝置固定基片。基片的大小不定，通常需要依據(jù)基片的大小建立基片架。目前市場(chǎng)上使用的裝片裝置為一種基片架，基片預(yù)設(shè)安裝在基片架上，如專利號(hào)為201320051676.4的一種可調(diào)基片...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。